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배향막을 형성하기 위한 이온 빔 조사 장치

  • 기술번호 : KST2015046044
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요약 본 발명은 액정표시장치의 배향막을 배향하기 위한 이온빔 조사장치에 관한 것으로, 본 발명에 따른 이온빔 조사장치는, 기판이 로딩되는 스테이지와, 상기 스테이지와 서로 대면하여 위치하며 이온빔을 발생시키는 이온빔 챔버, 및 상기 챔버에 부착되며 상기 이온빔을 기판 쪽으로 인도하는 슬릿형 배출부를 갖는 슬릿노즐을 포함하여 구성되며, 상기 슬릿노즐은 내면에 음각의 측벽을 가진 이온빔 확산부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.이온빔, 슬릿노즐, 확산부, 공동
Int. CL G02F 1/13 (2006.01) G02F 1/1337 (2006.01)
CPC G02F 1/1337(2013.01) G02F 1/1337(2013.01) G02F 1/1337(2013.01)
출원번호/일자 1020060118612 (2006.11.28)
출원인 엘지디스플레이 주식회사
등록번호/일자 10-1319497-0000 (2013.10.11)
공개번호/일자 10-2008-0048346 (2008.06.02) 문서열기
공고번호/일자 (20131017) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.11.22)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신진수 대한민국 전라남도 여수시 여서로 ***

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.11.28 수리 (Accepted) 1-1-2006-0881194-12
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.18 수리 (Accepted) 4-1-2008-5061241-15
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2011.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2011-0925674-10
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.02.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.03.08 수리 (Accepted) 9-1-2013-0012868-23
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.03.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0199657-74
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.05.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0453165-68
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.05.22 수리 (Accepted) 1-1-2013-0453162-21
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0527634-85
13 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2013.08.23 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2013-0033661-58
14 등록결정서
Decision to grant
2013.09.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0660071-11
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번호 청구항
1 1
기판이 로딩되는 스테이지;상기 스테이지와 대면하여 수직하게 위치하며, 이온빔을 발생시키는 이온빔 챔버; 및상기 이온빔의 진행방향과 일정 각도를 이루도록 형성되어 상기 이온빔 챔버에 부착되며, 상기 이온빔이 상기 기판에 경사지게 조사되도록 상기 이온빔의 진행방향을 조절하는 슬릿형 배출부와, 상기 슬릿형 배출부보다 넓은 단면적으로 형성되어 상기 슬릿형 배출부와 연결되고, 상기 슬릿형 배출부의 길이방향에 수직한 단면의 내측이 곡면으로 형성된 음각의 측벽을 가지는 이온빔 확산부를 갖는 슬릿노즐을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 이온빔 조사장치
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서,상기 측벽은 상기 단면이 원형이 되도록 형성된 것을 특징으로 하는 이온빔 조사장치
5 5
제1항에 있어서,상기 측벽은 상기 단면이 반원 형이 되도록 형성된 것을 특징으로 하는 이온빔 조사장치
6 6
제1항에 있어서,상기 이온빔 챔버는 기체를 이온화시키는 이온빔 소스와;이온화된 기체를 상기 이온빔의 형태로 인출시켜 상기 슬릿노즐 쪽으로 가속되도록 하는 가속수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 조사장치
7 7
제6항에 있어서,상기 이온화된 기체는 아르곤(Ar), 크립톤(Kr), 크세논(Xe) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이온빔 조사장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.