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하부거울층으로 사용하되 낮은 굴절율을 가진 매질과 높은 굴절율을 가진 매질이 교번하여 형성된 제1거울층과, 상부거울층으로 사용하되 높은 굴절율을 가진 매질과 낮은 굴절율을 가진 매질이 교번하여 형성된 제2거울층과, 상기에 제1거울층과 제2거울층사이에 형성된 복굴절매질로 이루어진 중간층과, 상기 중간층의 양측에 형성된 전극과, 상기 전극에 전원전압을 제공하는 전원을 포함하되, 상기의 제2거울층과 상기의 제1거울층의 반사율이 동일하고, 상기 중간층의 두께 d가 d=(λm)2nfE의 식을 만족하고, 여기서, m은 정수이고, 그리고 E는 상기 중간층의 매질에 인가되는 전계이며, nf는 입사빔의 진행방향에 수직인 평면을 s-축과 f-축으로 표현하는 경우 s-축 방향에 대응하는 매질의 굴절율을 ns라 할 때 f-축 방향에 대응하는 매질의 굴절율인 편광빔분리장치
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제1항에 있어서, 상기의 복굴절매질은 LiNbO3, LiTaO3, KDP, SBN, BaTiO3, ZnS, ADP, GaAs, CdTe, 그리고 InAs등의 전기적 특성을 갖는 매질중에서 하나로 이루어진 편광빔분리장치
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