1
1
기판 상에 감광막을 형성하는 단계;
감광막이 형성된 기판 상부에 광흡수패턴을 포함하는 X선 마스크를 위치시키는 단계;
상기 X선 마스크를 정해진 속도로 이동시키면서 상기 감광막에 X선을 조사하여 X선 도즈량을 조절하는 단계;
상기 X선 도즈량이 조절된 감광막을 현상하여 현상률 차이로 인해 일단면이 곡면을 갖는 감광막 패턴을 형성하는 단계;
상기 곡면 단면을 갖는 감광막 패턴 상에 금속막을 도금하여 도금 구조물을 형성하는 단계; 및
상기 도금 구조물 내의 감광막 패턴을 제거하여 곡면홈을 갖는 금형을 완성하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광도파로 소자 제조용 금형 제조 방법
7
7
제3항에 있어서, 상기 코아층의 곡면 거울의 기하학적인 관계는
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특허 등록번호
10-0420958-0000
권리란
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표시번호
사항
1
출원 연월일 : 20020516
출원 번호 : 1020020027059
공고 연월일 : 20040302
공고 번호 :
특허결정(심결)연월일 : 20040127
청구범위의 항수 : 7
유별 : G02B 6/13
발명의 명칭 : 곡면 구조를 갖는 금형의 제조방법 및 이를 이용한광도파로 소자의 제조방법
존속기간(예정)만료일 : 20100220
특허권자란
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순위번호
사항
1
(권리자)
한국전자통신연구원
대전 유성구...
등록료란
순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분
금 액
207,000 원
2004년 02월 20일
납입
제 4 년분
금 액
235,000 원
2007년 01월 31일
납입
제 5 년분
금 액
212,000 원
2008년 02월 14일
납입
제 6 년분
금 액
194,000 원
2009년 02월 02일
납입
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번호
서류명
접수/발송일자
처리상태
접수/발송번호
1
특허출원서
2002.05.16
수리 (Accepted)
1-1-2002-0149427-47
2
출원인정보변경(경정)신고서
2002.08.08
수리 (Accepted)
4-1-2002-0065009-76
3
선행기술조사의뢰서
2003.12.12
수리 (Accepted)
9-1-9999-9999999-89
4
선행기술조사보고서
2004.01.13
수리 (Accepted)
9-1-2004-0002245-10
5
등록결정서
2004.01.27
발송처리완료 (Completion of Transmission)
9-5-2004-0024717-56
6
출원인정보변경(경정)신고서
2009.08.04
수리 (Accepted)
4-1-2009-5150899-36
7
출원인정보변경(경정)신고서
2015.02.02
수리 (Accepted)
4-1-2015-0006137-44
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