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대면적 포토마스크

  • 기술번호 : KST2015063833
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요약 본 발명은 포토마스크에 관한 것으로, 투명기판상에 형성되는 적어도 1 이상의 차광패턴과 상기 차광패턴 사이에 형성되는 제1투과부 및 상기 제1투과부에 비해 상대적로 좁은 폭을 가지는 제2투과부를 구비하며, 상기 제1투과부에 구현되는 0.5~5㎛의 선폭을 가지는 보상패턴이 적어도 1 이상 형성되는 구조를 구비하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따르면, 대면적 포토마스크의 대형 패턴(투광부)의 영역에 보조패턴을 삽입하여 노광량의 균일도를 밸런싱(balancing)하여 패턴 폭에 따른 노광량의 균일도를 향상시킴으로써, 대면적 포토마스크에 구현되는 대형 패턴과 소형 패턴의 선폭(CD)가 다르게 나오는 편차문제를 해소할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) G03F 1/38 (2012.01)
CPC H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01)
출원번호/일자 1020100130412 (2010.12.20)
출원인 엘지이노텍 주식회사
등록번호/일자 10-1293169-0000 (2013.07.30)
공개번호/일자 10-2012-0081660 (2012.07.20) 문서열기
공고번호/일자 (20130812) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.12.20)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 대한민국 서울특별시 강서구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 구찬규 대한민국 서울특별시 중구
2 이용인 대한민국 서울특별시 중구
3 강현욱 대한민국 서울특별시 중구
4 신준식 대한민국 서울특별시 중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김희곤 대한민국 대전시 유성구 문지로 ***-*(문지동) *동(웰쳐국제특허법률사무소)
2 김인한 대한민국 서울특별시 서초구 사임당로 **, **층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원)
3 박용순 대한민국 서울특별시 송파구 법원로*길 **, **층 D-****호(문정동)(주심국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 서울특별시 강서구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.12.20 수리 (Accepted) 1-1-2010-0837068-29
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.05.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.06.25 수리 (Accepted) 9-1-2012-0051603-66
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.01.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0048985-37
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.03.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0256481-60
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.03.25 수리 (Accepted) 1-1-2013-0256485-42
7 등록결정서
Decision to grant
2013.07.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0504068-69
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.27 수리 (Accepted) 4-1-2014-0093826-77
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.08 수리 (Accepted) 4-1-2017-5035901-08
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2018-5136723-03
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5011221-01
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
투명기판상에 형성되는 적어도 1 이상의 차광패턴;상기 차광패턴 사이에 형성되는 제1투과부 및 상기 제1투과부에 비해 상대적으로 좁은 폭을 가지는 제2투과부;상기 제1투과부에 구현되는 0
2 2
청구항 1에 있어서,상기 제1투과부의 폭(a)와 상기 제1투과부를 통해 노광되는 LCD 글라스상의 노광영역의 폭(A)이 동일한 대면적 포토마스크
3 3
청구항 1에 있어서,상기 포토마스크는,상기 제1투과부의 폭(a)과, 상기 제1투과부에 비해 상대적으로 좁은 폭이 형성되는 제2투과부의 폭(b)을 구비하며,상기 제1투과부 및 제2투과부를 통해 노광되는 LCD 글라스 상의 제1노광역역의 폭(A) 및 제2노광역역의 폭(B) 사이에는 하기의 관계가 충족되는 대면적 포토마스크
4 4
청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,상기 보상패턴은,노광기의 해상력보다 낮은 선폭의 패턴으로 구현되는 대면적 포토마스크
5 5
청구항 4에 있어서,상기 보상패턴은,Cr, Ni, Ti, Al, Ta 중 어느 하나, 또는 이들 중 선택되는 물질에 O,N, COx 또는 NOx이 결합한 물질로 구성되는 대면적 포토마스크
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.