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전도성 투명 기판을 준비하는 단계;상기 전도성 투명 기판 상에 고분자 콜로이드 용액을 도포하여 고분자 콜로이드 자기조립 결정층을 형성하는 단계;상기 고분자 콜로이드 자기조립 결정층 내로 전이금속 산화물 전구체 용액을 주입한 후 스핀 코팅을 수행하고 건조하는 단계;상기 고분자 콜로이드 자기조립 결정층을 소결하여 제거함으로써 다공성 전이금속 산화물층을 형성하는 단계; 및,상기 다공성 전이금속 산화물층에 감광성 염료를 흡착시키는 단계:를 포함하는, 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 고분자 콜로이드 자기조립 결정층을 형성하기 전에 상기 전도성 투명 기판 상에 차단층을 형성하는 것을 추가 포함하는, 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 고분자 콜로이드 용액은 폴리스타이렌(PS), 폴리메틸메싸크릴레이트(PMMA), 폴리스타이렌/폴리디비닐벤젠 (PS/DVB = polystyrene/divinylbenzene), 폴리아미드, 폴리(부틸메타크릴레이트-디비닐벤젠) (PBMA), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 고분자 콜로이드 입자가 물과 알코올의 혼합 용매 중에 분산된 것인, 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 전도성 투명 기판 상에 고분자 콜로이드 용액을 도포하는 것은 스핀 코팅 또는 캐스팅 방법에 의하여 수행되는 것인, 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법
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제 4 항에 있어서,상기 스핀 코팅의 속도를 조절하거나 또는 상기 캐스팅 방법의 수행 시 사용되는 상기 고분자 콜로이드 용액의 양을 조절함으로써 상기 고분자 콜로이드 자기조립 결정층의 두께가 조절되는 것인, 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 고분자 콜로이드 자기조립 결정층 내로 상기 전이금속 산화물 전구체 용액을 주입할 때 상기 전도성 투명 기판을 진공으로 고정하는 것을 포함하는, 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 소결은 400℃ 내지 550℃의 온도에서 수행되는 것인, 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 전이금속 산화물은 Ti, Zr, Sr, Zn, In, Yr, La, V, Mo, W, Sn, Nb, Mg, Al, Y, Sc, Sm, Ga 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 전이금속의 산화물인, 염료감응 태양전지용 광전극의 제조 방법
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광전극, 상기 광전극에 대향되는 상대 전극, 및 상기 두 개의 전극 사이에 위치하는 전해질을 포함하는 염료감응 태양전지에 있어서,제 1 항 내지 제 5 항, 및 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조된 광전극을 포함하며, 상기 광전극은 전도성 투명 기판, 및 상기 전도성 투명 기판 상에 형성된 감광성 염료가 흡착된 다공성 전이금속 산화물층을 포함하는 것임을 특징으로 하는, 염료감응 태양전지
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