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화소영역 및 스위칭 영역이 정의된 기판과; 상기 스위칭 영역에 형성되며, 게이트 전극, 소스 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터와; 상기 박막 트랜지스터 및 기판 전면에 형성되고, 상기 드레인 전극의 일부가 노출된 제 1 콘택홀을 갖는 보호막과; 상기 화소영역 상의 상기 보호막 상에 형성된 화소전극과; 상기 화소전극 및 기판 전면에 형성되고, 상기 제 1 콘택홀을 관통하는 제 2 콘택홀과, 상기 화소전극의 일부가 노출된 제 3 콘택홀을 갖는 층간 절연막과; 상기 층간 절연막 상에 형성되며, 상기 제 2, 3 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극 및 상기 화소전극과 동시에 접촉하고, 상기 화소영역에 투과홀이 형성된 반사전극 을 포함하는 반사투과형 액정 표시장치의 어레이 기판
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청구항 1에 있어서, 상기 반사전극은 실질적으로 불투명 금속인 반사투과형 액정 표시장치의 어레이 기판
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청구항 1에 있어서, 상기 화소전극은 인듐-틴-옥사이드(ITO), 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 구성된 집단에서 선택된 물질인 반사투과형 액정 표시장치의 어레이 기판
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청구항 1에 있어서, 상기 층간 절연막은 실리콘 산화막, 실리콘 질화막으로 구성된 집단에서 선택된 물질인 반사투과형 액정 표시장치의 어레이 기판
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청구항 1에 있어서, 상기 보호막은 BCB(benzocyclobutene)인 반사투과형 액정 표시장치의 어레이 기판
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화소영역과 스위칭영역이 정의되고, 상기 스위치 영역에 게이트 전극 소스 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터가 형성된 기판을 구비하는 단계와; 상기 박막 트랜지스터가 형성된 기판 상에 제 1 절연막을 형성하는 단계와; 상기 화소영역 상의 상기 제 1 절연막 상에 투명 도전물질을 형성하는 단계와; 상기 투명 도전물질 및 기판의 전면에 걸쳐 제 2 절연막을 증착하고, 상기 드레인 전극 상에 형성된 제 1 절연막과 상기 투면 도전물질 상의 제 2 절연막을 동시에 패터닝하여 상기 드레인 전극의 일부 및 상기 투명 도전물질의 일부가 각각 노출된 제 1, 2 콘택홀을 형성하는 단계와; 상기 제 2 절연막 상에 상기 제 1, 2 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극 및 투명도전물질과 동시에 접촉하고 상기 화소영역에 투과홀이 형성된 반사전극을 형성하는 단계 를 포함하는 반사투과형 액정 표시장치의 어레이 기판 제조방법
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청구항 6에 있어서, 상기 반사전극은 실질적으로 불투명 금속인 반사투과형 액정 표시장치의 어레이 기판 제조방법
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청구항 6에 있어서, 상기 투명 도전물질은 인듐-틴-옥사이드(ITO), 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 구성된 집단에서 선택된 물질인 반사투과형 액정 표시장치의 어레이 기판 제조방법
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청구항 6에 있어서, 상기 투명 도전물질은 인듐-틴-옥사이드(ITO), 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 구성된 집단에서 선택된 물질인 반사투과형 액정 표시장치의 어레이 기판 제조방법
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