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하기 화학식 (1)로 표시되는 아크릴레이트 유도체: (상기 식에서, R1은 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1~C6의 알킬, 페닐 중에서 선택됨)
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제1항에 있어서, 하기 화학식 (1a) 내지 (1f)로 표시되는 화합물 중에서 선택된 어느 하나의 화합물인 것을 특징으로 하는 아크릴레이트 유도체:(1a) (1b)(1c) (1d)(1e) (1f)
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하기 반응식 (1)에 따라 화학식 (2)의 트리스(나프틸)알코올로부터 화학식 (1)의 트리스(나프틸) 아크릴레이트 유도체를 제조하는 방법:상기 식에서, 2a는 트리스(1-나프틸)알코올이며, 2b는 트리스(2-나프틸)알코올이고,R1은 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1~C6의 알킬, 페닐 중에서 선택되며,NEt3은 트리에틸아민(Triethylamine)이고, CH2Cl2는 메틸렌 클로라이드(Methylene chloride)이며, DMAP은 4-디메틸아미노피리딘(4-Dimethylaminopyridine)이다
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제 3항에 있어서,상기 아크릴로일클로라이드계 화합물은 아크릴로일클로라이드(acryloyl chloride), 메타크릴로일클로라이드(methacryloyl chloride), 시나모일클로라이드(cinnamoyl chloride) 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 화학식 (1)의 아크릴레이트 유도체를 제조하는 방법
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제3항에 있어서, 상기 화학식 (2)의 트리스(나프틸)알코올은 하기 반응식에 따라 화학식 (3)의 비스(나프톡시)프로필 글리시딜 에테르로부터 제조되는 것을 특징으로 하는 화학식 (1)의 아크릴레이트 유도체를 제조하는 방법
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제5항에 있어서, 상기 화학식 (3)의 비스(나프톡시)프로필 글리시딜 에테르는 하기 반응식에 따라 제조되는 것을 특징으로 하는 화학식 (1)의 아크릴레이트 유도체를 제조하는 방법
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제1항에 따른 아크릴레이트 모노머 40 ~ 60 중량%와,1 이상의 작용기를 가진 반응성 아크릴레이트 모노머 30 ~ 50 중량% 및 광중합 개시제 1 ~ 5 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물
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제7항에 있어서, 상기 1 이상의 작용기를 가진 반응성 아크릴레이트 모노머는 페녹시 에틸 아크릴레이트, 페녹시 디에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 테트라 에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 헥사에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 디사이클로 펜타디엔 아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸 아크릴레이트 및 사이클로 헥산 디 메탄올 모노 아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디 아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디 아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아뉴레이트 디아크릴레이트, 디메틸올 트리사이클로 데칸 디아크릴레이트 및 에틸렌 옥사이드 부가형 비스 페놀 A 디아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 3몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리 아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 6몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리스(아크릴로옥시에틸)이소시아뉴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트 또는 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 화합물인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물
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제7항에 있어서, 상기 광중합 개시제는 벤조페논, 벤조페논 유도체, 벤조인, 벤조인 알킬 에테르 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐케톤, 디에톡시 아세토페논, 포스핀 옥사이드계, 아미노 아세토페논계, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로파-1-논, 2-벤질-2-디메틸아미드-1- (4-몰포리나페닐)-부타난으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 화합물인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물
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제1항에 따른 아크릴레이트를 포함하는 광경화 수지조성물을 이용하여 제조된 것을 특징으로 하는 광학 필름
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제10항에 있어서, 프리즘 시트인 것을 특징으로 하는 광학 필름
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