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포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물

  • 기술번호 : KST2015051308
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요약 본 발명은 a)알칼리 가용성 수지; b)감광성 화합물; c)차광성 안료; d)증감제 및 e)유기 용매를 포함하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물로서, 패턴 형성시 노광부와 비노광부의 현상성 차이가 크고, 감도, 해상도 및 CD 선형성(linearity)이 매우 우수하며, 회로 형성 용도로 유용하게 사용할 수 있다. 또한, 카본 블랙을 포함하는 블랙 메트릭스 분야와 포지티브형 기술이 요구되는 동시에 차광성을 주는 재료로 사용할 수 있다.포토레지스트 조성물, 블랙 메트릭스, 감광성 화합물, 카본블랙
Int. CL G03F 7/039 (2006.01)
CPC G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01)
출원번호/일자 1020080007338 (2008.01.24)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1113019-0000 (2012.01.31)
공개번호/일자 10-2009-0081467 (2009.07.29) 문서열기
공고번호/일자 (20120213) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.09.02)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최보윤 대한민국 대전 유성구
2 최현석 대한민국 대전 서구
3 김경준 대한민국 대전 유성구
4 김상국 대한민국 대전 유성구
5 서성우 대한민국 대전 유성구
6 손용구 대한민국 대전 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김희곤 대한민국 대전시 유성구 문지로 ***-*(문지동) *동(웰쳐국제특허법률사무소)
2 김인한 대한민국 서울특별시 서초구 사임당로 **, **층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.01.24 수리 (Accepted) 1-1-2008-0058700-13
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2009.09.02 수리 (Accepted) 1-1-2009-0540647-54
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.01.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.02.18 수리 (Accepted) 9-1-2011-0010628-67
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0197189-92
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.06.10 수리 (Accepted) 1-1-2011-0437632-34
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.06.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0437634-25
8 등록결정서
Decision to grant
2011.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0694126-06
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
알칼리 가용성 수지 1 내지 30중량%, 1,2-디아지도나프토퀴논-4-술포닐클로라이드를 반응시켜 제조한 감광성 화합물 1 내지 10중량%, 차광성 안료 5 내지 30중량%, 증감제 1 내지 20 중량% 및 잔량의 유기 용매를 포함하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
2 2
제 1항에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지는 폴리스티렌 환산 중량평균분자량이 2500 내지 15000인 노볼락 수지인 것을 특징으로 하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
3 3
제 1항에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지는 메타-크레졸과 파라-크레졸 비율이 7:3 내지 3:7인 노볼락 수지인 것을 특징으로 하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
4 4
제 2항에 있어서, 상기 노볼락 수지는 페놀류와 알데히드류의 축합반응으로부터 제조된 것을 특징으로 하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
5 5
제 4항에 있어서, 상기 페놀류는 페놀, 4-t-부틸페놀, 4-t-옥틸페놀, 2-에틸페놀, 3-에틸페놀, 4-에틸페놀, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 2,5-자이레놀, 3,4-자이레놀, 3,5-자이레놀, 2,3,5-트리메틸페놀, 3-메틸-6-t-부틸페놀, 2-나프톨, 1,3-디하이드록시나프탈렌, 및 비스페놀-A로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물임을 특징으로 하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
6 6
제 4항에 있어서, 상기 알데히드류는 포름알데히드, 파라포름알데히드, 아세토알데히드, 벤즈알데히드, 및 페닐알데히드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물임을 특징으로 하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
7 7
제 4항에 있어서, 상기 축합반응은 옥살산, p-톨루엔술폰산, 및 트리클로로아세트산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 유기산; 황산, 염산, 및 인산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 무기산; 또는 염화아연, 염화알루미늄, 초산마그네슘, 및 초산아연으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 금속염 중에서 선택된 1종 이상의 촉매 하에서 반응됨을 특징으로 하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
8 8
제 1항에 있어서, 상기 감광성 화합물은 1,2-디아지도나프토퀴논-4-술포닐클로라이드와 폴리페놀류를 에스테르화 반응시켜 얻어진 것을 특징으로 하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
9 9
삭제
10 10
제 8항에 있어서, 상기 폴리페놀류는 2,3,4-트리하이드록시벤조페논, 2,3,4,4''-테트라하이드록시벤조페논, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2,3,4,3'',4'',5''-헥사하이드록시벤조페논, 4,4''-(1-(4-(1-(4-하이드록시페닐)-1-메틸에틸)페닐)에틸리덴)비스페놀, 비스페놀-A, 메틸갈레이트, 프로필갈레이트, 피로갈롤-아세톤 반응축합물, 페놀 노볼락 수지, m-크레졸 노볼락 수지, p-크레졸 노볼락 수지, 및 폴리비닐페놀 수지로 이루어진 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
11 11
제 8항에 있어서, 상기 에스테르화 반응은 상기 폴리페놀류의 수산기 대비 1,2-디아지도나프토퀴논-4-술포닐클로라이드를 10 내지 90몰% 되도록 반응시키는 것을 특징으로 하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
12 12
삭제
13 13
제 1항에 있어서, 상기 차광성 안료는 카본블랙인 것을 특징으로 하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
14 14
제 1항에 있어서, 상기 증감제는 2,3,4-트리하이드록시벤조페논, 2,3,4,4''-테트라하이드록시벤조페논, 4''-(1-(4-(1-(4-하이드록시페닐)-1-메틸에틸)페닐)에틸리덴)비스페놀, 4,4''-(1-(4-(1-(4-하이드록시페닐)-1-메틸에틸)페닐)에틸리덴)비스페놀, 4-[[4-비스(4-하이드록시페닐)메틸]페닐]-(4-하이드록시페닐)메틸]페놀 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
15 15
제 1항에 있어서, 상기 용매는 케톤류, 글리콜에테르류, 및 아세테이트류로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 것을 특징으로 하는 포지티브형 블랙 포토레지스트 조성물
16 16
제 1항 내지 제 8항, 제 10항, 제 11항, 제 13항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 따른 포지티브형 감광성 수지 조성물에 의해 형성된 블랙 메트릭스
17 17
제 16항에 따른 블랙 메트릭스를 포함하는 컬러필터
18 18
제 17항에 따른 컬러 필터를 포함하는 액정표시소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.