맞춤기술찾기

이전대상기술

롤투롤 스퍼터링 시스템

  • 기술번호 : KST2014059373
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 필름 형태의 피증착물을 연속적으로 성막할 수 있는 롤투롤 스퍼터링 시스템에 관한 것이다. 본 발명에 의한 롤투롤 스퍼터링 시스템은, 진공 챔버를 갖는 하우징, 진공 챔버에 스퍼터링 가스를 공급하기 위한 스퍼터링 가스 공급기, 필름형 피증착물을 진공 챔버 내에 마련되는 증착 영역으로 연속적으로 공급하기 위한 와인더 및 리와인더, 증착 영역에 필름형 피증착물에 증착될 성막 입자를 공급하기 위한 스퍼터 건, 스퍼터 건에 방전 전력을 공급하기 위한 전원, 증착 영역을 통과하는 필름형 피증착물과 접하여 필름형 피증착물을 냉각시키는 냉각 드럼, 냉각 드럼에 냉각매체를 공급하는 냉각 시스템을 포함한다. 본 발명에 의한 롤투롤 스퍼터링 시스템은, 냉각 드럼이 필름형 피증착물에 접하여 성막 중의 필름형 피증착물을 지속적으로 냉각시킴으로써, 열에 의한 필름형 피증착물의 변형이나 파손을 방지할 수 있다.
Int. CL C23C 14/34 (2006.01) C23C 14/56 (2006.01) C23C 14/20 (2006.01)
CPC C23C 14/562(2013.01) C23C 14/562(2013.01) C23C 14/562(2013.01) C23C 14/562(2013.01) C23C 14/562(2013.01) C23C 14/562(2013.01)
출원번호/일자 1020100110865 (2010.11.09)
출원인 경희대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1273771-0000 (2013.06.04)
공개번호/일자 10-2012-0049552 (2012.05.17) 문서열기
공고번호/일자 (20130612) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.11.09)
심사청구항수 9

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김한기 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 박준혁 대한민국 경상북도 구미시

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 서재승 대한민국 서울특별시 강남구 봉은사로 ***-*(논현동) ***호(스카이국제특허사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 경기도 용인시 기흥구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.11.09 수리 (Accepted) 1-1-2010-0730044-14
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.09.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.10.17 수리 (Accepted) 9-1-2011-0081641-04
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0511082-28
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2012-0889580-16
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2012-0997325-46
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.12.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-1095940-27
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2012-1095936-44
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.04.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0231200-75
10 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2013.05.06 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2013-0397591-02
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.05.06 수리 (Accepted) 1-1-2013-0397589-10
12 등록결정서
Decision to Grant Registration
2013.05.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0367587-17
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.09 수리 (Accepted) 4-1-2015-5029677-09
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164254-26
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공 챔버를 갖는 하우징;상기 진공 챔버에 스퍼터링 가스를 공급하기 위한 스퍼터링 가스 공급기;필름형 피증착물을 상기 진공 챔버 내에 마련되는 증착 영역으로 연속적으로 공급하기 위해 상호 연동하여 상기 필름형 피증착물을 감거나 풀어주는 와인더 및 리와인더;상기 증착 영역에 상기 필름형 피증착물에 증착될 성막 입자를 공급하기 위해 상기 진공 챔버에 배치되며 서로 마주보도록 배치되는 제 1 타겟 및 제 2 타겟을 구비하는 스퍼터 건;상기 스퍼터 건에 방전 전력을 공급하기 위한 전원;상기 증착 영역을 통과하는 상기 필름형 피증착물과 접하여 상기 필름형 피증착물을 냉각시키는 냉각 드럼;상기 냉각 드럼을 냉각시키기 위해 상기 냉각 드럼에 냉각매체를 공급하는 냉각 시스템; 및상기 리와인더 측에 배치되어 상기 필름형 피증착물에 가해지는 장력을 모니터링하고 상기 필름형 피증착물에 임계 크기 이상의 장력이 가해지는 경우 상기 와인더 및 리와인더의 속도를 제어하는 장력 제어부를 포함하고,상기 스퍼터 건은 상기 제 1 타겟과 상기 제 2 타겟의 사이에 자기장을 형성하기 위해 상기 제 1 타겟의 내부에 배치되는 제 1 자석유닛 및 상기 제 2 타겟의 내부에 배치되는 제 2 자석유닛을 구비하며, 상기 제 1 자석유닛은 같은 자극이 모두 상기 제 2 타겟을 향하도록 배치되는 복수의 제 1 자석과 상기 제 2 타겟을 향하는 상기 제 1 자석들의 끝단을 연결하는 제 1 요크를 구비하고,상기 제 2 자석유닛은 상기 제 2 타겟을 향하는 상기 제 1 자석들의 자극과 반대의 자극이 상기 제 1 타겟을 향하도록 배치되는 복수의 제 2 자석과 상기 제 1 타겟을 향하는 상기 제 2 자석들의 끝단을 연결하는 제 2 요크를 구비하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 시스템
2 2
제 1 항에 있어서,상기 증착 영역은 상기 냉각 드럼 둘레를 따라 복수로 마련되고, 상기 스퍼터 건은 상기 각 증착 영역마다 상기 성막 입자를 공급할 수 있도록 상기 진공 챔버에 복수로 배치되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 시스템
3 3
제 1 항에 있어서,상기 증착 영역은 상기 제 1 타겟과 상기 제 2 타겟의 배열 방향과 직교하는 방향에 배치되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 시스템
4 4
제 3 항에 있어서,상기 제 1 타겟 및 상기 제 2 타겟은 원통형으로 이루어지고,상기 스퍼터 건은, 상기 제 1 타겟 및 상기 제 2 타겟을 각각 회전시키기 위한 제 1 타겟 회전장치 및 제 2 타겟 회전장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 시스템
5 5
제 4 항에 있어서,상기 스퍼터 건은 상기 제 1 자석유닛 및 상기 제 2 자석유닛을 각각 회전시켜 상기 제 1 자석유닛 및 상기 제 2 자석유닛 각각의 배치 각도를 변화시키기 위한 제 1 자석유닛 각도조절장치 및 제 2 자석유닛 각도조절장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 시스템
6 6
삭제
7 7
진공 챔버를 갖는 하우징;상기 진공 챔버에 스퍼터링 가스를 공급하기 위한 스퍼터링 가스 공급기;제 1 필름형 피증착물을 상기 진공 챔버 내에 마련되는 제 1 증착 영역으로 연속적으로 공급하기 위해 상호 연동하여 상기 제 1 필름형 피증착물을 감거나 풀어주는 제 1 와인더 및 제 1 리와인더;제 2 필름형 피증착물을 상기 진공 챔버 내에 마련되는 제 2 증착 영역으로 연속적으로 공급하기 위해 상호 연동하여 상기 제 2 필름형 피증착물을 감거나 풀어주는 제 2 와인더 및 제 2 리와인더;서로 마주보도록 배치되는 제 1 타겟 및 제 2 타겟을 갖고, 상기 제 1 타겟 및 상기 제 2 타겟으로부터 스퍼터링되는 성막 입자를 상기 제 1 증착 영역 및 상기 제 2 증착 영역에 제공하기 위해 상기 제 1 증착 영역과 상기 제 2 증착 영역 사이에 배치되는 스퍼터 건;상기 스퍼터 건에 방전 전력을 공급하기 위한 전원;상기 제 1 증착 영역을 통과하는 상기 제 1 필름형 피증착물과 접하여 상기 제 1 필름형 피증착물을 냉각시키는 냉각 드럼;상기 냉각 드럼을 냉각시키기 위해 상기 냉각 드럼에 냉각매체를 공급하는 냉각 시스템; 및상기 제1 리와인더 측에 배치되어 상기 제1 필름형 피증착물에 가해지는 장력을 모니터링하고 상기 제1 필름형 피증착물에 임계 크기 이상의 장력이 가해지는 경우 상기 제1 와인더 및 제1 리와인더의 속도를 제어하는 장력 제어부를 포함하며,상기 스퍼터 건은 상기 제 1 타겟과 상기 제 2 타겟의 사이에 자기장을 형성하기 위해 상기 제 1 타겟의 내부에 배치되는 제 1 자석유닛 및 상기 제 2 타겟의 내부에 배치되는 제 2 자석유닛을 구비하며, 상기 제 1 자석유닛은 같은 자극이 모두 상기 제 2 타겟을 향하도록 배치되는 복수의 제 1 자석과 상기 제 2 타겟을 향하는 상기 제 1 자석들의 끝단을 연결하는 제 1 요크를 구비하고,상기 제 2 자석유닛은 상기 제 2 타겟을 향하는 상기 제 1 자석들의 자극과 반대의 자극이 상기 제 1 타겟을 향하도록 배치되는 복수의 제 2 자석과 상기 제 1 타겟을 향하는 상기 제 2 자석들의 끝단을 연결하는 제 2 요크를 구비하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 시스템
8 8
제 7 항에 있어서,상기 제 1 증착 영역은 상기 냉각 드럼 둘레를 따라 복수로 마련되고, 상기 제 2 증착 영역은 상기 각 제 1 증착 영역과 마주보는 위치에 배치되도록 복수로 마련되며, 상기 스퍼터 건은 서로 마주보는 상기 각 제 1 증착 영역과 상기 각 제 2 증착 영역의 사이마다 배치되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 시스템
9 9
제 7 항에 있어서,상기 제 1 타겟 및 상기 제 2 타겟은 원통형으로 이루어지고,상기 스퍼터 건은, 상기 제 1 타겟 및 상기 제 2 타겟을 각각 회전시키기 위한 제 1 타겟 회전장치 및 제 2 타겟 회전장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 시스템
10 10
제 9 항에 있어서,상기 스퍼터 건은 상기 제 1 자석유닛 및 상기 제 2 자석유닛을 각각 회전시켜 상기 제 1 자석유닛 및 상기 제 2 자석유닛 각각의 배치 각도를 변화시키기 위한 제 1 자석유닛 각도조절장치 및 제 2 자석유닛 각도조절장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 시스템
11 11
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.