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제1광을 생성하는 제1광원; 상기 제1광원에 비해 광학적으로 기록매체에 더 멀게 배치되어, 상기 제1광과 광축이 서로 나란한 제2광을 생성하는 제2광원; 상기 제1 및 제2광원으로부터 출사된 후 상기 기록매체에서 반사된 상기 제1 및 제2광을 수광하여 광전변환하는 광검출기; 상기 제1 및 제2광원과 상기 기록매체 사이의 광경로상에 배치되어, 상기 제1 및 제2광을 상기 기록매체에 집속시키는 대물렌즈; 및 상기 대물렌즈와 상기 광검출기 사이의 광로상에 마련되는 것으로, 상기 제2광원에서 조사된 제2광을 상기 기록매체 쪽으로 반사시키고 상기 기록매체에서 반사된 상기 제1 및 제2광이 굴절 투과되는 제1면과, 상기 제1면에 대해 소정 각도로 기울어지게 배치되는 것으로 상기 제1면을 굴절 투과한 제1 및 제2광을 재차 굴절 투과시키는 제2면을 구비한 빔스프리터;를 포함하여, 상기 광검출기로 향하는 상기 제1 및 제2광의 색수차가 보정할 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 광픽업장치
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제 1 항에 있어서, 상기 제1면은 상기 제1 및 제2광이 45도로 입사하도록 설정된 것을 특징으로 하는 광픽업장치
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제 1 항에 있어서, 상기 제1면에 상기 제1광의 투과비율이 80%이상인 코팅이 형성된 것을 특징으로 하는 광픽업장치
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제 1 항에 있어서, 상기 제1면에 상기 제2광의 반사 및 투과비율이 실질적으로 50%인 코팅이 형성된 것을 특징으로 하는 광픽업장치
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광원에 전압을 인가하여 제1광 또는 제2광을 출사시키는 제1단계; 출사된 상기 제1광 또는 제2광을 빔스프리터의 제1면에서 반사시킨 후 대물렌즈를 통과하여 기록매체에 집속시키는 제2단계; 상기 기록매체에서 반사된 제1 또는 제2광의 색수차를 보정하기 위해 상기 빔스프리터의 제1면에 대해 소정의 각도로 기울어진 상기 빔스프리터의 제2면에 상기 기록매체로부터 반사된 제1 또는 제2광을 입사시키는 제3단계; 및 상기 제2면에서 출사된 상기 제1 또는 제2광을 광검출기에 집속시키는 제4단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광축보정방법
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제 8 항에 있어서, 상기 제1 및 제2광이 상기 제1면에 대해 45도로 입사하는 것을 특징으로 하는 광축보정방법
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제 8 항에 있어서, 상기 제1면에 상기 제1광의 투과비율이 80%이상인 코팅이 형성된 것을 특징으로 하는 광축보정방법
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제 8 항에 있어서, 상기 제1면에 상기 제2광의 반사 및 투과비율이 실질적으로 50%인 코팅이 형성된 것을 특징으로 하는 광축보정방법
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제1광을 생성하는 제1광원; 상기 제1광원에 비해 광학적으로 기록매체에 더 멀게 배치되어, 상기 제1광과 광축이 서로 나란한 제2광을 생성하는 제2광원; 상기 제1 및 제2광원으로부터 출사된 후 상기 기록매체에서 반사된 상기 제1 및 제2광을 수광하여 광전변환하는 광검출기; 상기 제1 및 제2광원과 상기 기록매체 사이의 광경로상에 배치되어, 상기 제1 및 제2광을 상기 기록매체에 집속시키는 대물렌즈; 및 상기 대물렌즈와 상기 광검출기 사이의 광로상에 마련되어, 상기 제2광원에서 조사된 제2광을 상기 기록매체 쪽으로 반사시키고,상기 기록매체 쪽에서 입사된 제1 상기 대물렌즈와 상기 광검출기 사이의 광로상에 마련되어, 상기 제2광원에서 조사된 광을 상기 기록매체 쪽으로 반사시키고 상기 기록매체 쪽에서 입사된 제1 및 제2광을 굴절 투과시키는 것으로, 상기 제1 및 제2광의 색수차를 보정하도록 서로 다른 굴절률을 가지는 제1층 및 제2층이 서로 평행하게 형성된 빔스프리터;를 구비하는 것을 특징으로 하는 광픽업장치
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제 12 항에 있어서, 상기 빔스프리터는 상기 제1 및 제2광이 45도로 입사하도록 설정된 것을 특징으로 하는 광픽업장치
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14
제 12 항에 있어서, 상기 제1층의 표면에 상기 제1광의 투과비율이 80%이상인 코팅이 형성된 것을 특징으로 하는 광픽업장치
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제 12 항에 있어서, 상기 제1층의 표면에 상기 제2광의 반사 및 투과비율이 실질적으로 50%인 코팅이 형성된 것을 특징으로 하는 광픽업장치
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제 1항 또는 제 12 항에 있어서, 상기 빔스프리터와 상기 대물렌즈 사이의 광경로상에 콜리메이팅 렌즈가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 광픽업장치
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제 제1항 또는 제 12 항에 있어서, 상기 제1광원과 상기 콜리메이팅 렌즈 사이의 광경로상에 큐빅빔스프리터가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 광픽업장치
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제 17 항에 있어서, 상기 제1광원과 상기 큐빅빔스프리터 사이의 광경로상에 회절격자가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 광픽업장치
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광원에 전압을 인가하여 제1광 또는 제2광을 출사시키는 제1단계; 출사된 상기 제1광 또는 제2광을 빔스프리터의 제1층의 표면에서 반사시킨 후 대물렌즈를 통과하여 기록매체에 집속시키는 제2단계; 상기 기록매체에서 반사된 제1광 또는 제2광의 색수차를 보정하기 위해 서로 다른 굴절률을 가지는 제1층 및 제2층이 서로 평행하게 형성된 빔스프리터에 상기 기록매체로부터 반사된 제1광 또는 제2광을 입사시키는 제3단계; 및 상기 제2층에서 출사된 상기 제1광 또는 제2광을 광검출기에 집속시키는 제4단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광축보정방법
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제 19 항에 있어서, 상기 제1 및 제2광이 상기 제1층의 표면에 대해 45도로 입사하는 것을 특징으로 하는 광축보정방법
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제 19 항에 있어서, 상기 제1층의 표면에 상기 제1광의 투과비율이 80%이상인 코팅이 형성된 것을 특징으로 하는 광축보정방법
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제 19 항에 있어서, 상기 제1층의 표면에 상기 제2광의 반사 및 투과비율이 실질적으로 50%인 코팅이 형성된 것을 특징으로 하는 광축보정방법
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