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기판가열기구

  • 기술번호 : KST2015075142
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체 제조용 장비에 사용되는 기판가열기구로서 반도체 소자 제작시에 웨이퍼 표면의 온도 균일도를 개선할 수 있고 또 가열온도를 정밀하게 제어할 수 있도록 한 기판 가열기구에 관한 것으로 종래의 서셉터는 주로 스테인레스로 제작되어 열전도가 좋지 않기 때문에 성장박막의 균일도에 나쁜 영향을 미치며, 온도차에 의한 변형이 일어나 서셉터와 히터 블록 사이에 틈이 생겨 온도가 불균일하게 되는 등의 문제점이 있었다.본 발명에서는 열전도가 좋아 열균일도가 양호하고 가열온도의 제어가 용이하도록 반도체 소자 제작시 웨이퍼 표면을 가열하는 기판 가열기구로서 내부에 가스를 충전시킬 수 있도록 한 공간부를 갖는 서셉터와 상기 서셉터를 가열하기 위한 가열수단으로서 전면가열이나 부분가열하여도 열 균일도가 양호하도록 함을 특징으로 하는 것이다.
Int. CL H01L 21/265 (2006.01)
CPC H01L 21/67103(2013.01) H01L 21/67103(2013.01)
출원번호/일자 1019950034141 (1995.10.05)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-1997-0023694 (1997.05.30) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1995.10.05)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유병곤 대한민국 대전광역시유성구
2 백종태 대한민국 대전광역시유성구
3 장원익 대한민국 대전광역시유성구
4 김광호 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 원혜중 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 서울빌딩 *층 (역삼동)
3 이화익 대한민국 서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
4 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1995.10.05 수리 (Accepted) 1-1-1995-0137760-55
2 출원심사청구서
Request for Examination		 1995.10.05 수리 (Accepted) 1-1-1995-0137761-01
3 특허출원서
Patent Application		 1995.10.05 수리 (Accepted) 1-1-1995-0137759-19
4 출원인정보변경 (경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1997.04.24 수리 (Accepted) 1-1-1995-0137762-46
5 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1997.08.22 수리 (Accepted) 1-1-1995-0137763-92
6 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent		 1998.04.03 수리 (Accepted) 1-1-1995-0137764-37
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 1998.04.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1995-0072764-73
8 의견서
Written Opinion		 1998.06.30 수리 (Accepted) 1-1-1995-0137766-28
9 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 1998.06.30 수리 (Accepted) 1-1-1995-0137765-83
10 거절사정서
Decision to Refuse a Patent		 1998.08.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1995-0072765-18
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

반도체 제조장치에 의한 반도체 소자 제작시 웨이퍼 표면을 가열하는 기판 가열기구에 있어서, 내부에 공간부(30)를 형성하고, 상기 공간부(30)에 가스를 충전시킬 수 있도록 한 서셉터(10)와; 상기 서셉터(10)를 가열하기 위한 가열수단(20)으로 구성됨을 특징으로 하는 기판 가열기구

2 2

제 1 항에 있어서, 상기 서셉터(10)는 스테인레스 또는 알루미늄(Al), 알루미나(Al2O3)과 같은 원자량이 작은 물질을 사용하여 제작됨을 특징으로 하는 기판 가열기구

3 3

제 1 항에 있어서, 상기 서셉터(10)는 내부식성이 강한 실리콘 카바이드(SiC) 나 Inconel(Ni;80%, Cr;14%, Fe; 6%)을 사용하여 제작됨을 특징으로 하는 기판 가열기구

4 4

제 1 항에 있어서, 서셉터(10)는 충전가스를 입출력시킬 수 있도록 가스주입구(11)와 가스배출구(12)가 각각 설치됨을 특징으로 하는 기판 가열기구

5 5

제 1 항에 있어서, 가열수단은 서셉터(10)의 가장자리 부분만을 국부적으로 가열이 가능하도록 하여 웨이퍼의 회전과 같은 구동기구를 용이하게 부착시킬 수 있도록 함을 특징으로 하는 기판 가열기구

6 6

제 1 항에 있어서, 서셉터(10)는 충전가스를 입출력시켜 압력을 조절하도록 하므로서 온도의 변화속도를 임의로 조절할 수 있도록 함을 특징으로 하는 기판 가열기구

7 7

제 1 항에 있어서, 서셉터(10)에 충전되는 충전가스는 헬리움(He) 가스임을 특징으로 하는 기판 가열기구

8
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.