진공펌프(2)에 의해 진공상태로 만들어진 진공장치(1)내에 반응기체 주입구(5)를 통해 반응기체를 주입하면서 그 진공장치(1)에 수납된 가공될 기판(4)의 표면에 전자광학장치(3)에 의해 전자선을 조사하는 미세구조 가공장치를 이용하여 고체의 표면에 미세패턴을 형성하는 방법에 있어서, 전자선을 기준 단결에 통과시켜 조사하는 전자광학장치(3)를 이용하여 위상 차이를 갖는 격자상을 형성하는 단계와; 상기 형성된 격자상을 가공하고자 하는 기판(4) 표면에 조사한 후, 선택적 화학증착반응, 초 박막의 감광재료를 이용한 현상-식각공정 및 표면산화막의 부분분해방법중 어느 하나를 이용하여 표면을 가공해서 상기 격자상과 동일한 미세패턴을 형서하는 단계로 이루어져, 일정한 크기와 간격을 가지는 규칙적인 미세구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 전자선 격자상에 의한 미세구조 가공방법

진공펌프(2)에 의해 진공상태로 만들어진 진공장치(1)내에 반응기체 주입구(5)를 통해 반응기체를 주입하면서 그 진공장치(1)에 수납된 가공될 기판(4)의 표면에 전자광학장치(3)에 의해 전자선을 조사하는 미세구조 가공장치에 있어서, 상기 전자광학장치(3)는 전자선을 방출하는 전자선 필라멘트(6) 및 가속망(7)과; 상기 방출된 전자선을 평행하게 집속시키는 집속렌즈(8)와; 상기 집속된 전자선을 위상차이가 나도록 회절시키는 기준 단결정(9)과; 상기 회절된 전자선을 일정한 위치에 각각의 회절점들로 모아주는 대물렌즈(10)와; 그 모아진 회절점들중에서 특정의 회절점을 선택적으로 통과시키는 회절 조리개(11)와; 및 상기 회절조리개를 통과한 회절점속에 포함된 규칙적인 전자선의 결정격자상을 상기 기판(4)에 투영하는 투영렌즈(12)로 구성된 것을 특징으로 하는 전자선 격자상에 의한 미세구조 가공장치

제2항에 있어서, 상기 기준 단결정(9)은 전자선 회절을 일으키기 위해 수십 내지 수백 nm의 균일한 박편을 이용하는 것을 특징으로 하는 전자선 격사장에 의한 미세구조 가공장치