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거친 표면을 가진 아나타제상의 이산화티탄 광촉매 막 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014056672
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 실시예에 따른 광촉매 막은 기판; 및 요철표면을 가지며 상기 기판상에 형성된 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 (TiO2) 코팅층;을 포함하는 것을 특징으로 한다. 광촉매 막, 코팅, 정화
Int. CL B82Y 30/00 (2011.01) B01J 21/06 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC B01J 37/0215(2013.01) B01J 37/0215(2013.01) B01J 37/0215(2013.01) B01J 37/0215(2013.01)
출원번호/일자 1020070056364 (2007.06.09)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-0897572-0000 (2009.05.07)
공개번호/일자 10-2008-0108171 (2008.12.12) 문서열기
공고번호/일자 (20090515) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020080076019;
심사청구여부/일자 Y (2007.06.09)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박동수 대한민국 서울 강남구
2 류정호 대한민국 경남 창원시 가음

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김기문 대한민국 서울시 강남구 역삼로 *** *층 (역삼동 현죽빌딩)(한미르특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2007.06.09 수리 (Accepted) 1-1-2007-0419007-79
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.03.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.04.14 수리 (Accepted) 9-1-2008-0019989-95
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.06.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0307829-14
5 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2008.08.04 수리 (Accepted) 1-1-2008-0559435-81
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.08.04 수리 (Accepted) 1-1-2008-0559448-74
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.08.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0559470-79
8 협의요구서
Request for Consultation		 2008.11.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0558635-84
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.01.05 수리 (Accepted) 1-1-2009-0002285-55
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.01.05 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2009-0002300-53
11 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document		 2009.01.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2009-0003163-55
12 서류반려통지서
Notice for Return of Document		 2009.02.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2009-0011270-75
13 등록결정서
Decision to grant		 2009.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0180014-76
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판; 및 요철표면을 가지며 상기 기판상에 형성된 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층;을 포함하며, 상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은 평균 표면조도(Ra)가 200nm 내지 1000nm인 것을 특징으로 하는 광촉매 막
2 2
제1 항에 있어서, 상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은 메쉬(mesh)형상의 요철표면을 가지는 것을 특징으로 하는 광촉매 막
3 3
제1 항 또는 제2 항에 있어서, 상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은 평균입경이 50nm 이하의 결정립을 가진 것을 특징으로 하는 광촉매 막
4 4
제1 항 또는 제2 항에 있어서, 상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은 95% 이상의 고밀도로 형성된 것을 특징으로 하는 광촉매 막
5 5
삭제
6 6
제1 항 또는 제2 항에 있어서, 상기 아나타제상 이산화티탄 (TiO2) 코팅층의 평균 두께는 1 내지 10 μm인 것을 특징으로 하는 광촉매 막
7 7
제1 항 또는 제2 항에 있어서, 상기 기판은 금속, 세라믹, 고경도 고분자재료, 스테인리스스틸, 유리(Glass), 타일(Tile) 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 광촉매 막
8 8
제1 항 또는 제2 항에 있어서, 상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은 세라믹 분말이 상기 기판에 분사되어 형성된 것을 특징으로 하는 광촉매 막
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
원료를 분말 에어로졸(aerosol)로 만드는 단계; 및 상기 분말 에어로졸을 기판상에 분사하여 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 (TiO2) 코팅층을 만드는 단계;를 포함하며, 상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은 평균 표면조도(Ra)가 200nm 내지 1000nm인 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
12 12
제11 항에 있어서, 상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층을 만드는 단계는, 메쉬(mesh)형상의 요철표면을 가지는 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층을 만드는 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
13 13
제11 항 또는 제12 항에 있어서, 상기 원료는 평균입경이 1~10㎛인 산화티탄(TiO2)인 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
14 14
제11 항 또는 제12 항에 있어서, 상기 원료는 이송기체와 원료분말이 혼합되어 에어로졸 생성되는 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
15 15
제11 항 또는 제12 항에 있어서, 상기 원료를 에어로졸로 만드는 단계에는, 상기 에어로졸에 진동을 인가하여 에어로졸화 촉진 및 에어로졸 분말 간 응집을 방지하는 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
16 16
제11 항 또는 제12 항에 있어서, 상기 에어로졸의 유량은 5 ~ 500 L/min인 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
17 17
제11 항 또는 제12 항에 있어서, 상기 기판은 XYZ 테이블에 장착되어 이동되는 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
18 18
제17 항에 있어서, 상기 테이블은 상기 기판의 이송속도가 10~0
19 19
제11 항 또는 제12 항에 있어서, 상기 기판은 금속, 세라믹, 고경도 고분자재료, 스테인리스스틸, 유리, 타일(Tile) 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
20 20
제11 항 또는 제12 항에 있어서, 상기 기판에의 상기 에어로졸의 증착속도는 0
21 21
삭제
22 22
삭제
23 23
삭제
24 24
제11 항 또는 제12 항에 있어서, 상기 에어로졸을 기판상에 분사하여 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층을 만드는 단계는 -200℃ 내지 +100℃에서 진행되는 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
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1 KR100897573 KR 대한민국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
DOCDB 패밀리 정보가 없습니다
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