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1
1종 이상의 반응물 공급부;
소정의 회전축을 기준으로 회전 가능하게 이루어져 있고, 상기 반응물 공급부로부터 공급된 반응물의 반응이 진행되는 제 1 디스크;
상기 반응물 공급부로부터 반응물을 이동시켜 상기 제 1 디스크 상에 공급 가능하도록 형성된 반응물 공급로;
상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있으며, 열매체가 형성되어 있는 제 2 디스크;
상기 제 1 디스크 상에서 반응된 생성물을 수집하는 생성물 수집부; 및
상기 회전축 및 제 1 디스크를 회전시키기 위한 구동부를 포함하는 스피닝 디스크 반응 장치
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2
제 1 항에 있어서, 상기 열매체는 상기 제 2 디스크 주위를 감싸도록 형성되어 있는 스피닝 디스크 반응 장치
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3
제 1 항에 있어서, 상기 열매체는 냉각 매체 또는 가열 매체를 포함하는 스피닝 디스크 반응 장치
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4
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 디스크는 상기 제 1 디스크 상에 공급되는 반응물의 공급량에 대응하는 공간만큼 이격되어 상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있는 스피닝 디스크 반응 장치
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5
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 디스크는 상기 제 1 디스크와 동일한 속도로 회전 가능하게 이루어져 있는 스피닝 디스크 반응 장치
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6
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 디스크는 고정되고, 상기 제 1 디스크만 회전 가능하게 이루어져 있는 스피닝 디스크 반응 장치
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| 7 |
7
1종 이상의 반응물 공급부;
소정의 회전축을 기준으로 회전 가능하게 이루어져 있고, 상기 반응물 공급부로부터 공급된 반응물의 반응이 진행되는 제 1 디스크;
상기 반응물 공급부로부터 반응물을 이동시켜 상기 제 1 디스크 상에 공급 가능하도록 형성된 반응물 공급로;
상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있는 제 2 디스크;
상기 제 2 디스크 상에 열매체를 공급 가능하도록 형성되어 있는 열매체 공급부;
상기 제 1 디스크 상에서 반응된 생성물을 수집하는 생성물 수집부; 및
상기 회전축 및 제 1 디스크를 회전시키기 위한 구동부를 포함하는 스피닝 디스크 반응 장치
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8
제 7 항에 있어서, 상기 열매체 공급로는 상기 제 1 디스크를 둘러싼 제 2 디스크 상에 균일한 양으로 열매체를 공급 가능하도록 두 개 이상 형성되어 있는 스피닝 디스크 반응 장치
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9
제 7 항에 있어서, 상기 열매체는 냉각 매체 또는 가열 매체를 포함하는 스피닝 디스크 반응 장치
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10
제 7 항에 있어서, 상기 제 2 디스크는 상기 제 1 디스크 상에 공급되는 반응물의 공급량에 대응하는 공간만큼 이격되어 상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있는 스피닝 디스크 반응 장치
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| 11 |
11
제 7항에 있어서, 상기 제 2 디스크는 상기 제 1 디스크와 동일한 속도로 회전 가능하게 이루어져 있는 스피닝 디스크 반응 장치
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12
제 11 항에 있어서, 상기 제 1 디스크 상에서 발열 반응이 일어나고, 상기 열매체는 흡열 반응을 위한 반응물을 포함하여 상기 제 2 디스크 상에서 흡열 반응이 상기 발열 반응과 동시에 일어나는 스피닝 디스크 반응 장치
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13
제 11 항에 있어서, 상기 제 1 디스크 상에서 흡열 반응이 일어나고, 상기 열매체는 발열 반응을 위한 반응물을 포함하여 상기 제 2 디스크 상에서 발열 반응이 상기 흡열 반응과 동시에 일어나는 스피닝 디스크 반응 장치
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14
제 1항 또는 제7 항에 있어서, 상기 제 1 디스크 또는 제 2디스크 표면에 촉매 또는 개시제가 코팅된 스피닝 디스크 반응 장치
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15
제 1항 또는 제7항에 있어서, 반응 장치의 반응기 외벽 또는 내벽에 반응을 진행시키기 위한 가열수단 및 온도조절수단이 구비되어 있는 반응 장치
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16
제 1 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 반응 장치는 중합반응 또는 에테르화 반응에 사용하는 반응 장치
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17
제 16 항에 있어서, 상기 중합반응은 액상중합반응, 기상중합반응 또는 자유라디칼 중합반응을 포함하는 반응 장치
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