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내 흡습성이 우수한 감광성 수지 조성물

  • 기술번호 : KST2015064677
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 내흡습성이 우수한 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 하기 화학식 1로 표시되는 폴리이미드 수지와 하기 화학식 2로 표시되는 폴리이미드 수지 및 광활성 화합물을 포함하는 내흡수성이 우수한 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, 수분흡수율이 낮고, 알카리성 현상액에 대한 용해도가 높아 고감도의 포지티브형 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다.
Int. CL G03F 7/039 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/022 (2006.01)
CPC G03F 7/022(2013.01) G03F 7/022(2013.01) G03F 7/022(2013.01) G03F 7/022(2013.01) G03F 7/022(2013.01) G03F 7/022(2013.01)
출원번호/일자 1020110074712 (2011.07.27)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1431486-0000 (2014.08.12)
공개번호/일자 10-2013-0013202 (2013.02.06) 문서열기
공고번호/일자 (20140820) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.03.27)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김상우 대한민국 대전광역시 유성구
2 신세진 대한민국 대전광역시 유성구
3 김경준 대한민국 대전광역시 유성구
4 정혜원 대한민국 대전광역시 유성구
5 조정호 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.07.27 수리 (Accepted) 1-1-2011-0581793-65
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2012.09.26 수리 (Accepted) 1-1-2012-0785892-40
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2013.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-0265176-50
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.11.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.12.11 수리 (Accepted) 9-1-2013-0100525-76
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.01.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0029581-40
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.03.14 수리 (Accepted) 1-1-2014-0249327-17
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.03.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0249330-55
9 등록결정서
Decision to grant		 2014.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0341970-38
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다음 화학식 1로 표시되는 폴리이미드, 다음 화학식 2로 표시되는 폴리이미드 및 광활성 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물:화학식 1 화학식 2여기서, X1과 X2는 불소원소가 함유된 4가의 유기기이고, X3는 4가의 유기기이고, Y1은 불소원소가 함유된 2가의 유기기이며, Y2 와 Y3는 2가의 유기기이고, 0 003c# p ≤ 1, 0 ≤ q 003c# 1, p+q=1이며, n1과 n2는 각각 2 ~ 500의 정수이고, E1 내지 E4는 고분자 말단이다
2 2
제 1항에 있어서,상기 조성물의 고형분을 기준으로, 상기 화학식 1로 표시되는 폴리이미드 15 ~ 95 중량%; 상기 화학식 2로 표시되는 폴리이미드 2 ~ 80 중량% 및 상기 광활성 화합물 3 ~ 50 중량%을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
3 3
제 1항에 있어서,상기 화학식 1로 표시되는 폴리이미드는 전체 유기기 100 당량을 기준으로 불소원소가 함유된 유기기가 60 ~ 100 당량으로 포함되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
4 4
제 1항에 있어서,상기 화학식 1로 표시되는 폴리이미드의 X1과 X2는 불소원소가 함유된 C6 ~ C60의 4가의 유기기이고, Y1은 불소원소가 함유된 C6 ~ C30의 2가의 유기기이며, Y2 는 C6 ~ C60의 2가의 유기기이고, 상기 화학식 2로 표시되는 폴리이미드의 X3는 C6 ~ C60의 4가의 유기기이고, Y3는 C6 ~ C60의 2가의 유기기인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
5 5
제 1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 폴리이미드의 X1 과 X2 는 각각, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로이소프로필리덴 이무수물, 4,4'-헥사플루오로이소프로필리덴디프탈산 무수물 및 2,2-비스[4-(3,4-디카르복시페녹시)페닐]헥사플루오로프로판 이무수물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 불소원소가 함유된 4가의 유기기인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
6 6
제 1항에 있어서, 상기 화학식 2로 표시되는 폴리이미드의 X3 는 무수 피로멜리트산, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복실산 이무수물, 부탄-1,2,3,4-테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2-디메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-테트라메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물, 3,4-디카르복시-1,2,3,4-테트라히드로-1-나프탈렌 숙신산 이무수물, 5-(2,5-디옥소테트라히드로푸릴)-3-메틸-시클로헥센-1,2-디카르복실산 이무수물, 2,3,5-트리카르복시-2-시클로펜탄 아세트산 이무수물, 바이시클로[2,2,2]옥토-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 2,3,4,5-테트라히드로푸란테트라카르복실산 이무수물, 3,5,6-트리카르복시-2-노르보르난 아세트산 이무수물 및 그 유도체로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 4가의 유기기인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
7 7
제 1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 폴리이미드의 Y1 은 3,5-디아미노벤조트리플루오라이드, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노 바이페닐, 2,2-비스[4-(아미도페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(3-아미노-4-하이드록시페닐)헥사플루오로프로판으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 불소원소가 함유된 2가의 유기기인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
8 8
제1항에 있어서, 상기 화학식 1 및 2로 표시되는 폴리이미드의 Y2 와 Y3는 각각로 이루어진 군에서 선택된 수산기를 포함하는 디아민;로 표시되는 카르복실기를 포함하는 디아민; 3,5-디아미노벤조트리플루오라이드, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2-비스[4-(아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(3-아미노-4-하이드록시페닐)헥사플루오로프로판, 3,5-디아미노벤조산, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4,6-트리메틸-1,3-페닐렌디아민, 2,3,5,6-테트라메틸-1,4-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐설피드, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-메틸렌-비스(2-메틸아닐린), 4,4'-메틸렌-비스(2,6-디메틸아닐린), 4,4'-메틸렌-비스(2,6-디에틸아닐린), 4,4'-메틸렌-비스(2-이소프로필-6-메틸아닐린), 4,4'-메틸렌-비스(2,6-디이소프로필아닐린), 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 벤지딘, o-톨리딘, m-톨리딘, 3,3',5,5'-테트라메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판 및 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판으로 이루어진 군에서 선택된 방향족 디아민; 및1,6-헥사디아민, 1,4-시클로헥산디아민, 1,3-시클로헥산디아민, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 및 4,4'-디아미노-3,3'-디메틸디시클로헥실메탄으로 이루어진 군에서 선택된 지방족 디아민;으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 디아민인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
9 9
제 1항에 있어서, 상기 화학식 1 및 2로 표시되는 폴리이미드의 E1 내지 E4는 각각 4-아미노페놀, N-(4-아미노페닐) 말레이미드, 4-에티닐아닐린, 말레산 무수물, 5-노르보르넨-2,3-디카르복실산 무수물, 1,2-시클로헥산디카르복실산 무수물, n-옥틸숙신산 무수물, 4-티올아닐린, 4-페닐에티닐 프탈릭산 무수물 등으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 고분자 말단인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
10 10
제 1항에 있어서, 상기 광활성 화합물은 o-퀴논디아지드 유도체, 1,2-나프토퀴논 디아지드 유도체, 알릴디아조늄염, 디알릴요오드늄염, 트리알릴술포늄염, o-니트로벤질에스테르, p-니트로벤질에스테르, 트리할로메틸기 치환 s-트리아진 유도체, 이미드술포네이트 유도체 및 하기 화학식들로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물 단독 또는 축합 반응시킨 화합물인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물:상기 e는 반복단위로 1 내지 1000 범위이다
11 11
제 10항에 있어서,상기 축합 반응시킨 화합물은 하기 화학식들로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물:상기 e는 반복단위로 1 내지 1000 범위이며,상기 -OD는 각각 및 -OH 중 선택되는 하나이며,상기 -OD 중 적어도 하나 이상이 또는 이다
12 12
제 1항에 있어서,상기 감광성 수지 조성물은 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, N-비닐피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 디메틸술폭시드, 테트라메틸요소, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸술폭시드, m-크레졸, γ-부티로락톤, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 에틸카르비톨 아세테이트, 부틸카르비톨 아세테이트, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(PGMEA), 젖산에틸, 젖산부틸, 시클로헥사논, 및 시클로펜타논으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 용매를 사용하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
13 13
제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 감광성 수지 조성물에 경화제, 용해 속도 조절제, 증감제, 접착력 증강제 및 계면활성제로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 기타 첨가제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물
14 14
제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 따른 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성된 감광성 필름
15 15
제 14항에 있어서,상기 감광성 필름의 두께는 1 내지 20㎛인 것을 특징으로 하는 감광성 필름
16 16
제 14항에 있어서,상기 감광성 필름은 반도체 소자의 층간 절연막, 패시베이션(passivation) 막, 버퍼코트(buffer coat) 막, 다층프린트 기판용 절연막, OLED의 절연막, 액정표시소자의 박막 트랜지스터의 보호막, 유기 EL 소자의 전극보호막 및 반도체 보호막으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 용도로 사용되는 것을 특징으로 감광성 필름
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.