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하기 반응식 1에 나타낸 바와 같이,화학식 2의 (3R)-O-tert-부틸디메틸실릴옥시부티릴 할라이드와 화학식 3의 이미노아세테이트를 각각 반응용매에 용해시킨 후, 염기를 첨가한 용액을 혼합하고 교반하여 화학식 4의 시스(cis) 입체이성질체 형태의 아제티디논환이 형성된 화학식 4의 화합물을 제조하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 제조된 화학식 4의 에스테르기를 산화반응시켜 아세톡시기로 전환된 화학식 5의 화합물을 제조하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 제조된 화학식 5의 화합물에서 아제티디논환의 보호기를 제거하여 화학식 1의 4-아세톡시아제티디논을 제조하는 단계(단계 3)를 포함하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법:[반응식 1]상기 반응식 1에서 X는 할로겐 원소이고, R1은 H 또는 C1-5의 알킬이고, R2는 보호기이다
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제1항에 있어서, 상기 반응용매는 무수 디클로로메탄, 무수 테트라히드로퓨란 및 무수 에틸 에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 염기는 옥사릴 클로라이드 또는 트리에틸아민인 것을 특징으로 하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 2는 상기 단계 1에서 제조된 화학식 4의 베타락탐 화합물을 알코올 및 물의 혼합용매에 용해시킨 후, 가수 분해시켜 카르복실산 중간체를 얻은 후, 무수 아세토니트릴에 용해한 다음, Cu(OAc)2과 Pb(OAc)4를 첨가하여 반응시켜 카르복실산기를 아세톡시기로 전환하는 것을 특징으로 하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 3은 상기 단계 2에서 제조된 화학식 5의 화합물을 아세토니트릴에 용해시킨 후 -15 ~ -5 ℃로 냉각한 다음, 세륨암모니움나이트레이트 용액을 가하여 반응시켜 아제티디논환의 N-보호기를 제거하는 것을 특징으로 하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 보호기가 트리메틸실릴기인 경우 아제티디논환 형성 시 자동으로 탈보호되기 때문에 상기 단계 3의 보호기 제거 단계가 생략되는 것을 특징으로 하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법
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하기 반응식 2에 나타낸 바와 같이,화학식 2'의 (3R)-O-tert-부틸디메틸실릴옥시부티레이트와 화학식 3의 이미노아세테이트를 반응시켜 아제티디논환이 형성된 화학식 4'의 화합물을 제조하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 제조된 화학식 4의 에스테르기를 산화반응시켜 아세톡시기로 전환된 화학식 5의 화합물을 제조하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 제조된 화학식 5의 화합물에서 아제티디논환의 보호기를 제거하여 화학식 1의 4-아세톡시아제티디논을 제조하는 단계(단계 3)를 포함하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법:[반응식 2]상기 화학식 2에서, R 및 R1은 H 또는 C1-5의 알킬이고, R2는 보호기이다
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제8항에 있어서, 상기 단계 1은 불활성 기체 분위기에서 화학식 2'의 화합물 및 화학식 3의 화합물을 각각 반응용매에 용해시킨 후 염기를 첨가한 용액을 혼합하여 교반함으로써 화학식 4'의 트랜스(trans) 입체이성질체 형태의 아제티디논환이 형성된 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 반응용매는 무수 테트라하이드로 퓨란, 무수 테트라히드로퓨란 및 무수 에틸 에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 염기는 디이소프로필아민, 헥사메틸디실란의 금속염 또는 n-뷰틸리튬인것을 특징으로 하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 반응은 -78 ℃ ~ 상온의 온도 범위 내에서 수행되는 것을 특징으로 하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 단계 2는 상기 단계 1에서 제조된 화학식 4의 베타락탐 화합물을 알코올 및 물의 혼합용매에 용해시킨 후, 강염기로서 NaOH를 가하여 가수분해시켜 카르복실산 중간체를 얻은 후, 이를 무수 아세토니트릴에 용해한 후, Cu(OAc)2과 Pb(OAc)4를 넣고 환류조건에서 반응시켜 카르복실산기를 아세톡시기로 전환하는 것을 특징으로 하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 단계 3은 상기 단계 2에서 제조된 화학식 5의 화합물을 아세토니트릴에 용해시킨 후 -15 ~ -5 ℃로 냉각한 다음, 세륨암모니움나이트레이트 용액을 가하여 반응시킴으로써 아제티디논환의 N-보호기를 제거하는 것을 특징으로 하는 4-아세톡시아제티디논의 제조방법
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