맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

평판형 열소산 장치

  • 기술번호 : KST2015083544
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 평판형 열소산 장치에 관한 것으로, PC(Personal Computer) 혹은 휴대전화 등과 같은 전자 장치의 내부 부품 등에서 발생하는 열에 의해 생길 수 있는 다양한 문제를 해결하기 위해 이러한 발열소스의 열을 이용해 액체의 상변화를 일으켜 열을 줄이는 장치에 관한 것이다. 구체적으로 액체를 기화하는 하부 플레이트, 상기 하부플레이트의 상면에 결합되고, 상기 하부 플레이트에서 기화된 증기가 통과할 수 있는 통로와 응축된 유체가 상기 하부 플레이트로 흐를 수 있는 통로를 별개로 형성하는 중간 플레이트 및 상기 중간 플레이트의 상면에 결합하고, 상기 기화된 증기를 응축하는 상부 플레이트를 포함한다. 발열, 모세관, 그루브, 발열소스
Int. CL H05K 7/20 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020070126315 (2007.12.06)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0917599-0000 (2009.09.09)
공개번호/일자 10-2009-0059449 (2009.06.11) 문서열기
공고번호/일자 (20090917) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.12.06)
심사청구항수 16

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 문석환 대한민국 대전 서구
2 황건 대한민국 서울 강남구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.12.06 수리 (Accepted) 1-1-2007-0879631-16
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.02.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0068572-25
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.04.14 수리 (Accepted) 1-1-2009-0225010-36
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.04.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0225011-82
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
6 등록결정서
Decision to grant		 2009.08.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0345721-18
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
그루브로 형성된 다채널의 모세관 구조로 이루어지고, 상기 다채널 모세관 구조는 적어도 하나 이상의 단차를 형성하며, 하부에 위치하는 발열소스의 열에 의해 액체를 기화하는 하부 플레이트; 상기 하부플레이트의 상면에 결합되고, 상기 하부 플레이트에서 기화된 증기가 통과할 수 있는 통로와 응축된 유체가 상기 하부 플레이트로 흐를 수 있는 통로를 별개로 형성하는 중간 플레이트; 및 상기 중간 플레이트의 상면에 결합하고, 그루브로 형성된 다채널의 모세관 구조로 이루어지며, 상기 그루브로 형성된 다채널의 모세관 구조에서 응축된 액체가 모이는 액체 집결 그루브를 형성하는 상부 플레이트를 포함하는 평판형 열소산 장치
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 하부 플레이트는 중앙 부분에 진공에 의한 압착을 방지하기 위한 브리지를 형성하는 것을 특징으로 하는 평판형 열소산 장치
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 중간 플레이트는 상기 액체 집결 그루브에 대응하는 위치에 상기 유체가 흐를 수 있는 통로를 형성하는 것을 특징으로 하는 평판형 열소산 장치
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 하부 플레이트는 압착을 방지하기 위한 브리지를 형성하고, 상기 중간 플레이트 및 상기 상부 플레이트는 상기 브리지에 대응하는 위치에 각각 브리지를 구비하는 것을 특징으로 하는 평판형 열소산 장치
9 9
제 1 항에 있어서, 상기 장치는 밀폐되어 진공상태인 것을 특징으로 하는 평판형 열소산 장치
10 10
제 1 항에 있어서, 상기 하부플레이트는 상부면이 소결 윅(wick), 섬유 윅(wick), 스크린 메쉬 윅(screen mesh wick), 파인 섬유 윅(fine fiber wick) 및 우븐 와이어 윅(woven wire wick) 중 적어도 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평판형 열소산 장치
11 11
상부면의 중앙부와 가장자리가 단차를 이루고, 일방향의 복수의 그루브로 형성된 다채널 모세관 구조가 상기 상부면에 형성되어, 하부에 위치하는 발열소스의 열에 의해 액체를 기화하는 하부 플레이트; 상기 하부 플레이트의 상부면의 중앙부에 대응하는 위치에 기화된 증기가 통과하는 통로를 형성하고, 응축된 액체가 상기 하부 플레이트로 흐를 수 있는 액체 유동 통로를 형성하여 상기 하부 플레이트의 상면에 결합하는 중간 플레이트; 상기 중간 플레이트의 상면에 결합하고, 일방향의 복수의 그루브로 형성된 다채널 모세관 구조가 하부면에 형성되고, 상기 그루브에서 응축된 증기가 집결할 수 있는 응축 집결 그루브가 상기 복수 그루브의 직각되는 방향으로 상기 액체 유동 통로에 대응하는 위치에 형성되는 상부 플레이트를 포함하는 평판형 열소산 장치
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 하부 플레이트는 압착을 방지하기 위한 브리지를 중앙부에 형성하고, 상기 중간 플레이트 및 상기 상부 플레이트도 상기 브리지에 대응하는 위치에 브리지를 형성하는 것을 특징으로 하는 상부 플레이트를 포함하는 평판형 열소산 장치
13 13
제 12 항에 있어서, 상기 하부 플레이트와 상기 상부 플레이트의 복수의 그루브가 상기 일방향과 직각되는 방향으로 더 형성되는 것을 특징으로 하는 평판형 열소산 장치
14 14
제 13 항에 있어서, 상기 상부 플레이트는 상기 더 형성된 복수의 그루브에 직각하는 방향으로 액체 집결 그루브를 더 구비하고, 상기 중간 플레이트는 상기 액체 집결 그루브에 대응하는 위치에 액체 유동 통로를 더 형성하는 것을 특징으로 하는 평판형 열소산 장치
15 15
제 11 항에 있어서, 상기 하부 플레이트의 복수의 그루브 사이의 간격은 상기 상부 플레이트의 복수의 그루브 사이의 간격보다 더 조밀한 것을 특징으로 하는 평판형 열소산 장치
16 16
제 11 항에 있어서, 상기 하부 플레이트의 복수의 글루브는 상기 액체 유동 통로에 대응하는 위치까지 형성되는 것을 특징으로 하는 평판형 열소산 장치
17 17
제 11 항에 있어서, 상기 하부 플레이트의 상부면의 중앙부는 압인방식에 의해 형성되고, 상기 다채널 모세관 구조의 그루브는 레이저(Laser) 가공에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 평판형 열소산 장치
18 18
상부면의 중앙부와 가장자리가 단차를 이루고, 일방향의 복수의 그루브로 형성된 다채널 모세관 구조가 상기 상부면에 형성되어, 하부면의 발열소스의 열에 의해 액체를 기화하는 하부 플레이트; 상기 하부 플레이트의 상면에 결합하고, 일방향의 복수의 그루브로 형성된 다채널 모세관 구조가 하부면에 형성되고, 상기 그루브에서 응축된 증기가 집결할 수 있는 응축 집결 그루브가 상기 복수 그루브의 직각되는 방향으로 상기 하부 플레이트의 가장자리에 대응하는 위치에 형성되는 상부 플레이트를 포함하는 평판형 열소산 장치
19 19
제 18 항에 있어서, 상기 하부 플레이트는 중앙부에 압착을 방지하는 브리지를 형성하고, 상기 상부 플레이트는 이에 대응하는 위치에 브리지를 형성하는 것을 특징으로 하는 평판형 열소산 장치
20 20
일방향의 복수의 그루브로 형성된 다채널 모세관 구조가 상부면의 가장자리 안으로 형성되고, 하부면의 발열소스의 열에 의해 액체를 기화하는 하부 플레이트; 상기 하부 플레이트에서 기화된 증기가 통과하는 통로를 형성하고, 응축된 액체가 상기 하부 플레이트로 흐를 수 있는 액체 유동 통로가 상기 복수의 그루브의 방향에 직각하는 방향으로 중간 부분에 형성되어 상기 하부 플레이트의 상면에 결합하는 중간 플레이트; 상기 중간 플레이트의 상면에 결합하고, 일방향의 복수의 그루브로 형성된 다채널 모세관 구조가 하부면에 형성되고, 상기 그루브에서 응축된 증기가 집결할 수 있는 응축 집결 그루브가 상기 복수 그루브의 직각되는 방향으로 상기 액체 유동 통로에 대응하는 위치에 형성되는 상부 플레이트를 포함하는 평판형 열소산 장치
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20100258278 US 미국 FAMILY
2 WO2009072698 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2010258278 US 미국 DOCDBFAMILY
2 WO2009072698 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.