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(a) 투명막의 표면에 광파장 이하의 주기로 배치되는 격자 패턴을 갖는 격자 패턴층을 형성하는 단계;(b) 상기 투명막의 표면을 상기 격자 패턴이 제거될 때까지 식각하여, 상기 투명막의 표면에 광파장 이하의 주기로 배치되는 미세 격자 시드(seed)를 형성하는 단계; 및(c) 상기 투명막과 같은 물질을 상기 미세 격자 시드에 증착하여 상기 투명막 상에 상기 미세 격자 시드보다 크고 광파장 이하의 주기로 배치되는 무반사 광파장 이하의 격자 미세 구조물을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 무반사 광파장 이하의 격자 미세 구조물의 형성방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계는 상기 무반사 광파장 이하의 격자 미세 구조물을 파라볼라(parabola)형으로 형성하는 것을 특징으로 하는 무반사 광파장 이하의 격자 미세 구조물의 형성방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 (c) 단계는 상기 투명막과 같은 물질의 타겟을 이용하여 상기 투명막과 같은 물질을 상기 미세 격자 시드에 증착하는 스퍼터링 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 무반사 광파장 이하의 격자 미세 구조물의 형성방법
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제 3 항에 있어서,상기 스퍼터링 공정은 상기 투명막을 회전시키면서 상기 타겟에서 스퍼터링된 입자를 상기 투명막의 표면에 비스듬히 입사시켜 상기 미세 격자 시드에 증착하는 것을 특징으로 하는 무반사 광파장 이하의 격자 미세 구조물의 형성방법
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계는 홀로그램 리소그래피, 전자빔 리소그래피, 나노임프린트 리소그래피 중에서 선택된 방법으로 상기 투명막의 표면에 상기 격자 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 무반사 광파장 이하의 격자 미세 구조물의 형성방법
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제 1 항에 있어서,상기 투명막은 AZO를 포함하는 것을 특징으로 하는 무반사 광파장 이하의 격자 미세 구조물의 형성방법
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(a) 기판 위에 투명막을 적층하는 단계;(b) 상기 투명막의 표면에 광파장 이하의 주기로 배치되는 격자 패턴을 갖는 격자 패턴층을 형성하는 단계;(c) 상기 격자 패턴을 포함하는 상기 투명막의 표면을 상기 격자 패턴이 제거될 때까지 식각하여, 상기 투명막의 표면에 광파장 이하의 주기로 배치되는 미세 격자 시드(seed)를 형성하는 단계; 및(d) 상기 투명막과 같은 물질을 상기 미세 격자 시드에 증착하여 상기 투명막 상에 상기 미세 격자 시드보다 크고 광파장 이하의 주기로 배치되는 무반사 광파장 이하의 격자 미세 구조물을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 무반사층을 갖는 광소자의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 (d) 단계는 상기 무반사 광파장 이하의 격자 미세 구조물을 파라볼라(parabola)형으로 형성하는 것을 특징으로 하는 무반사층을 갖는 광소자의 제조방법
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제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,상기 (d) 단계는 상기 투명막과 같은 물질의 타겟을 이용하여 상기 투명막과 같은 물질을 상기 미세 격자 시드에 증착하는 스퍼터링 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 무반사층을 갖는 광소자의 제조방법
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제 9 항에 있어서,상기 스퍼터링 공정은 상기 투명막을 회전시키면서 상기 타겟에서 스퍼터링된 입자를 상기 투명막의 표면에 비스듬히 입사시켜 상기 미세 격자 시드에 증착하는 것을 특징으로 하는 무반사층을 갖는 광소자의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 (a) 단계는 홀로그램 리소그래피, 전자빔 리소그래피, 나노임프린트 리소그래피 중에서 선택된 방법으로 상기 투명막의 표면에 상기 격자 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 무반사층을 갖는 광소자의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 투명막은 AZO를 포함하는 것을 특징으로 하는 무반사층을 갖는 광소자의 제조방법
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