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폴리머광도파로의유효굴절율을정밀하게조절하기위한후기광표백법

  • 기술번호 : KST2015074730
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 후기 광 표백법을 이용한 광 도파로 소자 제조방법에 관한 것으로서, 이 때, 상기 후기 광표백법이란 폴리머 광 도파로 소자를 제조한 뒤 소자의 출력특성을 측정하면서 자외선을 소자의 전면에 조사하여 광도파로의 유효 굴절률을 미세하고 정확하게 변화시킬 수 있으며, 이를 이용하여 소자의 출력특성이 최적화 되도록 만드는 방법을 말한다. 이러한 후기 광표백법을 이용하여 광도파로 소자를 제조하면, 매우 짧은 길이의 이중 모드 간섭형 소자나 방향성 결합기형 광 스위치의 동작특성을 최적화시킬 수 있다는 장점이 있다.
Int. CL G02B 6/13 (2006.01)
CPC G02B 6/132(2013.01) G02B 6/132(2013.01)
출원번호/일자 1019940030102 (1994.11.16)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0162754-0000 (1998.09.01)
공개번호/일자 10-1996-0019847 (1996.06.17) 문서열기
공고번호/일자 (19990415) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1994.11.16)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오민철 대한민국 대전직할시중구
2 황월연 대한민국 대전직할시유성구
3 정태형 대한민국 대전직할시유성구
4 김장주 대한민국 대전직할시유성구
5 신상영 대한민국 서울특별시강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 원혜중 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 서울빌딩 *층 (역삼동)
3 이화익 대한민국 서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
4 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination
1994.11.16 수리 (Accepted) 1-1-1994-0135960-09
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1994.11.16 수리 (Accepted) 1-1-1994-0135959-52
3 특허출원서
Patent Application
1994.11.16 수리 (Accepted) 1-1-1994-0135958-17
4 출원인정보변경 (경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1997.04.04 수리 (Accepted) 1-1-1994-0135961-44
5 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1997.08.20 수리 (Accepted) 1-1-1994-0135962-90
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1998.02.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0075947-12
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
1998.04.14 수리 (Accepted) 1-1-1994-0135963-35
8 의견서
Written Opinion
1998.04.14 수리 (Accepted) 1-1-1994-0135964-81
9 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent
1998.04.14 수리 (Accepted) 1-1-1994-0135965-26
10 등록사정서
Decision to grant
1998.07.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0075948-57
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1

폴리머 광 도파로 소자를 제조하는 방법으로서, 실리콘 기판을 준비하는 단계; 상기 실리콘 기판위에 클래딩 층을 코팅하는 단계; 상기 클래딩층 위에 이 클래딩층 보다 굴절률이 더 낮은 코아층을 코팅하는 단계; 마스크를 사용하여 상기 코아층의 소정부분에만 자외선을 조사하는 광표백 단계로 이루어진 폴리머 광 도파로 소자 제조방법에 있어서, 상기 자외선을 조사하는 단계 이후에, 광 도파로 소자 상부 표면에 자외선을 조사하여 후기 광표백 영역을 형성함으로써, 상기 광도파로 소자의 전체 또는 일부의 유효 굴절률을 조절하는 후기 광표백 단계가 더 추가되는 것을 특징으로 하는 폴리머 광도파로 소자 제조방법

2 2

제1항에 있어서, 상기 후기 광표백 영역의 두께는 후기 광표백 시간이나 상기 자외선의 세기에 따라 결정되며, 상기 후기 광표백 시간이나 상기 자외선의 세기는 광도파로 소자의 출력특성의 측정값에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 폴리머 광도파로 소자 제조방법

3 3

제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 광 도파로 소자는 이중 모드 간섭형 소자(two mode interference device)이며, 상기 후기 광 표백 단계는 상기 이중모드 간섭형 소자의 제1모드와 제2모드간의 맥놀이 거리를 조절하는 단계인 것을 특징으로 하는 폴리머 광도파로 소자 제조방법

4 4

제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 광 도파로 소자는 방향성 결합기(directional coupler)이며, 상기 후기 광 표백 단계는 상기 방향성 결합기의 초기 천이 상태를 조절하는 단계인 것을 특징으로 하는 폴리머 광 도파로 소자 제조방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.