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방사선 조사에 따른 투과 스펙트럼 변화를 이용하여 방사선량을 측정하는 광섬유 기반 방사선량계에 있어서,광섬유에 구비되는 코어 및 클래딩 중 적어도 어느 하나에 형성된 길이 방향의 충진홀을 따라 방사선 감응성 고분자 화합물을 주입함으로써, 상기 방사선 감응성 고분자 화합물의 광 특성 변화에 의해 상기 광섬유에 조사된 방사선의 굴절률을 증가시키며 이를 통해 상기 방사선의 투과파장의 이동을 관측하여 방사선량을 측정하는 광섬유 방사선 센서부를 포함하는, 고분자 화합물이 충진된 광섬유 기반 방사선량계
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제1항에 있어서,상기 방사선 감응성 고분자 화합물을 상기 광섬유의 상기 충진홀에 채우기 위해 상기 방사선 감응성 고분자 화합물을 솔벤트를 이용하여 용해시키는 공정이 적용되며 모세관 현상을 이용하여 상기 충진홀에 채우는, 고분자 화합물이 충진된 광섬유 기반 방사선량계
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제1항에 있어서,상기 광섬유는 광자 결정 광섬유, 광자 밴드갭 광섬유 및 중공 광섬유 중 어느 하나로 마련되며,상기 광섬유가 광자 결정 광섬유로 마련되는 경우 상기 충진홀은 클래딩 부분에 형성되고, 상기 광섬유가 광자 밴드갭 광섬유로 마련되는 경우 상기 충진홀은 코어 및 클래딩 부분에 형성되며, 상기 광섬유가 중공 광섬유로 마련되는 경우 상기 충진홀은 코어 부분에 형성되는, 고분자 화합물이 충진된 광섬유 기반 방사선량계
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제1항에 있어서,상기 광섬유 방사선 센서부의 일단에 입사광을 인가하여 방사선 조사량에 따른 투과광, 반사광 또는 산란광의 변화 정도를 측정하여 방사선량을 측정하는, 고분자 화합물이 충진된 광섬유 기반 방사선량계
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제5항에 있어서,상기 광섬유 방사선 센서부에 인가되는 상기 입사광의 광원으로, 980 nm 파장대의 CW 및 펄스로 구동되는 레이저 다이오드, 1000~1100 nm 파장대의 YDF 기반 ASE 광원, 1000~1100 nm 파장대의 CW 및 펄스로 구동되는 YDF 기반 광섬유 레이저 시스템, 1000~1100 nm 파장대의 YDFA 기반 MOPA 시스템, 1500~1600 nm 파장대의 EDF 기반 ASE 광원, 1500~1600 nm 파장대의 CW 및 펄스로 구동되는 EDF 기반 광섬유 레이저 시스템, 1500~1600 nm 파장대의 EDFA 기반 MOPA 시스템, 700~800 nm 파장대의 광원으로서 1500~1600 nm 파장대의 EDF 기반 ASE 광원, 광섬유 레이저 및 MOPA 시스템의 출력을 광학 크리스탈로 2차 조화파를 생성한 광원, 1200~2000 nm 파장대의 광섬유 continuum 레이저 시스템 및 1300~1700 nm 파장대의 4 LED 광원 중 어느 하나의 광원이 적용 가능한, 고분자 화합물이 충진된 광섬유 기반 방사선량계
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제5항에 있어서,상기 광섬유 방사선 센서부에서 투과광의 변화 정도를 측정하기 위해 광스펙트럼 분석기(OSA) 및 인터로게이터 시스템 중 어느 하나가 사용되는, 고분자 화합물이 충진된 광섬유 기반 방사선량계
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제1항에 있어서,상기 광섬유 방사선 센서부가 복수 개로 마련되며 병렬로 구성됨으로써 분포형 센서 구조를 갖는, 고분자 화합물이 충진된 광섬유 기반 방사선량계
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제1항에 있어서,상기 방사선 감응성 고분자 화합물은 PMMA(Polymethylmethacrylate), (benzocyclobutene) 또는 PVA(polyvinyl alcohol)인, 고분자 화합물이 충진된 광섬유 기반 방사선량계
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제1항에 있어서,상기 광섬유 방사선 센서부에 사용되는 상기 광섬유는 산화물 유리(oxide glass), 할로젠화물 유리(halide glass), 칼코겐화물 유리(chalcogenide glass) 또는 플라스틱으로 제작되는, 고분자 화합물이 충진된 광섬유 기반 방사선량계
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