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초소형 수직거울의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015026046
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요약 본 발명 초소형 수직거울의 제조방법은 기판(101)의 상면에 식각정지막(102)을 형성하고, 그 식각정지막(102)의 상면에 실리콘 웨이퍼(103)를 접합하며, 그 실리콘 웨이퍼(103)의 상면에 결정방향과 평행한 마스크(104)를 형성하고, 그 마스크(104)가 형성된 실리콘 웨이퍼(103)를 식각하여 바닥면에 대하여 수직한 거울면(105)(105')을 가지는 수직돌출부(106)(106')를 형성하는 방법으로 초소형의 수직거울(200)을 제작함으로써, 거울면(105)(105')이 결정면을 따라 식각되어 형성되기 때문에 정밀하게 형성되고, 그와 같은 초소형 수직거울(200)의 제작을 웨이퍼 레벨에서 대량으로 작업한 후, 최종적으로 개개의 초소형 수직거울로 분리함으로써, 대량으로 제작하는 것이 가능하다.
Int. CL G02B 5/08 (2006.01)
CPC G02B 5/08(2013.01) G02B 5/08(2013.01)
출원번호/일자 1020020065333 (2002.10.24)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-0903296-0000 (2009.06.10)
공개번호/일자 10-2004-0036355 (2004.04.30) 문서열기
공고번호/일자 (20090617) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.10.09)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김성혁 대한민국 서울특별시은평구
2 이영주 대한민국 경기도성남시분당구
3 부종욱 대한민국 경기도성남시분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.10.24 수리 (Accepted) 1-1-2002-0350398-71
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2003.10.16 수리 (Accepted) 4-1-2003-0055522-32
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2007.10.09 수리 (Accepted) 1-1-2007-0724899-33
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2008-5128387-76
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.08.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.09.18 수리 (Accepted) 9-1-2008-0060973-16
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.12.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0652037-74
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.02.10 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2009-0082774-23
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.02.10 수리 (Accepted) 1-1-2009-0082773-88
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.02.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0088391-80
11 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2009.02.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2009-0010208-86
12 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2009.03.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2009-0018474-90
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.04.27 수리 (Accepted) 4-1-2009-5080835-50
14 등록결정서
Decision to grant
2009.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0231040-38
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2009-0023850-26
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판의 상면에 식각정지막을 형성하는 단계; 상기 식각정지막의 상면에 실리콘 웨이퍼를 접합하는 단계; 상기 실리콘 웨이퍼의 상면에 상기 실리콘 웨이퍼의 결정방향과 평행하게 식각 마스크를 형성하는 단계; 상기 식각 마스크가 형성된 실리콘 웨이퍼를 건식 식각하는 단계; 및 상기 건식 식각된 실리콘 웨이퍼를 이방성 습식 식각하여 결정면을 따라 수직하게 형성된 거울면을 가지는 수직돌출부를 형성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 초소형 수직거울의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 기판은, 실리콘 또는 유리 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 초소형 수직거울의 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 식각정지막은, 산화막인 것을 특징으로 하는 초소형 수직거울의 제조방법
4 4
삭제
5 5
제1항에 있어서, 상기 이방성 습식 식각은, 알칼리 수용액에서 실시하는 것을 특징으로 하는 초소형 수직거울의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.