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전기장을 이용한 고분자 필름 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015047667
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 1종 이상의 이온성 고분자 및 용매를 함유하는 고분자 용액을 기판 상에 적용(application)하는 제1단계; 및 기판의 두께 방향으로 전기장을 인가하여 용매를 증발하면서 상기 이온성 고분자를 고화시키는 제2단계를 포함하는, 고분자 필름 제조 방법과, 상기 방법에 의해 제조된 고분자 필름을 제공한다.
Int. CL C08J 3/28 (2006.01) H01M 8/10 (2006.01) C08J 5/18 (2006.01)
CPC C08J 5/18(2013.01) C08J 5/18(2013.01) C08J 5/18(2013.01) C08J 5/18(2013.01)
출원번호/일자 1020070024469 (2007.03.13)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-0963747-0000 (2010.06.07)
공개번호/일자 10-2008-0083805 (2008.09.19) 문서열기
공고번호/일자 (20100614) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.04.28)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신정규 대한민국 대전 유성구
2 박용수 대한민국 대전 서구
3 김은주 대한민국 대전시 유성구
4 장재혁 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 홍원진 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층 (역삼동, 신성빌딩)(특허법인천문)
2 함현경 대한민국 서울시 송파구 법원로 *** 대명타워 *층(한얼국제특허사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.03.13 수리 (Accepted) 1-1-2007-0202199-93
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2008.04.28 수리 (Accepted) 1-1-2008-0301794-28
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.10.27 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.11.10 수리 (Accepted) 9-1-2009-0059730-49
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.11.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0479195-44
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2010-0045501-99
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.01.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0045508-18
8 등록결정서
Decision to grant
2010.05.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0216251-82
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
1종 이상의 이온성 고분자 및 용매를 함유하는 고분자 용액을 전기 전도성 기판 상에 적용(application)하는 제1단계; 및 기판의 두께 방향으로 전기장을 인가하여 용매를 증발하면서 상기 이온성 고분자를 고화시키는 제2단계를 포함하는, 고분자 필름 제조 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 이온성 고분자는 술폰산기(-SO3H)를 함유하는 것이 특징인 고분자 필름 제조 방법
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 기판은 이격 배치된 제1전극과 제2전극 중 어느 한 전극 상에 배치되거나, 제1전극 또는 제2전극인 것이 특징인 고분자 필름 제조 방법
5 5
제1항에 있어서, 제1단계에서 고분자 용액을 기판상에 적용 시 상기 고분자 용액만을 기판 상에 도포하거나, 또는 상기 고분자 용액과 함께 다공성 고분자 기재를 사용하되, a) 상기 기판 상에 다공성 고분자 기재를 놓은 후 상기 다공성 고분자 기재 위에 고분자 용액을 도포하거나, 혹은 b) 상기 다공성 고분자 기재를 고분자 용액에 담궈 코팅한 후 상기 기판 위에 적용하는 것이 특징인 고분자 필름 제조 방법
6 6
제1항에 있어서, 제2단계에서 인가 전압의 범위는 1 내지 200,000V인 것이 특징인 고분자 필름 제조 방법
7 7
제4항에 있어서, 제1전극과 제2전극 사이의 간격은 1 내지 1000mm 인 것이 특징인 고분자 필름 제조 방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 이온성 고분자는 이온 전도성 고분자, 전기 전도성 고분자, 또는 양극성 고분자인 것이 특징인 고분자 필름 제조 방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 이온성 고분자는 퍼플루오르술폰산(PFSA) 고분자 또는 술폰화 탄화수소계 고분자인 것이 특징인 고분자 필름 제조 방법
10 10
제9항에 있어서, 술폰화 탄화수소계 고분자는 술폰화 폴리아릴렌에테르(polyaryleneether, PAE), 술폰화 폴리아릴렌에테르에테르케톤 (polyaryleneetheretherketone, PAEEK), 술폰화 폴리아릴렌에테르에테르설폰 (polyaryleneetherethersulfone, PAEES), 술폰화 폴리아졸(polyazole), 술폰화 폴리비닐알콜(polyvinylalcohol, PVA), 술폰화 폴리(페닐렌 옥사이드)(polyphenylene oxide), 술폰화 폴리(페닐렌 설파이드)(polyphenylene sulfide), 술폰화 폴리설폰, 술폰화 폴리카보네이트, 술폰화 폴리스티렌, 설폰화 폴리이미드, 술폰화 폴리아미드, 술폰화 폴리퀴녹살린, 술폰화 (포스페이티드) 폴리포스파젠 및 술폰화 폴리벤즈이미다졸로 구성된 군에서 선택된 것이 특징인 고분자 필름 제조 방법
11 11
제1항, 제2항 및 제4항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조된 고분자 필름으로서, 상기 고분자 필름은 두께 방향으로 이온 채널이 형성된 것이 특징인 고분자 필름
12 12
제11항에 있어서, 전해질막으로 사용되는 것이 특징인 고분자 필름
13 13
제11항에 있어서, 연료전지의 전해질막으로 사용되는 것이 특징인 고분자 필름
14 14
제1항에 있어서, 상기 제2단계 후, 상기 제2 단계에서 얻은 고분자 필름 상에 다공성 고분자 기재를 적층시키는 단계; 상기 다공성 고분자 기재 상에 상기 고분자 용액을 도포하는 단계; 및 상기 고분자 용액에 기판의 두께 방향으로 전기장을 인가하여 용매를 증발하면서 상기 이온성 고분자를 고화시키는 단계 를 더 포함하는 것이 특징인 고분자 필름 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.