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웨이퍼상에 형성된 적어도 하나 이상의 패드; 및상기 패드의 저면이 노출되도록 상기 웨이퍼를 관통하는 비아홀에 상기 웨이퍼의 저면으로부터 일정한 두께까지 돌출되도록 형성되며, 상기 패드와 서로 마주보도록 접합되는 금속층을 포함하는 칩
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제 1 항에 있어서, 상기 비아홀의 종횡비는 1∼3인 것을 특징으로 하는 칩
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제 1 항에 있어서, 상기 금속층은 구리(Cu)를 이용하여 노출된 상기 패드의 저면으로부터 일정한 두께로 형성된 제1 금속층과 주석/구리(Sn/Cu), 주석(Sn) 및 주석/비스무트(Sn/Bi) 중 어느 하나를 이용하여 상기 제1 금속층상에 상기 웨이퍼의 저면으로부터 일정한 두께까지 돌출되도록 형성된 제2 금속층으로 이루어진 것을 특징으로 하는 칩
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웨이퍼상에 형성된 적어도 하나 이상의 패드와 상기 패드의 저면이 노출되도록 상기 웨이퍼를 관통하는 비아홀에 상기 웨이퍼의 저면으로부터 일정한 두께까지 돌출되도록 형성된 금속층을 포함하는 복수개의 칩이 적층되되,상기 각 칩의 패드와 금속층이 서로 마주보도록 접합되어 적층되는 것을 특징으로 하는 칩 스택
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5
(a) 적어도 하나 이상의 패드가 형성된 웨이퍼의 전체 상부면에 시드금속층을 증착하는 단계;(b) 일정한 두께의 웨이퍼를 형성하도록 상기 웨이퍼의 하부를 제거한 후, 노출된 상기 웨이퍼상에 비아홀 형성용 패턴을 형성하는 단계;(c) 상기 비아홀 형성용 패턴을 식각마스크로 하여 상기 패드의 저면이 노출되도록 상기 웨이퍼를 식각하여 비아홀을 형성하는 단계; 및(d) 노출된 상기 패드의 저면과 서로 마주보도록 접합되어 접촉되도록 상기 비아홀에 상기 비아홀 형성용 패턴보다 작은 두께까지 도금된 금속층을 형성한 후, 상기 시드금속층 및 상기 비아홀 형성용 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 칩의 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 시드금속층은 티탄/구리(Ti/Cu)를 이용하여 스퍼터(sputter) 방법으로 증착하는 것을 특징으로 하는 칩의 제조방법
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7
제 6 항에 있어서, 상기 티탄/구리(Ti/Cu)의 두께는 400Å∼600Å/2000Å∼4000Å인 것을 특징으로 하는 칩의 제조방법
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8
제 5 항에 있어서, 상기 단계(b)에서, 상기 일정한 두께의 웨이퍼는 100㎛ 내지 400㎛로 형성하는 것을 특징으로 하는 칩의 제조방법
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9
제 5 항에 있어서, 상기 단계(b)는,(b-1) 일정한 두께의 웨이퍼를 형성하도록 상기 웨이퍼의 하부를 제거한 후, 노출된 상기 웨이퍼상에 산화막 및 감광막을 순차적으로 형성하는 단계;(b-2) 상기 감광막을 식각하여 비아홀 형성을 위한 감광막 패턴을 형성하는 단계; 및(b-3) 상기 감광막 패턴을 식각마스크로 하여 상기 산화막을 식각한 후, 상기 감광막 패턴을 제거하여 비아홀 형성용 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 칩의 제조방법
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10
제 9 항에 있어서, 상기 단계(b-3)에서, 상기 산화막은 CF4 또는 CHF3를 이용하여 건식 식각법으로 식각하는 것을 특징으로 하는 칩의 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 단계(c)에서, 상기 비아홀은 C4F8, SF6 및 BCl3 가스 중 어느 하나를 이용하여 건식 식각법으로 형성하는 것을 특징으로 하는 칩의 제조방법
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12
제 5 항에 있어서, 상기 단계(d)에서, 상기 금속층은 구리(Cu)를 이용하여 전기도금법으로 상기 패드의 저면으로부터 일정한 두께로 제1 금속층을 형성하고, 주석/구리(Sn/Cu), 주석(Sn) 및 주석/비스무트(Sn/Bi) 중 어느 하나를 이용하여 전기도금법으로 상기 제1 금속층상에 상기 웨이퍼의 저면으로부터 일정한 두께까지 돌출되도록 제2 금속층을 형성하는 것을 특징으로 하는 칩의 제조방법
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