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이온선 혼합법을 이용한 금속-고분자간 계면접촉력향상방법

  • 기술번호 : KST2015075223
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 이온선 혼합법을 이용한 금속-고분자간 계면접촉력 향상방법에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 이온선 혼합법(ion-mixing)에 의해 질소이온을 가속화시켜 금속이 증착된 고분자 시료에 주입함으로써, 금속과 고분자 사이의 계면접착력(interfacial adhesion)을 대폭적으로 향상시킬 수 있는 방법에 관한 것이다.본 발명의 금속-고분자간 계면접촉력 향상방법은, 이온선 혼합법에 의해 일정전압으로 가속화된 질소이온을 금속이 증착된 고분자로 이루어진 금속-고분자 시료에 주입시키는 단계를 포함한다.이때, 상기한 본 발명의 계면접촉력 향상방법에는 상기한 질소이온 주입단계 이전에 금속과 고분자 사이에 알루미늄으로 이루어진 버퍼(buffer)층을 삽입하는 단계를 추가로 포함하는 것이 바람직하다.
Int. CL H01L 21/265 (2006.01)
CPC H01L 21/265(2013.01) H01L 21/265(2013.01)
출원번호/일자 1019950052666 (1995.12.20)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0160920-0000 (1998.08.20)
공개번호/일자 10-1997-0052134 (1997.07.29) 문서열기
공고번호/일자 (19990201) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1995.12.20)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 황정남 대한민국 서울특별시 은평구
2 강승열 대한민국 서울특별시 은평구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 원혜중 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 서울빌딩 *층 (역삼동)
3 이화익 대한민국 서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
4 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1995.12.20 수리 (Accepted) 1-1-1995-0203789-50
2 출원심사청구서
Request for Examination		 1995.12.20 수리 (Accepted) 1-1-1995-0203791-42
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1995.12.20 수리 (Accepted) 1-1-1995-0203790-07
4 출원인정보변경 (경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1997.04.29 수리 (Accepted) 1-1-1995-0203792-98
5 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1997.08.25 수리 (Accepted) 1-1-1995-0203793-33
6 등록사정서
Decision to grant		 1998.07.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1995-0107510-04
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1

이온선 혼합법에 의해 일정전압으로 가속화된 질소이온을 금속이 증착된 고분자로 이루어진 금속-고분자 시료에 주입시키는 단계를 포함하는 금속-고분자간 계면접촉력 향상방법

2 2

제1항에 있어서, 상기한 질소이온 주입단계 이전에 금속과 고분자 사이에 알루미늄으로 이루어진 버퍼층을 삽입하는 단계가 추가로 포함되는 것을 특징으로 하는 금속-고분자간 계면접촉력 향상방법

3 3

제1항에 있어서, 상기한 질소이온의 주입량은 5×1015 내지 10×1015ions/㎠인 것을 특징으로 하는 금속-고분자간 계면접촉력 향상방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.