요약 | 본 발명은 박막 트랜지스터 인버터에 관한 것으로, 듀얼 게이트 박막 트랜지스터(Dual gate TFT)의 소스 전극에 또 다른 박막 트랜지스터의 드레인 전극이 직렬로 연결되고, 상기 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 게이트 전극과 소스 전극이 전기적으로 연결된 디플리션 로드(depletion load) 구조인 것을 특징으로 한다. 상기와 같은 구성에 의하면, 본 발명은 기존의 n-타입 인버터의 로드 TFT(load TFT)에 상부(top) 게이트 전극을 형성하여 이에 전압을 인가함으로서 발생하는 문턱전압 편이(Vth shift) 현상을 이용하여 공정 및 구조의 추가 없이 디플리션 로드(depletion load) 구조를 형성하여 CMOS와 같은 고이득(high gain)을 구현할 수 있어 보다 유리한 효과가 있다. |
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Int. CL | H01L 29/786 (2006.01) |
CPC | H01L 27/1214(2013.01) H01L 27/1214(2013.01) H01L 27/1214(2013.01) H01L 27/1214(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020100132137 (2010.12.22) |
출원인 | 경희대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-1275710-0000 (2013.06.11) |
공개번호/일자 | 10-2012-0070709 (2012.07.02) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20130614) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2010.12.22) |
심사청구항수 | 8 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 경희대학교 산학협력단 | 대한민국 | 경기도 용인시 기흥구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 장진 | 대한민국 | 서울특별시 동대문구 |
2 | 강동한 | 대한민국 | 서울특별시 동대문구 |
3 | 석만주 | 대한민국 | 서울특별시 동대문구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김희곤 | 대한민국 | 대전시 유성구 문지로 ***-*(문지동) *동(웰쳐국제특허법률사무소) |
2 | 김인한 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 사임당로 **, **층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원) |
3 | 박용순 | 대한민국 | 서울특별시 송파구 법원로*길 **, **층 D-****호(문정동)(주심국제특허법률사무소) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 경희대학교 산학협력단 | 경기도 용인시 기흥구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.12.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0846538-98 |
2 | [출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment |
2011.12.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0980505-36 |
3 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2012.01.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
4 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2012.02.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0009238-74 |
5 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2012.04.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0238287-09 |
6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2012.06.21 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0496060-80 |
7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2012.06.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0496059-33 |
8 | 최후의견제출통지서 Notification of reason for final refusal |
2012.11.15 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0689183-15 |
9 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2012.11.30 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0995752-82 |
10 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2012.11.30 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2012-0995755-18 |
11 | 등록결정서 Decision to grant |
2013.05.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0369633-77 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.03.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5029677-09 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.19 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5164254-26 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 듀얼 게이트 박막 트랜지스터(Dual gate TFT)의 소스 전극에 또 다른 박막 트랜지스터의 드레인 전극이 직렬로 연결되고,상기 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 게이트 전극과 소스 전극이 전기적으로 연결된 디플리션 로드(depletion load) 구조이고, 상기 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 상부 게이트 전극에 레벨 쉬프터(Level shifter)를 이용하여 드레인 전원 전압을 증폭 시켜 별도의 전원전압을 사용하지 않거나, 상기 드레인 전원 전압 외에 추가 외부 전원을 인가하는 구조가 모두 가능한 것을 특징으로 하는 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 디플리션 모드를 이용한 산화물 반도체 인버터 |
2 |
2 청구항 1에 있어서, 상기 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 상부(top) 게이트 전극에 전원을 인가하고, 상기 전원을 조절하여 게이트 전압에 대한 드레인 전류의 변화 특성을 제어하는 것을 특징으로 하는 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 디플리션 모드를 이용한 산화물 반도체 인버터 |
3 |
3 삭제 |
4 |
4 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 듀얼 게이트 전극과 소스 전극이 전기적으로 연결된 디플리션 로드(depletion load) 구조로 인하여 풀 스윙(full swing)이 가능한 것을 특징으로 하는 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 디플리션 모드를 이용한 산화물 반도체 인버터 |
5 |
5 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 또 다른 박막 트랜지스터는 청구항 1의 듀얼 게이트 박막 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 디플리션 모드를 이용한 산화물 반도체 인버터 |
6 |
6 청구항 1에 있어서, 상기 산화물 반도체는 비정질 인듐 갈륨 징크옥사이드 반도체인 것을 특징으로 하는 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 디플리션 모드를 이용한 산화물 반도체 인버터 |
7 |
7 청구항 5에 있어서, 상기 산화물 반도체는 비정질 인듐 갈륨 징크옥사이드 반도체인 것을 특징으로 하는 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 디플리션 모드를 이용한 산화물 반도체 인버터 |
8 |
8 청구항 1 또는 청구항 2의 듀얼 게이트 박막 트랜지스터를 nMOS 또는 pMOS 인버터에서 하나 이상 사용하는 것을 특징으로 하는 인버터 |
9 |
9 청구항 1의 듀얼 게이트 박막 트랜지스터를 nMOS 또는 pMOS 인버터에서 하나 이상 사용하는 것을 특징으로 하는 인버터 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
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순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 지식경제부 | 서울대학교 산학협력단 | 산업원천기술개발사업 | 고품위 plastic AMOLED 원천 기술 개발 |
특허 등록번호 | 10-1275710-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20101222 출원 번호 : 1020100132137 공고 연월일 : 20130614 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130529 청구범위의 항수 : 8 유별 : H01L 29/786 발명의 명칭 : 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 디플리션 모드를 이용한 산화물 반도체 인버터 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 경희대학교 산학협력단 경기도 용인시 기흥구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 178,500 원 | 2013년 06월 12일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 151,200 원 | 2016년 06월 07일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 151,200 원 | 2017년 03월 28일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 108,000 원 | 2018년 06월 11일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 202,000 원 | 2019년 04월 23일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 202,000 원 | 2020년 04월 01일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.12.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0846538-98 |
2 | [출원서등 보정]보정서 | 2011.12.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0980505-36 |
3 | 선행기술조사의뢰서 | 2012.01.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
4 | 선행기술조사보고서 | 2012.02.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0009238-74 |
5 | 의견제출통지서 | 2012.04.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0238287-09 |
6 | [명세서등 보정]보정서 | 2012.06.21 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0496060-80 |
7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2012.06.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0496059-33 |
8 | 최후의견제출통지서 | 2012.11.15 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0689183-15 |
9 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2012.11.30 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0995752-82 |
10 | [명세서등 보정]보정서 | 2012.11.30 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2012-0995755-18 |
11 | 등록결정서 | 2013.05.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0369633-77 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.03.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5029677-09 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.19 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5164254-26 |
기술번호 | KST2014059376 |
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자료제공기관 | NTB |
기술공급기관 | 경희대학교 국제캠퍼스 |
기술명 | 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 디플리션 모드를 이용한 산화물 반도체 인버터 |
기술개요 |
본 발명은 박막 트랜지스터 인버터에 관한 것으로, 듀얼 게이트 박막 트랜지스터(Dual gate TFT)의 소스 전극에 또 다른 박막 트랜지스터의 드레인 전극이 직렬로 연결되고, 상기 듀얼 게이트 박막 트랜지스터의 게이트 전극과 소스 전극이 전기적으로 연결된 디플리션 로드(depletion load) 구조인 것을 특징으로 한다. 상기와 같은 구성에 의하면, 본 발명은 기존의 n-타입 인버터의 로드 TFT(load TFT)에 상부(top) 게이트 전극을 형성하여 이에 전압을 인가함으로서 발생하는 문턱전압 편이(Vth shift) 현상을 이용하여 공정 및 구조의 추가 없이 디플리션 로드(depletion load) 구조를 형성하여 CMOS와 같은 고이득(high gain)을 구현할 수 있어 보다 유리한 효과가 있다. |
개발상태 | 기술개발완료 |
기술의 우수성 | |
응용분야 | 박막 트랜지스터 제조 |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | 기술매매 |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1415107885 |
---|---|
세부과제번호 | 10035225 |
연구과제명 | 고품위 plastic AMOLED 원천 기술 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 서울대학교산학협력단 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 201003~201502 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1415131581 |
---|---|
세부과제번호 | 10035225 |
연구과제명 | 고품위 plastic AMOLED 원천 기술 개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 미래창조과학부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 201003~201502 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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