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적층구조의 그라핀 산화물에 열처리를 하여 그라핀 산화물로부터 산소 및 산소를 포함하고 있는 기능기를 제거함으로써 적층구조의 그라핀 산화물을 적층구조의 그라핀으로 환원시킴과 동시에 환원된 적층구조의 그라핀의 층간 간격을 열처리 이전의 적층구조의 그라핀 산화물의 층간 간격보다 좁게 형성시키는 단계;를 포함하여 이루어지는 적층구조의 그라핀 산화물로부터 수소저장매체를 제조하는 방법
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제1항에 있어서,상기 열처리는 50 내지 250℃의 온도범위에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층구조의 그라핀 산화물로부터 수소저장매체를 제조하는 방법
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제1항에 있어서,상기 열처리는 0
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제1항에 있어서,상기 환원된 적층구조의 그라핀의 층간 간격은 6 내지 7Å인 것을 특징으로 하는 적층구조의 그라핀 산화물로부터 수소저장매체를 제조하는 방법
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(1) 적층구조의 그라핀 산화물에 열처리를 하여 그라핀 산화물로부터 산소 및 산소를 포함하고 있는 기능기를 제거함으로써 적층구조의 그라핀 산화물을 적층구조의 그라핀으로 환원시킴과 동시에 환원된 적층구조의 그라핀의 층간 간격을 열처리 이전의 적층구조의 그라핀 산화물의 층간 간격보다 좁게 형성시키는 제1단계;(2) 상기 제1단계의 과정을 거쳐 형성된 상기 환원된 적층구조의 그라핀에 열처리를 하여 상기 제1단계의 과정에서 제거되지 않은 산소 및 산소를 포함하고 있는 기능기를 추가적으로 제거함과 동시에 상기 환원된 적층구조의 그라핀에 공동(pore)을 형성시키는 제2단계;를 포함하여 이루어지는 적층구조의 그라핀 산화물로부터 수소저장매체를 제조하는 방법
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제5항에 있어서,상기 제1단계에서 이루어지는 열처리는 100 내지 250℃의 온도범위에서, 0
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제5항에 있어서, 상기 제2단계에서 이루어지는 열처리는 250 내지 750℃의 온도범위에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층구조의 그라핀 산화물로부터 수소저장매체를 제조하는 방법
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제5항에 있어서,상기 제2단계에서 이루어지는 열처리는 0
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제5항에 있어서,상기 제2단계를 통하여 공동이 형성된 적층구조의 환원된 그라핀은, 상기 제1단계의 과정을 거쳐 형성된 환원된 적층구조의 그라핀 중량의 70 내지 95%의 중량을 갖는 것을 특징으로 하는 그라핀 산화물로부터 수소저장매체를 제조하는 방법
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제1항 내지 제9항의 어느 한 항의 방법에 의하여 제조되는 것을 특징으로 하는 적층구조의 그라핀 산화물로부터 제조되는 수소저장매체
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적층구조의 그라핀 산화물에 열처리를 하여 환원시킨 적층구조의 그라핀으로서, 환원된 적층구조의 그라핀의 층간 간격은 열처리 이전의 적층구조의 그라핀 산화물의 층간 간격보다 좁은 것을 특징으로 하는 적층구조의 그라핀 산화물로부터 제조되는 수소저장매체
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제11항에 있어서,상기 환원된 적층구조의 그라핀의 층간 간격은 6 내지 7Å인 것을 특징으로 하는 적층구조의 그라핀 산화물로부터 제조되는 수소저장매체
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13
제11항에 있어서,상기 환원된 적층구조의 그라핀에는 공동(pore)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 적층구조의 그라핀 산화물로부터 제조되는 수소저장매체
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14
적층구조의 그라핀 산화물에 열처리를 하여 환원시킨 적층구조의 그라핀으로서, 환원된 적층구조의 그라핀에는 공동(pore)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 적층구조의 그라핀 산화물로부터 제조되는 수소저장매체
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제14항에 있어서,상기 환원된 적층구조의 그라핀의 층간 간격은 열처리 이전의 상기 적층구조의 그라핀 산화물의 층간 간격보다 좁은 것을 특징으로 하는 적층구조의 그라핀 산화물로부터 제조되는 수소저장매체
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