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플렉시블 OLED용 광추출 필름 기술

  • 기술번호 : KST2014063183
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 불규칙한 주름 구조를 형성할 수 있는 화합물, 이를 포함하는 조성물, 불규칙한 주름 구조를 포함하는 필름, 이의 형성 방법 및 이를 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다. 본 발명에 따른 화합물을 도포 후 단순 UV 경화 또는 열경화를 통해 간단하게 불규칙한 주름의 표면 구조를 가지는 필름을 형성할 수 있다. 이렇게 형성된 필름을 유기 발광 소자에 적용하면, 유기 발광 소자에서 발생된 광이 불규칙한 주름의 표면에서 산란되어 광도파 또는 전반사가 억제되어 외부로 추출된다. 즉 소자외부에 위치한 무작위 구조물이 광추출 기능을 하여 결과적으로 유기 발광 소자의 광효율이 증가한다.
Int. CL C09K 11/06 (2006.01) C07C 43/166 (2006.01) H01L 51/50 (2006.01)
CPC H01L 51/0034(2013.01) H01L 51/0034(2013.01) H01L 51/0034(2013.01)
출원번호/일자 1020120116706 (2012.10.19)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-1639200-0000 (2016.07.07)
공개번호/일자 10-2014-0016125 (2014.02.07) 문서열기
공고번호/일자 (20160714) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020120081446   |   2012.07.25
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.10.19)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 문제현 대한민국 대전 유성구
2 박승구 대한민국 대전 서구
3 이정익 대한민국 경기 군포시 수리산로 ***, *
4 신진욱 대한민국 인천 남동구
5 조두희 대한민국 대전 유성구
6 황주현 대한민국 서울 양천구
7 주철웅 대한민국 서울 동작구
8 한준한 대한민국 대전 유성구
9 허진우 대한민국 대전광역시 서구
10 안준태 대한민국 대전 중구
11 조남성 대한민국 대전광역시 유성구
12 추혜용 대한민국 대전 유성구
13 유병곤 대한민국 충북 영동군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.10.19 수리 (Accepted) 1-1-2012-0853458-77
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0045352-65
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.10.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0726824-90
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.12.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-1251483-93
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.12.21 수리 (Accepted) 1-1-2015-1251463-80
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.04.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0305857-12
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.05.24 수리 (Accepted) 1-1-2016-0499397-13
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2016.05.24 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0499429-97
10 등록결정서
Decision to Grant Registration
2016.06.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0421920-90
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 1의 구조를 가지는 화합물을 포함하는 조성물로서,003c#화학식 1003e#,상기 화학식 1에서 복수개의 X는 각각 독립적으로 수소 또는 할로겐 원소이며,A는 하기 화학식 2의 구조들 중 선택되는 적어도 하나의 구조를 가지는 가교그룹이며,003c#화학식 2003e#,Y1, Y2, Y3, Y4, Y5, Y6, Y7, Y8, Y9, Y10, Y11, Y12, Y13, Y14, Y15, Y16, Y17, 및 Y18은 각각 독립적으로 부재(absent), O, S, COO, CO, COS, SO2, CONH, 및 NH 중에서 선택되는 어느 하나이며,Zn,n+1은 Yn과 Yn+1 그룹사이에 있는 지방족 또는 방향족 그룹의 반복개수이며,n은 1, 2, 3, 4, 5, 7, 8, 9, 11, 12, 13, 15, 16, 17이며, n=2, 3, 4, 7, 8, 11, 12, 15, 및 16인 경우 Zn,n+1은 0~100의 정수이며, n=1 및 5인 경우 Zn,n+1은 1이고, n=9, 13, 및 17인 경우 Zn,n+1은 0 또는 1 이며, p는 1~10,000의 정수이며, Zn,n+1 이 0인 경우 Yn+1은 부재(absent)인, 불규칙한 주름 구조를 가지는 필름을 형성하기 위한 조성물
2 2
삭제
3 3
제 1항에 있어서,상기 복수개의 X는 각각 독립적으로 수소 또는 불소이고 상기 A는 의 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 조성물
4 4
제 1항에 있어서,상기 화합물은 하기 화학식 3들에서 선택되는 어느 하나의 구조를 가지는 화합물이며,003c#화학식 3003e#상기 화학식 3들에서 q는 0~10000의 정수인 조성물
5 5
제 1항에 있어서,상기 화합물은 0~50℃에서 1~107 cp의 점도를 가지는 액체인 조성물
6 6
제 1 항에 있어서,상기 조성물은 상기 화합물을 경화시키는 경화 개시제를 더 포함하며,상기 경화 개시제는 상기 화합물의 중량과 상기 경화 개시제의 중량을 합한 총 중량에 대하여 0
7 7
제 6 항에 있어서,상기 조성물은 상기 화합물을 희석시키는 용매를 더 포함하되,상기 용매는 상기 조성물의 총 중량에 대하여 1~99 wt
8 8
제 7 항에 있어서,상기 용매는 사이클로펜타논(cyclopentanone), 사이클로헥사논(cyclohexanone), 감마-뷰티로락톤(γ-butyrolactone), 톨루엔, 메탄올, 에탄올, 에틸 에테르, N,N-디메틸 아세트아미드(N,N-dimethyl acetamide), N-메틸 피로디논(N-methyl pyrrodinone), 테트라히드로퓨란(tetrahydrofuran), 에틸 아세테이트(ethyl acetate) 및 헥산(hexane)을 포함하는 그룹에서 선택되는 적어도 하나인 조성물
9 9
제 6 항에 있어서,상기 조성물은 중합 단량체를 더 포함하되,상기 중합 단량체는 상기 조성물의 총 중량에 대하여 0
10 10
제 9 항에 있어서,상기 중합 단량체는 2,3,4,5,6-펜타플루오로 스티렌(2,3,4,5,6-pentafluoro styrene), 디비닐 벤젠(divinyl benzene), 메틸메타아크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 트리플루오로아세트산 알릴 에스테르(trifluoroacetic acid allyl ester), 트리플루오로아세트산 비닐 에스테르(trifluoroacetic acid vinyl ester), 2,2,2-트리플루오로에틸 메타크릴레이트(trifluoroethyl methacrylate), 아크릴산 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필 에스테르(acrylic acid 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl ester), 메타크릴산 1,1,1,3,3,3,-헥사플루오로이소프로필 에스테르(methacrylic acid 1,1,1,3,3,3,-hexafluoroisopropyl ester), 1-펜타플루오로페닐-피롤-2,5-디온(1-pentafluorophenyl-pyrrole-2,5-dione), N -메틸 말레이미드(N-methyl maleimide), N -에틸 말레이미드(N-ethyl maleimide), N -프로필 말레이미드(N-propyl maleimide), N-부틸 말레이미드(N-butyl maleimide), N-터셔리-부틸 말레이미드(N-tert-butyl maleimide), N-펜틸 말레이미드(N-pentyl maleimide) 및 N-헥실 말레이미드(N-hexyl maleimide)를 포함하는 그룹에서 선택되는 적어도 하나인 조성물
11 11
하기 화학식 1의 구조를 가지는 화합물 및 광경화 개시제를 포함하는 조성물을 기판 상에 코팅하는 단계; 및상기 조성물에 대하여 자외선을 조사하여 불규칙한 주름의 표면 구조를 가지는 필름을 형성하는 단계를 포함하는 불규칙한 주름 구조의 필름을 형성하는 방법:003c#화학식 1003e#,상기 화학식 1에서 복수개의 X는 각각 독립적으로 수소 또는 할로겐 원소이며,A는 하기 화학식 2의 구조들 중 선택되는 적어도 하나의 구조를 가지는 가교그룹이며,003c#화학식 2003e#,Y1, Y2, Y3, Y4, Y5, Y6, Y7, Y8, Y9, Y10, Y11, Y12, Y13, Y14, Y15, Y16, Y17, 및 Y18은 각각 독립적으로 부재(absent), O, S, COO, CO, COS, SO2, CONH, 및 NH 중에서 선택되는 어느 하나이며,Zn,n+1은 Yn과 Yn+1 그룹사이에 있는 지방족 또는 방향족 그룹의 반복개수이며,n은 1, 2, 3, 4, 5, 7, 8, 9, 11, 12, 13, 15, 16, 17이며, n=2, 3, 4, 7, 8, 11, 12, 15, 및 16인 경우 Zn,n+1은 0~100의 정수이며, n=1 및 5인 경우 Zn,n+1은 1이고, n=9, 13, 및 17인 경우 Zn,n+1은 0 또는 1 이며, p는 1~10,000의 정수이며, Zn,n+1 이 0인 경우 Yn+1은 부재(absent)임
12 12
제 11 항에 있어서,상기 광경화 개시제는 상기 화합물의 중량과 상기 광경화 개시제의 중량을 합한 총 중량에 대하여 0
13 13
제 11 항에 있어서,상기 자외선을 조사하는 단계는 1~30분 동안 불활성 가스 분위기 또는 진공하에서 진행되는 불규칙한 주름 구조의 필름을 형성하는 방법
14 14
제 11 항에 있어서,상기 자외선을 조사하는 단계 후에,100~300℃에서 열처리하는 단계를 더 포함하는 불규칙한 주름 구조의 필름을 형성하는 방법
15 15
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하기 화학식 1의 화합물이 3차원적으로 가교되어 형성되며, 불규칙한 주름 구조를 가지는 필름으로서,003c#화학식 1003e#,상기 화학식 1에서 복수개의 X는 각각 독립적으로 수소 또는 할로겐 원소이며,A는 하기 화학식 2의 구조들 중 선택되는 적어도 하나의 구조를 가지는 가교그룹이며,003c#화학식 2003e#,Y1, Y2, Y3, Y4, Y5, Y6, Y7, Y8, Y9, Y10, Y11, Y12, Y13, Y14, Y15, Y16, Y17, 및 Y18은 각각 부재(absent), O, S, COO, CO, COS, SO2, CONH, 및 NH 중에서 선택되는 어느 하나의 그룹이며,Zn,n+1은 Yn과 Yn+1 그룹사이에 있는 지방족 또는 방향족 그룹의 반복개수이며,n은 1, 2, 3, 4, 5, 7, 8, 9, 11, 12, 13, 15, 16, 17 이며,n=2, 3, 4, 7, 8, 11, 12, 15, 및 16인 경우 Zn,n+1은 0~100의 정수이며, n=1 및 5인 경우 Zn,n+1은 1이고, n=9, 13, 및 17인 경우 Zn,n+1은 0 또는 1 이며,p는 1~10,000의 정수이며, Zn,n+1 이 0인 경우 Yn+1은 부재(absent)인 필름
25 25
제 24 항에 있어서,상기 주름의 길이는 200~1000nm이며,상기 주름의 깊이는 500~1000nm인 필름
26 26
제 24 항에 있어서,상기 필름은 1
지정국 정보가 없습니다
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2 US20140029267 US 미국 FAMILY
3 US20160168712 US 미국 FAMILY

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