1 |
1
기판 상에 절연막을 형성하는 단계;상기 절연막 상에 금속 잉크를 도포하는 단계;상기 기판을 열처리하여 상기 절연막 내부로 상기 금속 잉크가 스며들게 하여 상기 절연막 및 상기 금속 잉크를 포함한 보조 전극층을 형성하는 단계; 및상기 보조 전극층 상에 차례로 제 1 전극, 유기발광층, 및 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
|
2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 절연막은 PMMA (Polymethylmethacrylate), PI (Polyimide), PS (Polystyrene), PVP (Polyvinylphenol), 아크릴계 고분자, 및 에폭시계 고분자 중 적어도 하나를 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
|
3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 금속 잉크를 도포하는 단계는 상기 금속 잉크를 상기 절연막 상에 메쉬 그리드 형태로 도포하는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
|
4 |
4
제 1 항에 있어서,상기 금속 잉크는 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 및 그들의 합금 중 적어도 하나를 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
|
5 |
5
제 1 항에 있어서,상기 금속 잉크의 폭은 10㎛ 이상 200㎛ 이하인 유기발광 다이오드의 제조 방법
|
6 |
6
기판 상에 절연막을 형성하는 단계;상기 절연막의 상부면에 트렌치를 형성하는 단계;금속 잉크를 상기 트렌치의 내부에 채워 상기 절연막 및 상기 금속 잉크를 포함하는 보조 전극층을 형성하는 단계; 및상기 보조 전극층 상에 차례로 제 1 전극, 유기발광층, 및 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
|
7 |
7
제 6 항에 있어서,상기 절연막은 PMMA (Polymethylmethacrylate), PI (Polyimide), PS (Polystyrene), PVP (Polyvinylphenol), 아크릴계 고분자, 및 에폭시계 고분자 중 적어도 하나를 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
|
8 |
8
제 6 항에 있어서,상기 트렌치를 형성하는 단계는 임프린트 롤을 이용하여 형성하는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
|
9 |
9
제 6 항에 있어서,상기 트렌치를 형성하는 단계는 상기 트렌치를 상기 절연막에 메쉬 그리드 형태로 형성하는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
|
10 |
10
제 6 항에 있어서,상기 보조 전극층을 형성하는 단계는 닥터 블레이딩(doctor blading) 방법을 이용하여 상기 금속 잉크를 상기 트렌치의 내부에 채우는 단계를 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
|
11 |
11
제 6 항에 있어서,상기 금속 잉크는 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 및 그들의 합금 중 적어도 하나를 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
|
12 |
12
제 6 항에 있어서,상기 금속 잉크의 폭은 10㎛ 이상 200㎛ 이하인 유기발광 다이오드의 제조 방법
|
13 |
13
기판;상기 기판 상에 차례로 적층된 제 1 전극, 유기발광층, 및 제 2 전극; 및상기 기판 및 상기 제 1 전극 사이에 배치된 보조 전극층을 포함하되,상기 보조 전극층은 절연막 및 상기 절연막 내부에 내장된 보조 전극을 포함하는 유기발광 다이오드
|
14 |
14
제 13 항에 있어서,상기 보조 전극층은 평면적 관점에서 메쉬 그리드 형태로 형성된 상기 보조 전극을 포함하는 유기발광 다이오드
|
15 |
15
제 13 항에 있어서,상기 절연막은 PMMA (Polymethylmethacrylate), PI (Polyimide), PS (Polystyrene), PVP (Polyvinylphenol), 아크릴계 고분자, 및 에폭시계 고분자 중 적어도 하나를 포함하는 유기발광 다이오드
|
16 |
16
제 13 항에 있어서,상기 보조 전극은 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 및 그들의 합금 중 적어도 하나를 포함하는 유기발광 다이오드
|
17 |
17
제 13 항에 있어서,상기 보조 전극의 폭은 10㎛ 이상 200㎛ 이하인 유기발광 다이오드
|