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레이저 간섭 리소그래피 장치

  • 기술번호 : KST2014052796
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 레이저 간섭 리소그래피 장치는, 레이저 광원부로부터 출력되는 레이저 광의 광 경로를 소정 방향으로 반사하는 반사 미러와; 상기 반사 미러에서 반사된 광을 확산하는 공간 필터와; 상기 공간 필터를 통해 확산되는 광을 소정의 각도에 배치된 세 개의 미러에서 반사하여 기판상에 간섭무늬를 형성하는 틸팅 미러부와; 상기 기판을 안착하고, 소정 방향으로 이동하여 상기 기판에 입사되는 광의 입사각을 조절하는 이동 스테이지를 포함하는 점에 그 특징이 있다. 본 발명에 따르면, 기판 상단에 3개의 틸팅 미러를 배치하고, 이동 스테이지와 3개의 틸팅 미러의 각도를 조절함으로써 기판에 원하는 2차원 패턴을 형성할 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01)
출원번호/일자 1020120142153 (2012.12.07)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1395294-0000 (2014.05.08)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20140527) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.12.07)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김종석 대한민국 경기 안산시 단원구
2 이성호 대한민국 대전 유성구
3 정일규 대한민국 경기 안산시 상록구
4 강경태 대한민국 서울 서초구
5 김형태 대한민국 서울 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인리온 대한민국 서울특별시 서초구 사평대로 ***, *층(반포동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.12.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-1019806-57
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.07.03 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.08.08 수리 (Accepted) 9-1-2013-0064515-85
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0672630-60
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.10.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0915838-91
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.10.10 수리 (Accepted) 1-1-2013-0915859-49
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.02.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0115155-54
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2014-0309747-76
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.03.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0309720-44
11 등록결정서
Decision to grant
2014.04.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0298978-04
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
레이저 간섭 리소그래피 장치에 있어서,레이저 광원부로부터 출력되는 레이저 광의 광 경로를 소정 방향으로 반사하는 반사 미러와;상기 반사 미러에서 반사된 광을 확산하는 공간 필터와; 상기 공간 필터를 통해 확산되는 광을 소정의 각도에 배치된 세 개의 미러에서 반사하여 기판상에 간섭무늬를 형성하는 틸팅 미러부와; 상기 기판을 안착하고, 소정 방향으로 이동하여 상기 기판에 입사되는 광의 입사각을 조절하는 이동 스테이지를 포함하고,상기 이동 스테이지는 X축-Y축 스테이지, Z축 스테이지, 회전 스테이지 및 고니오미터를 포함하되, 상기 X축-Y축 스테이지, 상기 Z축 스테이지, 상기 회전 스테이지, 및 상기 고니오미터가 차례로 결합됨으로써, 상기 기판은 상기 고니오미터 상에 안착되고,상기 공간 필터로부터 확산되는 빔의 입사각을 상기 세 개의 미러의 위치를 좌우로 이동하여 조절함으로써, 상기 기판 상에 2차원 패턴 사이즈를 결정하며,상기 X축-Y축 스테이지를 이용하여 상기 기판을 수평 이동시키거나 또는 상기 Z축 스테이지를 이용하여 상기 기판을 수직 이동시킴으로써, 상기 기판 상에 영역별로 형성되는 2차원 패턴 사이즈를 결정하고,상기 회전 스테이지를 이용하여 상기 기판을 회전시킴으로써, 상기 기판 상에 2차원 패턴 형성 방향을 결정하고,상기 고니오미터를 이용하여 상기 기판의 각도를 조절함으로써, 상기 기판 상에 2차원 패턴 형성 각도를 결정하는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그래피 장치
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제 1항에 있어서,상기 광원부에서 출력되는 광을 투과 또는 차단하는 셔터와;상기 셔터의 구동을 스테이지 구동과 연계하여 제어하는 셔터 제어부와;상기 틸팅 미러부의 구동을 제어하는 미러 제어부와; 상기 이동 스테이지의 구동을 제어하는 스테이지 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그래피 장치
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삭제
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삭제
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삭제
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삭제
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삭제
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제 1항에 있어서, 상기 틸팅 미러부는 0도 내지 90 도 이내에서 상기 기판상에 입사광이 조사되도록 각도를 조절하는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그래피 장치
9 9
제 1항에 있어서,상기 공간 필터는 하나가 마련되며, 노광 면적에 해당하는 크기로 레이저 광을 확대하는 집광 렌즈와, 상기 기판상에 형성되는 간섭 신호의 광강도를 결정하는 핀홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그래피 장치
10 10
제 1항에 있어서,상기 반사 미러에서 반사된 광의 위상차를 조절하여 편광하는 위상차판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그래피 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.