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RF 전원에 연결되고 플라즈마 챔버에 삽입되는 직선형의 안테나;
상기 안테나의 둘레에 배치되는 절연 자켓; 및
상기 안테나와 상기 절연 자켓 사이에 개재된 보상 구조체를 포함하고,
상기 안테나는 상기 플라즈마 챔버의 내부에 플라즈마를 형성하고, 상기 안테나와 상기 플라즈마는 축전기를 형성하고, 상기 축전기의 단위 길이 당 정전용량은 상기 안테나의 길이 방향에 따라 변하고,
상기 안테나는 서로 다른 외경을 가진 안테나 링들을 포함하고,
상기 안테나 링들은 서로 나사 결합하고, 상기 안테나의 외경은 상기 안테나의 길이 방향에 따라 계단 형상으로 변하고,
상기 보상 구조체는 복수의 보상 링들을 포함하고, 상기 보상 링들의 외경은 일정하고, 상기 보상 링들의 내경은 위치에 따라 다르고, 상기 보상 구조체는 절연성 물질인 것을 특징으로 하는 내부 안테나 구조체
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RF 전원에 연결되고 플라즈마 챔버에 삽입되는 직선형의 안테나;
상기 안테나의 둘레에 배치되는 절연 자켓; 및
상기 안테나와 상기 절연 자켓 사이에 개재된 보상 구조체를 포함하고,
상기 안테나는 상기 플라즈마 챔버의 내부에 플라즈마를 형성하고, 상기 안테나와 상기 플라즈마는 축전기를 형성하고, 상기 축전기의 단위 길이 당 정전용량은 상기 안테나의 길이 방향에 따라 변하고,
상기 안테나의 외경은 일정하고,
상기 보상 구조체는 상기 안테나의 길이 방향에 따라 변하는 단위 길이 당 유전율을 가지고,
상기 보상 구조체는 복수의 보상 링들을 포함하고, 상기 보상 링들은 일정한 외경 및 내경을 가지고 위치에 따라 다른 유전율을 가지는 것을 특징으로 하는 내부 안테나 구조체
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제 1항 또는 제2 항에 있어서,
상기 안테나의 내부로 냉각수가 흐르는 것을 특징으로 하는 내부 안테나 구조체
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제 1항 또는 제2 항에 있어서,
상기 정전용량은 상기 안테나의 전압의 절대값이 최대인 위치에서 최소인 것을 특징으로 하는 내부 안테나 구조체
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제 1항 또는 제2 항에 있어서,
상기 안테나의 내경은 일정한 것을 특징으로 하는 내부 안테나 구조체
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플라즈마 챔버;
RF 전원에 연결되고 플라즈마 챔버에 삽입되는 직선형의 안테나;
정현파의 구동 주파수를 가지고 상기 안테나에 전력을 공급하는 RF 전원;
상기 안테나의 둘레에 배치되는 절연 자켓; 및
상기 안테나와 상기 절연 자켓 사이에 개재된 보상 구조체를 포함하고,
상기 안테나는 상기 플라즈마 챔버의 내부에 플라즈마를 형성하고, 상기 안테나와 상기 플라즈마는 축전기를 형성하고, 상기 축전기의 단위 길이 당 정전용량은 상기 안테나의 길이 방향에 따라 변하고,
상기 안테나는 서로 다른 외경을 가진 안테나 링들을 포함하고,
상기 안테나 링들은 서로 나사 결합하고, 상기 안테나의 외경은 상기 안테나의 길이 방향에 따라 계단 형상으로 변하고,
상기 보상 구조체는 복수의 보상 링들을 포함하고, 상기 보상 링들의 외경은 일정하고, 상기 보상 링들의 내경은 위치에 따라 다르고, 상기 보상 구조체는 절연성 물질인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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7 |
7
플라즈마 챔버;
RF 전원에 연결되고 플라즈마 챔버에 삽입되는 직선형의 안테나;
정현파의 구동 주파수를 가지고 상기 안테나에 전력을 공급하는 RF 전원
상기 안테나의 둘레에 배치되는 절연 자켓; 및
상기 안테나와 상기 절연 자켓 사이에 개재된 보상 구조체를 포함하고,
상기 안테나는 상기 플라즈마 챔버의 내부에 플라즈마를 형성하고, 상기 안테나와 상기 플라즈마는 축전기를 형성하고, 상기 축전기의 단위 길이 당 정전용량은 상기 안테나의 길이 방향에 따라 변하고,
상기 안테나의 외경은 일정하고,
상기 보상 구조체는 상기 안테나의 길이 방향에 따라 변하는 단위 길이 당 유전율을 가지고,
상기 보상 구조체는 복수의 보상 링들을 포함하고, 상기 보상 링들은 일정한 외경 및 내경을 가지고 위치에 따라 다른 유전율을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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8
제6 항 또는 제7항에 있어서,
상기 정전용량은 상기 RF 전원의 구동 주파수의 반 파장을 주기로 하여 주기적으로 변하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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9
제6 항 또는 제7항에 있어서,
상기 안테나의 내부로 냉각수가 흐르는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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10
제6 항 또는 제7항에 있어서,
상기 안테나는 파이프 형상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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11
제6 항 또는 제7항에 있어서,
상기 절연 자켓은 상기 플라즈마 챔버를 관통하도록 배치되어, 상기 플라즈마 챔버의 내부와 상기 자켓의 내부는 서로 다른 압력을 유지하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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12
제6 항 또는 제7항에 있어서,
상기 보상 구조체는 절연 물질인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
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13
제6 항 또는 제7항에 있어서,
상기 안테나는 제1 그룹과 제2 그룹을 포함하고,
상기 제1 그룹과 상기 제2 그룹은 서로 다른 평면에 배치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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14
제13 항에 있어서,
상기 제1 그룹의 하부에 제1 기판이 배치되고,
상기 제2 그룹의 하부에 제2 기판이 배치되어,
다수의 기판이 동시에 처리되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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