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배면전극이 형성된 기판을 준비하는 단계; 및상기 배면전극 상에 상온 내지 350℃의 기판 온도에서 CIGS계 광흡수층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 CIGS계 광흡수층을 형성하는 단계는 상기 CIGS계 광흡수층에 전자빔을 조사하는 것을 포함하는 태양전지의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 CIGS계 광흡수층은 증발법, 스퍼터링법, 전자선증착법, 전기도금법 또는 코팅법 중 어느 하나로 형성되는 태양전지의 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 증발법, 스퍼터링법 또는 전자선증착법 중 어느 하나는 구리(Cu), 금(Au) 또는 은(Ag) 중 적어도 하나와, 인듐(In), 갈륨(Ga) 또는 알루미늄(Al) 중 적어도 하나, 및 셀레늄(Se) 또는 황(S) 중 적어도 하나를 포함하는 적어도 3종을 금속 타겟으로 사용하여 수행되는 태양전지의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 기판은 유리 기판, 금속 기판 또는 고분자 필름 중 어느 하나로 형성되는 태양전지의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 전자빔은 빔의 방향을 조정하여 2차원적으로 분포되도록 조사되는 태양전지의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 전자빔은 전자총으로 조사되며, 상기 전자총은 이송장치를 통해 회전 또는 평행 이동되는 태양전지의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 CIGS계 광흡수층 상에 전면 투명전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 태양전지의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 CIGS계 광흡수층과 상기 전면 투명전극 사이에 버퍼층을 형성하는 단계를 더 포함하는 태양전지의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 전면 투명전극 상의 일 영역에 반사 방지막을 형성하는 단계; 및상기 반사 방지막의 측면의 상기 전면 투명전극 상에 그리드 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 태양전지의 제조방법
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