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다중 반투과부를 구비한 하프톤 마스크

  • 기술번호 : KST2015053653
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요약 본 발명은 다중 반투과부를 구비한 하프톤 마스크에 관한 것으로, 특히 투명기판상에 반투과 물질이 적층되어 형성되며, 조사되는 광을 서로 다른 광투과율로 통과시키는 적어도 두 개 이상의 반투과부를 포함하되, 상기 반투과부 중 적어도 어느 하나는 상기 투명기판과의 접촉 면에서 상부로 갈수록 산소(O)농도가 증가하는 구조를 구비하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따르면, 반투과부를 구성하는 반투과물질막에 산화막을 성장하여 경시변화를 통해 일어나는 투과율 상승을 배제하며, 특히 제조공정에서 세정, 에칭 공정에 반투과물질막을 보호할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) G03F 1/38 (2012.01)
CPC G03F 1/38(2013.01) G03F 1/38(2013.01) G03F 1/38(2013.01) G03F 1/38(2013.01)
출원번호/일자 1020110030695 (2011.04.04)
출원인 엘지이노텍 주식회사
등록번호/일자 10-1330793-0000 (2013.11.12)
공개번호/일자 10-2013-0006742 (2013.01.18) 문서열기
공고번호/일자 (20131118) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.04.04)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 대한민국 서울특별시 강서구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 배윤미 대한민국 서울특별시 중구
2 박상욱 대한민국 서울특별시 중구
3 최정모 대한민국 서울특별시 중구
4 성기철 대한민국 서울특별시 중구
5 박재석 대한민국 서울특별시 중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김희곤 대한민국 대전시 유성구 문지로 ***-*(문지동) *동(웰쳐국제특허법률사무소)
2 김인한 대한민국 서울특별시 서초구 사임당로 **, **층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원)
3 박용순 대한민국 서울특별시 송파구 법원로*길 **, **층 D-****호(문정동)(주심국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 서울특별시 강서구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2011-0243396-14
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.06.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.07.20 수리 (Accepted) 9-1-2012-0057819-50
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.02.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0111900-35
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.04.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0346177-28
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.04.19 수리 (Accepted) 1-1-2013-0346176-83
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0569736-17
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.09.23 수리 (Accepted) 1-1-2013-0856965-63
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2013.09.23 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2013-0856970-92
10 등록결정서
Decision to Grant Registration
2013.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0736904-54
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.27 수리 (Accepted) 4-1-2014-0093826-77
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.08 수리 (Accepted) 4-1-2017-5035901-08
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2018-5136723-03
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5011221-01
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
투명기판;상기 투명기판 면이 노출되어 광을 투과시키는 광투과부;와상기 투명기판상에 형성되어 조사되는 소정 파장대의 광을 차단시키는 광차단부;상기 투명기판 표면에 적층되며 조사되는 광을 서로 다른 광투과율로 통과시키는 적어도 두 개 이상의 반투과부;를 포함하되,상기 반투과부를 형성하는 제1반투과물질층 및 제2반투과물질층 내부의 산소(O) 농도가 상기 투명기판과의 접촉 면에서 상부로 갈수록 증가하며,상기 제1반투과부 또는 상기 제2반투과부를 구성하는 반투과물질의 경시변화(ΔT)가 1
2 2
삭제
3 3
청구항 1 에 있어서,상기 반투과부는,상기 제1반투과물질층으로 형성되는 제1반투과부; 와상기 제1반투과물질층을 패터닝하여 노출되는 상기 투명기판 표면에 형성되는 상기 제2반투과물질층으로 형성되는 제2반투과부;를 적어도 1 이상 포함하는,다중 반투과부를 구비한 하프톤 마스크
4 4
청구항 3에 있어서,상기 제1반투과물질층 또는 상기 제2반투과물질층에 산화(Oxidation) 처리가 수행되는,다중 반투과부를 구비한 하프톤 마스크
5 5
청구항 3에 있어서,상기 제1 및 제2반투과물질층은,Cr, Si, Mo, Ta, Ti, Al을 주 원소로 하여, 상기 주 원소 물질 또는 상기 주 원소들 중 적어도 두 개 이상이 혼합된 복합 물질이거나, 상기 주 원소 또는 복합물질에 C0x, Ox, Nx 중 적어도 하나가 첨가된 물질로 형성되는 다중 반투과부를 구비한 하프톤 마스크
6 6
청구항 3에 있어서,상기 제1반투과부는,상기 제1반투과물질층의 표면에 TaO2의 산화처리층이 형성되는 다중 반투과부를 구비한 하프톤 마스크
7 7
청구항 4에 있어서,상기 광차단부는,상기 제1반투과물질층의 상부에 적층되는 차광물질패턴과;상기 차광물질패턴 상부에 적층되는 제2반투과물질층 패턴; 으로 형성되는 하프톤 마스크
8 8
청구항 7에 있어서,상기 차광물질패턴은 Cr 또는 Cr 산화물로 이루어지는 다중 반투과부를 구비한 하프톤 마스크
9 9
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.