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웨이퍼를 지지하는 스테이지와 상기 웨이퍼 위에 형상을 만들기 위한 마스크와 상기 웨이퍼와 상기 마스크의 사이에 위치하여 상기 웨이퍼 위에 초점을 모으기 위한 투영렌즈를 구비한 정렬장치에 있어서, 제 1 정렬광으로 상기 웨이퍼 위의 제 1 정렬마크를 조명하기 위한 제 1 조명부와; 제 2 정렬광으로 상기 마스크 위의 제 2 정렬마크를 조명하기 위한 제 2 조명부와; 상기 웨이퍼의 상기 제 1 정렬마크로부터 반사된 상기 제1정렬광과 상기 마스크의 상기 제 2 정렬마크로부터 반사된 상기 제 2 정렬광을 결상시키는 결상부와; 상기 결상부에 의해결상된 상을 입력받아 화상 데이터를 처리하여 제어신호를 출력하고 상기 화상 데이타를 화면에 출력하는 화상 처리부; 및 상기 화상처리 및 출력부로부터 제어신호를 입력받아 상기 스테이지를 제어하는 스테이지 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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2
제1항에 있어서, 상기 웨이퍼의 위의 상기 제 1 정렬마크를 조명하는 상기 제1정렬광의 파장과 상기 마스크 위의 상기 제 2 정렬마크를 조명하는 상기 제 2 정렬광의 파장이 서로 다른 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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3
색수차로 인해 확대된 원판 내의 두 개의 작은 원판 크기의 제 1 정렬광과 제 2 정렬광을 마스크 위에 투영렌즈 쪽으로 조사하는 제 1 과정과; 상기 제 1 정렬광과 상기 제2정렬광이 마스크를 농과하여 투영렌즈를 거쳐서 웨이퍼 쪽으로 진행하는 제2과정과; 상기 제1정렬광과 상기 제2정렬광이 상기 웨이퍼 위의 제1정렬마크 위에서 서로 간섭하여 소정의 각도로 회절하면서 반사하는 제3과정과; 상기 웨이퍼로부터 반사되어 상기 웨이퍼와 마스크의 상대적 위치 정보를 실은 정렬광으로부터 투영렌즈 위에서 혹은 마스크 위에서 광검출기로 정렬신호를 추출하는 제 4 과정; 및 상기 정렬광신호를 분석하는 화면상에 출력하고 상기 웨이퍼를 지지하는 스테이지의 위치를 제어하는 제5과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬방법
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4
제1항에 있어서, 상기 제1조명부가, 상기 제 1 정렬광을 조사하기 위한 제1정렬광 조사수단; 및 상기 제1조사수단으로부터 조사된 상기 제 1 정렬광이 상기마스크를 통과하여 상기 웨이퍼 위에 조명되도록 상기 제 1 정렬광의 경로를 조절하는 제 1 정렬광 경로조절수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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5
제1항에 있어서, 상기 제 2 조명부가, 상기 제 2 정렬광을 조사하기 위한 제2정렬광 조사수단; 및 상기 제 2 조사수단으로부터 조사된 상기 제 2 정렬광이 상기 마스크를 통과하여 상기 결상수단에 입력되도록 상기 제 2 정렬광의 경로를 조절하는 제 2 정렬광 경로조절수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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6
제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 제 1 정렬광 조사수단 또는 상기 제 2 정렬광 조사수단이 광섬유 또는 광섬유 다발로 구성되는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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7
제1항에 있어서, 상기 결상부가, 상기 웨이퍼로부터 반사되어 상기 마스크를 통과한 상기 제 1 정렬광을 입력받아 집광하여 결상시키는 보조결상집광수단과; 상기 웨이퍼로부터 반사되어 상기 마스크를 통과한 상기 제 2 정렬광을 입력받아 집광하여 결상시키는 결상집광수단; 및 상기 보조결상집광수단으로 집광된 제 1 정렬광과 상기 결상집광수단으로 집광된 제 2 정렬광은 합하여 결상시켜 상기 화상 처리부에 보내주는 합광수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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8
제7항에 있어서, 상기 보조결상집광수단이 상기 투영렌즈와 결합되어 상기 제1정렬광을 결상시키는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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9
제7항에 있어서, 상기 결상부가, 상기 웨이퍼의 위의 상기 제 1 정렬마크와 상기 마스크 위의 상기 제 2 정렬마크를 따라 관측할 때에 상기 마스크 위의 상기 제 2 정렬마크만을 관측할 수 있도록 하기 위하여 상기 결상부 내의 상기 제 1 정렬광의 경로상에 위치하여, 상기 제 1 정렬광을 차단하기 위한 제 1차단수단; 및 상기 웨이퍼 위의 상기 제 1 정렬마크와 상기 마스크 위의 상기 제 2 정렬마크를 따로 관측할 때에 상기 웨이퍼 위의 상기 제 1 정렬마크만을 관측할 수 있도록 하기 위하여 상기 결상부 내의 상기 제 2 정렬광의 경로상에 위치하여, 상기 제 2 정렬광을 차단하기위한 제2차수단을 더포함하는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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10
웨이퍼를 지지하는 스테이지와 상기 웨이퍼 위에 형상을 만들기 위한 마스크와 상기 웨이퍼와 상기 마스크의 사이에 위치하여 상기 웨이퍼 위에 초점을 모으기 위한 투영렌즈를 구비한 정렬장치에 있어서, 제1정렬광과 제2정렬광으로 상기 웨이퍼 위의 제1정렬마크를 조명하기 위한 조명부와; 상기 마스크를 통과하면서 서로 간섭하고 상기 투영렌즈를 거쳐서 상기 웨이퍼에서 회절하여 반사한 상기 제1정렬광과 상기 제1정렬광을 결상시키기 위한 결상부와; 상기 결상부에 의해 결상된 상을 입력받아 화상 데이터를 처리하여 제어신호를 출력하고 상기 화상 데이터를 화면에 출력하는 화상 처리부 및; 상기 화상처리 및 출력부로부터 제어신호를 입력받아 상기 스테이지를 제어하는 스테이지 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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11
제10항에 있어서, 상기 조명부가, 정렬광을 조사하기 위한 정렬광 조사수단; 및 상기 조사수단으로 부터 조사된 상기 정렬광을 상기 제1정렬광과 이 상기 제2정렬광으로 나누어 상기 제1정렬광과 제2정렬광이 각각 자기의 경로를 따라 상기 마스크를 통과하여 상기 투영렌즈를 거쳐서 상기 웨이퍼 위에 조명되도록 하기 위한 정렬광 경로조절수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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12
제11항에 있어서, 상기 조명부가, 상기 웨이퍼 위에서 간섭하는 제1정렬광이 평행광이 되게 하기 위하여 상기 제 1 정렬광이 상기 투영렌즈의 입사동공에 초점을 모으는 제 1 집광수단; 및 상기 웨이퍼 위에서 간섭하는 제 2 정렬광이 평행광이 되게 하기 위하여 상기 제 2 정렬광이 상기 투영렌즈의 입사동공에 초점을 모으는 제 2 집광수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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13
제10항에 있어서, 상기 제 1 정렬마크와 상기 제 2 정렬마크가 회절격자로 된 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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14
제13항에 있어서, 상기 제 1 정렬마크와 상기 제 2 정렬마크 중에서 하나 이상의 격자의 주기가 간섭무늬 주기와 같거나 정수배가 되는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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15
제10항에 있어서, 상기 웨이퍼가 서로 또는 세로 방향으로 변함에 따라 주기적으로 변하는 정렬신호가 발생하는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치
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16
제3항에 있어서, 상기 제 1 과정이, 정렬광 조사수단이 정렬광을 조사하는 제 1단계와; 상기 정렬광을 제 1 정렬광과 제 2 정렬광으로 나누는 제 2 단계; 및 경로조절수단이 상기 제 1 정렬광과 상기 제 2 정렬광의 경로를 상기 마스크 위에 상기 투영렌즈쪽으로 향하게 하여 상기 제1정렬광과 상기 제2정렬광을 상기 마스크 위에 상기 투영렌즈 쪽으로 진행시키는 제 3 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬방법
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제3항에 있어서, 상기 제 3 과정에서 상기 제 1 정렬광과 상기 제 2 정렬광이 수직으로 회절하는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬방법
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18
제3항에 있어서, 상기 제 3 과정에서 ±1차의 두정렬광이 서로 간섭하여 웨이퍼와 마스크의 상대적 위치정보를 가진 신호광이 되어 반사하는 것을 특징으로 하는 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬방법
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