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제1 기판과 제2 기판 사이에서 구동 신호를 인가받아 플라즈마광을 발생하는 평판 형태의 플라즈마 광원; 및상기 플라즈마 광원의 상기 제2 기판의 상부에 형성된 금속막과 상기 금속막 위에 형성된 나노막대 어레이를 포함하는 레이저 출력부를 포함하고,상기 플라즈마광에 의하여 여기된 상기 나노막대 어레이를 통하여 레이저를 발생하는 것을 특징으로 하는 레이저 소자
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마 광원은,상기 제1 기판 위에 형성되어 상기 구동 신호를 인가받기 위한 복수의 전극 및 상기 복수의 전극 위에 순차 형성된 유전막과 금속 산화막을 포함하고, 상기 복수의 전극, 상기 유전막 및 상기 금속 산화막이 형성된 상기 제1 기판과, 하부에 스페이서가 형성된 상기 제2 기판을 결합하고, 플라즈마 방전 가스를 봉입하여 제작된 것을 특징으로 하는 레이저 소자
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제1항에 있어서, 상기 금속막은 금, 은, 동, 알루미늄 또는 이들의 합금으로 이루어진 막인 것을 특징으로 하는 레이저 소자
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제1항에 있어서, 상기 금속막은 50 nm ~ 200 nm 의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 소자
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제1항에 있어서, 상기 나노막대는 산화아연 나노 막대인 것을 특징으로 하는 레이저 소자
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제1항에 있어서, 상기 나노막대는 지름 400 nm이하이며 수직방향의 길이 400 nm 이상으로 성장된 것을 특징으로 하는 레이저 소자
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제1항에 있어서, 상기 레이저 출력부는,상기 금속막과 상기 나노막대 어레이 사이에 형성된 금속 산화막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 소자
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제8항에 있어서, 상기 금속 산화막은 산화 알루미늄막을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 소자
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제1항에 있어서, 상기 레이저 출력부는,상기 나노막대 위에 부착된 보호막 또는 보호 기판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 소자
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제10항에 있어서, 상기 보호막 또는 보호 기판은 파장 350 ~ 380 nm의 빛을 투과하는 것을 특징으로 하는 레이저 소자
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제1 기판과 제2 기판 사이에서 구동 신호를 인가받아 플라즈마광을 발생하는 평판 형태의 플라즈마 광원을 제작하는 단계; 및상기 플라즈마 광원의 상기 제2 기판의 상부에 금속막을 형성하고, 상기 금속막 위에 나노막대 어레이를 형성하는 단계를 포함하고,상기 플라즈마광에 의하여 상기 나노막대 어레이를 여기시켜 상기 나노막대 어레이에서 레이저를 발생하는 것을 특징으로 하는 레이저 소자의 제조 방법
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