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제 1 기판을 제공하는 공정;상기 제 1 기판 상에 블랙 매트릭스를 일렬로 형성하는 공정;상기 블랙 매트릭스 사이에 컬러필터층을 형성하는 공정;상기 컬러필터층 상에 게이트 전극과, 상기 블랙 매트릭스와 교차하여 화소영역을 정의하도록 게이트 배선을 형성하는 공정; 상기 게이트 전극과 상기 게이트 배선 상에 절연막을 형성하는 공정;상기 절연막을 선택적으로 제거하여 콘택홀을 형성하는 공정;상기 게이트전극 상부에 반도체층 및 상기 콘택홀을 통해 상기 블랙 매트릭스와 콘택되는 소스 전극과, 상기 소스 전극과 이격된 드레인전극을 형성하는 공정;상기 드레인 전극과 연결되는 화소전극을 형성하는 공정을 포함하여 형성하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 기판에 대향하도록 제 2 기판을 합착하는 공정;상기 제 1 ,제 2 기판 사이에 액정을 형성하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 3 항에 있어서, 상기 제 2 기판에 공통전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 블랙 매트릭스는 상기 화소전극의 모서리와 오버랩(overlap)되도록 형성하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 블랙 매트릭스는 금속으로 형성하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 컬러필터층을 형성하는 공정 이후, 상기 컬러필터층을 포함한 전면에 절연막을 더 형성하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 1 기판을 제공하는 공정;상기 제 1 기판 상에 게이트 배선 및 게이트 전극을 형성하는 공정;상기 게이트 배선 상에 절연막을 형성하는 공정;상기 게이트 전극 상에 반도체층 및 소스/드레인 전극을 적층하는 공정;상기 게이트 전극과 상기 소스/드레인 전극을 포함한 상부에 보호막을 형성하는 공정; 상기 소스 전극의 일부분이 드러나도록 상기 보호막에 콘택홀을 형성하는 공정; 상기 드레인 전극과 연결되도록 화소전극을 형성하는 공정; 상기 화소전극 상에 절연막을 형성하는 공정;상기 콘택홀을 통하여 상기 소스 전극과 접촉하도록 블랙 매트릭스를 형성하는 공정;상기 블랙 매트릭스 사이에 컬러필터층을 형성하는 공정을 포함하여 형성하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 블랙 매트릭스는 상기 게이트 배선과 교차하도록 형성하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 제 1 기판에 대향하도록 제 2 기판을 합착하는 공정; 상기 제 1 ,제 2 기판 사이에 액정을 형성하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 10 항에 있어서, 상기 제 2 기판에 공통전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 블랙 매트릭스는 상기 화소전극의 모서리와 겹치도록 형성하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 블랙 매트릭스는 금속으로 형성하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 컬러필터층 상에 절연막을 더 형성하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 컬러필터층 상에 절연막을 더 형성하는 것을 특징으로 하는 TFT액정패널의 제조방법
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