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포지티브형 감광성 수지 조성물

  • 기술번호 : KST2015052878
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요약 본 발명은 폴리아믹산 전구체 100중량부에 대하여 감광성 산발생제 1 내지 50중량부, 산가조절제 10 내지 100중량부, 및 유기용매 200 내지 650중량부로 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 유기절연막 및 반도체 보호막을 제공한다. 본 발명은 폴리아믹산 전구체를 바인더 수지로 사용하고, 여기에 감광성 산발생제, 계면활성제, 유기용매를 포함하며, 특별히 종래 접착력 증진제로 사용되던 실록산계 화합물을 상기 바인더 수지의 산가를 원하는 수준으로 조절할 수 있는 산가조절제로 포함하여 포지티브형 감광성 수지 조성물에서 상기 바인더 수지의 현상성이 증가되어 365nm의 자외선 노광에 대한 감도를 극대화시킬 수 있고, 해상도와 잔막율이 높으며, 기재에 대한 우수한 접착력을 나타낸다. 폴리아믹산, 바인더수지, 산가조절, 포지티브, 감광성, 잔막율
Int. CL G03F 7/039 (2006.01)
CPC G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01) G03F 7/039(2013.01)
출원번호/일자 1020080068529 (2008.07.15)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1113037-0000 (2012.01.31)
공개번호/일자 10-2010-0008117 (2010.01.25) 문서열기
공고번호/일자 (20120227) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.09.02)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정혜원 대한민국 대전광역시 유성구
2 김경준 대한민국 대전광역시 유성구
3 성혜란 대한민국 대전광역시 유성구
4 박찬효 대한민국 대전광역시 유성구
5 오동현 대한민국 대전광역시 유성구
6 신혜인 대한민국 서울특별시 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김희곤 대한민국 대전시 유성구 문지로 ***-*(문지동) *동(웰쳐국제특허법률사무소)
2 김인한 대한민국 서울특별시 서초구 사임당로 **, **층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원)
3 박용순 대한민국 서울특별시 송파구 법원로*길 **, **층 D-****호(문정동)(주심국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.07.15 수리 (Accepted) 1-1-2008-0507495-57
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2009.09.02 수리 (Accepted) 1-1-2009-0540686-24
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.01.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.02.18 수리 (Accepted) 9-1-2011-0010656-35
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0197192-29
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.06.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0441585-25
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.06.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0441586-71
8 등록결정서
Decision to grant
2011.12.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0738473-44
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
폴리아믹산 전구체 100중량부에 대하여 감광성 산발생제 1 내지 50중량부, 산가조절제로서 실록산계 화합물 10 내지 100중량부 및 유기용매 200 내지 650중량부로 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물
2 2
제 1항에 있어서, 상기 폴리아믹산 전구체는 다음 화학식 1로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 포지티브형 감광성 수지 조성물
3 3
제 2항에 있어서, 상기 X는 다음 화합물로 이루어진 그룹에서 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 포지티브형 감광성 수지 조성물
4 4
제 1항에 있어서, 상기 실록산계 화합물은 다음 화합물에서 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 포지티브형 감광성 수지 조성물
5 5
제 1항에 있어서, 상기 감광성 산발생제는 다음 화학식으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 포지티브형 감광성 수지 조성물
6 6
제 1항에 있어서, 상기 유기용매는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로펜타논, 및 사이클로헥사논으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 케톤류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 및 디프로필렌글리콜모노메틸에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택된 글리콜에테르류; 및 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 메틸프로피오네이트, 에틸프로피오네이트, 3-메톡시메틸프로피오네이트, 에틸락테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 및 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 아세테이트류 중에서 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 포지티브형 감광성 수지 조성물
7 7
제 1항에 있어서, 상기 조성물은 비이온성 계면활성제, 실리콘계 계면활성제, 및 불소계 계면활성제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 계면활성제를 더 포함함을 특징으로 하는 포지티브형 감광성 수지 조성물
8 8
제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 따른 포지티브형 감광성 수지 조성물로부터 얻어진 감광성 필름을 포함하는 절연막
9 9
제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 따른 포지티브형 폴리이미드 감광성 수지 조성물로부터 제조된 감광성 필름을 포함하는 반도체 보호막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.