| 1 |
1
1) 처리대상 질소산화물 오염공기에서 수분을 제거하는 단계;
2) 수분이 제거된 질소산화물 오염공기를 오존과 접촉시켜 오염공기 내 일산화질소(NO)를 이산화질소(NO2)로 산화시키는 단계; 및
3) 잔여 오존을 촉매와 반응시켜 산소라디칼을 발생시키고, 이와 동시에 발생된 산소라디칼을 단계 2)를 거친 질소산화물 오염공기와 반응시켜 오염공기 내 이산화질소(NO2)를 질산기(NO3-)로 산화시키는 단계를 포함하고,
상기 단계 2)에서 오존이 화학양론비(stoichiometric ratio)로 처리하고자 하는 질소산화물 오염공기 내 일산화질소(NO) 농도의 2배 농도와 이산화질소(NO2) 농도와 동일한 농도의 합에 해당하는 농도 이상으로 공급되는,
오존과 촉매 하이브리드 시스템을 이용한 질소산화물의 처리방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,
단계 1)에서 질소산화물 오염공기의 수분 함량이 0
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,
단계 2)에서 오존이 자외선램프, 무성방전 및 저온 플라즈마로 구성된 군으로부터 선택되는 장치를 이용하여 발생되는 것을 특징으로 하는 질소산화물의 처리방법
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,
단계 3)에서 촉매가 산화망간(MnO2), 산화니켈(NiO), 산화코발트(CoO), 산화구리(CuO), 산화철(Fe2O3) 산화바나듐(V2O5) 및 산화은(AgO2)으로 구성된 군으로부터 선택되는 금속 산화물 촉매인 것을 특징으로 하는 질소산화물의 처리방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,
단계 3)에서의 반응이 0 내지 100℃의 온도 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 질소산화물의 처리방법
|
| 7 |
7
질소산화물 오염공기의 수분을 제거하는 수분제거기,
오존을 발생시키는 오존발생기,
상기 수분이 제거된 질소산화물 오염공기와 상기 오존발생기로부터 공급된 오존을 반응시켜 상기 오염공기 내 일산화질소(NO)를 이산화질소(NO2)로 산화시키는 오존 반응챔버, 및
상기 오존 반응챔버로부터 질소산화물 오염공기 및 잔여 오존이 이송되어 상기 오존이 촉매에 의해 산소라디칼로 분해되고, 상기 오염공기 내 이산화질소(NO2)가 생성된 산소라디칼과 반응하여 질산기(NO3-)로 산화되는 촉매 반응챔버를 포함하고,
상기 오존 반응챔버에 오존이 화학양론비(stoichiometric ratio)로 처리하고자 하는 질소산화물 오염공기 내 일산화질소(NO) 농도의 2배 및 이산화질소(NO2) 농도의 합에 해당하는 농도 이상으로 공급되는,
오존과 촉매 하이브리드 시스템을 이용한 질소산화물의 처리장치
|
| 8 |
8
제7항에 있어서,
상기 수분제거기에서 질소산화물 오염공기의 수분 함량이 0
|
| 9 |
9
제7항에 있어서,
상기 수분제거기에 실리카겔이 충진되어 있거나, 또는 건조기가 장착되어 있는 것을 특징으로 하는 질소산화물의 처리장치
|
| 10 |
10
제7항에 있어서,
상기 오존발생기가 자외선램프, 무성방전 및 저온 플라즈마로 구성된 군으로부터 선택되는 장치인 것을 특징으로 하는 질소산화물의 처리장치
|
| 11 |
11
삭제
|
| 12 |
12
제7항에 있어서,
상기 촉매 반응챔버에 산화망간(MnO2), 산화니켈(NiO), 산화코발트(CoO), 산화구리(CuO), 산화철(Fe2O3) 산화바나듐(V2O5) 및 산화은(AgO2)으로 구성된 군으로부터 선택되는 금속 산화물 촉매가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 질소산화물의 처리장치
|
| 13 |
13
제7항에 있어서,
상기 처리장치가 습식 스크러버(scrubber)를 추가로 포함하여 상기 촉매 반응챔버로부터 배출되는 공기 내 질산기(NO3-)를 물과 반응시켜 질산(HNO3) 형태로 제거하는 것을 특징으로 하는 질소산화물의 처리장치
|
