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양친성 공중합체 및 항산화 물질을 이용하여 자기조립 현상에 의해서 항산화물질을 포접한 환원성 미셀을 제조하는 단계 (단계 1);상기 단계 1에서 제조한 미셀 표면에 금 이온을 환원시켜 미셀 외각 구조에 따라 핵을 형성하는 단계 (단계 2); 및미셀 외각에 형성된 핵을 성장시켜 금 나노입자를 제조하는 단계 (단계 3)를 포함하는 금 나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 항산화 물질은 α-토코페롤, 폴리페놀, 레티닐 팔미테이트, 티옥트산, 카로티노이드, 비타민 C, 비타민 C 유도체, 카페산 (Caffeic acid), 몰식자산 (Gallic acid) 및 스코폴레틴 (Scopoletin)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 양친성 공중합체는 친수성 고분자블록 및 소수성 고분자블록을 갖는 양친성 블록공중합체, 친수성 고분자블록 및 소수성 고분자블록을 갖는 양친성 그래프트공중합체, 또는 양친성 지질인 것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 친수성 고분자블록은 에틸렌이민, 알킬렌옥사이드, 옥사졸린, 비닐피롤리돈, 아크릴아미드, 비닐알콜, 아미노산 및 당으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 단량체 또는 둘 이상의 단량체들을 공중합시킨 공중합체인 것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 소수성 고분자블록은 D-락트산, L-락트산, DL-락트산, 글리콜산, 카프로락톤, 아미노산, 발레로락톤, 하이드록시 부티레이트, 알킬(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴로니트릴, (메타)아크릴산, 말레산, 비닐아세테이트, 비닐 프로피오네이트, 비닐부티레이트, 비닐에테르, 스티렌, p-알킬스티렌, m-알킬스티렌, p-클로로스티렌, m-클로로스티렌, p-클로로메틸스티렌, m-클로로메틸스티렌, 스티렌설포닉산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 단량체 또는 둘 이상의 단량체들을 공중합시킨 공중합체인 것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 양친성 지질은 다이헥사노일포스파티딜콜린, N,N-디올레일-N,N-디메틸암모늄클로라이드(DODAC), N,N-디스테아릴-N,N-디메틸암모늄브로마이드(DDAB), N-(1-(2,3-디올레오일옥시)프로필-N,N,N-트리메틸암모늄클로라이드(DOTAP), N,N-디메틸-(2,3-디올레오일옥시)프로필아민(DODMA), N,N,N-트리메틸-(2,3-디올레오일옥시)프로필아민(DOTMA), 1,2-디아실-3-트리메틸암모늄-프로판(TAP), 1,2-디아실-3-디메틸암모늄-프로판(DAP), 3베타-[N-(N',N',N'-트리메틸아미노에탄)카바모일]콜레스테롤(TC-콜레스테롤), 3베타[N-(N',N'-디메틸아미노에탄)카바모일]콜레스테롤(DC-콜레스테롤), 3베타[N-(N'-모노메틸아미노에탄)카바모일]콜레스테롤(MC-콜레스테롤), 3베타[N-(아미노에탄)카바모일]콜레스테롤(AC-콜레스테롤), 콜레스테릴옥시프로판-1-아민(COPA), N-(N'-아미노에탄)카바모일프로파노익 토코페롤(AC-토코페롤) 및 N-(N'-메틸아미노에탄)카바모일프로파노익 토코페롤(MC-토코페롤), 포스파티딜에탄올아민, 포스파티딜콜린 및 포스파티딘산, 디라우로일 포스파티딜에탄올아민, 디미리스토일 포스파티딜에탄올아민, 디팔미토일 포스파티딜에탄올아민, 디스테아로일 포스파티딜에탄올아민, 디올레오일 포스파티딜에탄올아민, 디리놀레오일 포스파티딜에탄올아민, 1-팔미토일-2-올레오일 포스파티딜에탄올아민, 1,2-디피타노일-3-sn-포스파티딜에탄올아민, 디라우로일 포스파티딜콜린, 디미리스토일 포스파티딜콜린, 디팔미토일 포스파티딜콜린, 디스테아로일 포스파티딜콜린, 디올레오일 포스파티딜콜린, 디리놀레오일 포스파티딜콜린, 1-팔미토일-2-올레오일 포스파티딜콜린, 1,2-디피타노일-3-sn-포스파티딜콜린, 디라우로일 포스파티딘산, 디미리스토일 포스파티딘산, 디팔미토일 포스파티딘산, 디스테아로일 포스파티딘산, 디올레오일 포스파티딘산, 디리놀레오일 포스파티딘산, 1-팔미토일-2-올레오일 포스파티딘산, 1,2-디피타노일-3-sn-포스파티딘산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 조합인 것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 블록공중합체는 친수성 고분자블록과 소수성 고분자블록이 에스테르 결합, 언하이드라이드 결합, 카바메이트 결합, 카보네이트 결합, 이민 또는 아미드 결합, 2차 아민결합, 우레탄 결합, 포스포디에스테르 결합 또는 하이드라존 결합을 통해 공유결합되어 있는 것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 그래프트 공중합체는 친수성 고분자인 폴리에틸렌이민 주사슬에 소수성 폴리에스터 중합체로 이루어진 양친성 그래프트 공중합체인 것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 양친성 공중합체는 PEI-g-PLGA, PCL-g-PEG, PEG-PPG-PEG 삼중블록 공중합체, 또는 다이헥사노일포스파티딜콜린 리피드 바이셀인 것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서, 제조된 금 나노입자는 미셀의 외각 및 표면 모양을 본 뜬 구조인 것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서, 제조된 금 나노입자는 덴드릭 형태인 것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 미셀의 크기는 나노-스케일인것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 금이온은 HAuCl4인 것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 HAuCl4을 60 uM 내지 120 uM로 사용하는 것을 특징으로 하는 금 나노입자의 제조방법
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