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발광 다이오드 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014041543
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 발광 다이오드가 개시된다. 상기 발광 다이오드는 기판 상에 순차적으로 형성된 버퍼층, 제 1 클래드층, 활성층 및 제 2 클래드층을 포함하고, 상기 기판, 상기 버퍼층, 상기 제 1 클래드층, 상기 활성층 및 상기 제 2 클래드층의 사이의 계면에 제공되고 그 하부의 물질을 노출하는 금속 패턴이 제공된다.
Int. CL H01L 33/20 (2014.01) H01L 33/04 (2014.01)
CPC H01L 33/22(2013.01) H01L 33/22(2013.01)
출원번호/일자 1020100006036 (2010.01.22)
출원인 영남대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1140140-0000 (2012.04.19)
공개번호/일자 10-2011-0086354 (2011.07.28) 문서열기
공고번호/일자 (20120502) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.01.22)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 영남대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 경산시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오지원 대한민국 경상북도 경산시 백양로
2 박일규 대한민국 경상북도 경산시 대학로**길 *
3 박시현 대한민국 경상북도 경산시 삼풍로 **-
4 장자순 대한민국 대구광역시 수성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오세준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)(특허법인 고려)
2 권혁수 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(삼일빌딩, 역삼동)(KS고려국제특허법률사무소)
3 송윤호 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 *** (역삼동) *층(삼일빌딩)(케이에스고려국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 영남대학교 산학협력단 경상북도 경산시
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2010-0045088-22
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.04.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.05.17 수리 (Accepted) 9-1-2011-0042324-87
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.06.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0313126-15
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.07.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0541587-39
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.07.14 수리 (Accepted) 1-1-2011-0541586-94
7 등록결정서
Decision to grant
2012.02.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0096069-65
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2014-5029868-88
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.03.26 수리 (Accepted) 4-1-2014-5037590-23
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2017-5175631-14
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5220555-67
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판;상기 기판 상의 버퍼층;상기 버퍼층 상의 제 1 클래드층;상기 제 1 클래드층 상의 활성층; 상기 활성층 상의 제 2 클래드층; 및 상기 기판, 상기 버퍼층, 상기 제 1 클래드층, 상기 활성층 및 상기 제 2 클래드층을 포함하는 그룹의 층들 사이의 적어도 하나의 계면, 또는 상기 버퍼층, 상기 제 1 클래드층, 상기 활성층 또는 상기 제 2 클래드층의 내부에 제공되고, 그 하부의 물질을 노출하는 금속 패턴을 포함하고,상기 금속 패턴은 상부 표면에서 요철구조를 갖는 금속막인 발광 다이오드
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 기판은 사파이어, GaN, GaAs, SiC, Si 또는 GaP를 포함하는 발광 다이오드
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 클래드층 및 상기 제 2 클래드층은 GaN 또는 InGaAlP를 포함하는 발광 다이오드
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 금속 패턴은 Ag, Al, Au, Pd, Pt, Ni, Zn, Mo, W, Cr, Ti, Rh, Eu, Pr 또는 Mn을 포함하는 발광 다이오드
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 금속 패턴은 상기 버퍼층, 상기 제 1 및 제 2 클래드층 및 상기 활성층의 성장 온도 보다 높은 녹는 온도를 갖는 금속을 포함하는 발광 다이오드
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 금속 패턴은 고융점 금속을 포함하는 발광 다이오드
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 금속 패턴의 두께는 수 옹스트르롱 내지 수백 나노미터인 발광 다이오드
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 금속 패턴은 서로 분리된 금속 아일랜드들인 발광 다이오드
9 9
삭제
10 10
기판 상에 버퍼층, 제 1 클래드층, 활성층, 및 제 2 클래드층을 순차적으로 형성하고; 그리고상기 기판, 상기 버퍼층, 상기 제 1 클래드층, 상기 활성층 및 상기 제 2 클래드층을 포함하는 그룹의 층들 사이의 적어도 하나의 계면, 또는 상기 버퍼층, 상기 제 1 클래드층, 상기 활성층 또는 상기 제 2 클래드층의 내부에, 그 하부의 물질층을 노출하는 금속 패턴을 형성하는 것을 포함하고,상기 금속 패턴을 형성하는 것은,상기 기판, 상기 버퍼층, 상기 제 1 클래드층, 상기 활성층 또는 상기 제 2 클래드층 상에, 금속막을 형성하고; 그리고산을 포함하는 가스 분위기에서 상기 금속막의 상부 표면을 부식 처리하여, 상기 금속막의 상부 표면에 요철구조를 형성하는 것을 포함하는 발광 다이오드 제조방법
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 기판은 사파이어, GaN, GaAs, SiC, Si 또는 GaP를 포함하는 발광 다이오드 제조방법
12 12
제 10 항에 있어서, 상기 금속 패턴을 형성하는 것은,상기 기판, 상기 버퍼층, 상기 제 1 클래드층, 상기 활성층 또는 상기 제 2 클래드층 상에, 금속막을 형성하고; 그리고상기 금속막을 열처리하여, 나노 사이즈의 서로 분리된 금속 아일랜드들을 형성하는 것을 포함하는 발광 다이오드 제조방법
13 13
제 12 항에 있어서, 상기 금속 아일랜드들을 형성한 후, 상기 금속 아일랜드들과 접촉하는 상기 물질층과 동일한 물질의 층을 추가적으로 형성하여, 상기 금속 아일랜드들이 상기 물질의 층 내부에 함유되도록 하는 것을 더 포함하는 발광 다이오드 제조방법
14 14
제 12 항에 있어서, 상기 금속막을 형성하는 것은, 유기금속증착 방법 또는 ALD 방법을 사용하는 것을 포함하는 발광 다이오드 제조방법
15 15
제 12 항에 있어서, 상기 금속막을 열처리하는 것은,환원 분위기에서 상기 버퍼층, 상기 제 1 및 제 2 클래드층 및 상기 활성층의 성장 온도보다 낮은 온도에서 수행되는 것을 포함하는 발광 다이오드 제조방법
16 16
제 12 항에 있어서, 상기 금속막을 열처리하는 것은, 후속의 층 형성을 위한 온도의 열에 의하여 수행되는 발광 다이오드 제조방법
17 17
삭제
18 18
제 10 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 패턴 상부의 층은, 상기 금속 패턴이 존재하는 상태에서 상기 금속 패턴에 의하여 노출된 상기 물질층으로부터 성장되는 발광 다이오드 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 영남대학교 산학협력단 산업기술융합산업원천기술개발 LED-IT 융합산업화 연구센터지원사업