| 1 |
1
도파로 영역과 선로 영역으로 구분되는 기판;상기 기판 상에 형성되는 실리카(silica) 소재의 하부 클래드층;상기 선로 영역의 하부 클래드층 상에 형성되는 전송선로부; 및상기 도파로 영역의 하부 클래드층 상에 순차적으로 형성되는 폴리머(polymer) 소재의 높이 조절층, 코어층 및 상부 클래드층; 을 포함하고,상기 코어층에는 광도파로가 형성되는 것을 특징으로 하는하이브리드 집적형 광소자
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서,상기 전송선로부는 임피던스 매칭 저항, 시그널(signal)선과 그라운드(ground)선을 포함하는 전송선로, 능동 광소자의 실장을 위한 솔더 및 플립칩(flip chip) 정렬부호를 포함하는하이브리드 집적형 광소자
|
| 3 |
3
제 2항에 있어서,상기 전송선로는 단일평면도파로(Coplanar Waveguide; CPW)형 또는 마이크로스트립(Microstrip)형인 것을 특징으로 하는하이브리드 집적형 광소자
|
| 4 |
4
제 1항에 있어서,상기 전송선로부 상에 실장되는 능동 광소자; 를 더 포함하고, 상기 능동 광소자의 코어층과 상기 도파로 영역의 코어층은 동일 선상에 위치하는 것을 특징으로 하는하이브리드 집적형 광소자
|
| 5 |
5
제 4항에 있어서,상기 능동 광소자는 포토다이오드, 광변조기, 광증폭기, 광감쇄기 또는 광송신기인 것을 특징으로 하는하이브리드 집적형 광소자
|
| 6 |
6
도파로 영역을 포함하는 제 1 선로 영역과, 제 2 선로 영역으로 구분되는 기판;상기 기판 상에 형성되는 실리카 소재의 하부 클래드층;상기 제 1, 2 선로 영역의 하부 클래드층 상에 각각 형성되는 제 1, 2 전송선로부; 및상기 도파로 영역의 제 1 전송선로부 상에 순차적으로 형성되는 폴리머 소재의 높이 조절층, 코어층 및 상부 클래드층; 을 포함하고,상기 코어층에는 광도파로가 형성되는 것을 특징으로 하는하이브리드 집적형 광소자
|
| 7 |
7
제 6항에 있어서,상기 제 1, 2 전송선로부는 각각 임피던스 매칭 저항, 시그널(signal)선과 그라운드(ground)선을 포함하는 전송선로, 능동 광소자의 실장을 위한 솔더 및 플립칩(flip chip) 정렬부호를 포함하는하이브리드 집적형 광소자
|
| 8 |
8
제 6항에 있어서,상기 제 1, 2 전송선로부 상에 각각 직렬로 실장되는 제 1, 2 능동 광소자; 를 더 포함하고,상기 제 1, 2 능동 광소자의 코어층과 상기 도파로 영역의 코어층은 동일 선상에 위치하는 것을 특징으로 하는하이브리드 집적형 광소자
|
| 9 |
9
제 6항에 있어서,상기 제 1 선로 영역의 하부 클래드층과 상기 제 2 선로 영역의 하부 클래드층은 높이가 서로 다른 것을 특징으로 하는하이브리드 집적형 광소자
|
| 10 |
10
도파로 영역과 선로 영역으로 구분되는 기판 상에 실리카(silica) 소재의 하부 클래드층을 형성하는 단계;상기 선로 영역의 하부 클래드층 상에 전송선로부를 형성하는 단계;상기 전송선로부가 형성된 하부 클래드층 상에 폴리머(polymer) 소재의 높이 조절층 및 코어층을 형성하는 단계;상기 도파로 영역의 코어층의 일부를 식각하여 광도파로를 형성하는 단계;상기 코어층 상에 폴리머 소재의 상부 클래드층을 형성하는 단계; 및상기 전송선로부가 노출되도록 상기 선로 영역의 상부 클래드층, 코어층 및 높이 조절층을 식각하는 단계를 포함하는 하이브리드 집적형 광소자의 제조 방법
|
| 11 |
11
제 10항에 있어서,상기 높이 조절층, 코어층 및 상부 클래드층은 스핀코팅법(spin coating)을 포함하는 저온 폴리머 증착 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는하이브리드 집적형 광소자의 제조 방법
|
| 12 |
12
제 10항에 있어서,상기 전송선로부는 임피던스 매칭 저항, 시그널(signal)선과 그라운드(ground)선을 포함하는 전송선로, 능동 광소자의 실장을 위한 솔더 및 플립칩(flip chip) 정렬부호를 포함하는하이브리드 집적형 광소자의 제조 방법
|
| 13 |
13
제 10항에 있어서,상기 노출된 전송선로부 상에 능동 광소자를 실장하되, 상기 능동 광소자의 코어층과 상기 도파로 영역의 코어층이 동일 선상에 위치하도록 상기 능동 광소자를 실장하는 단계; 를 더 포함하는하이브리드 집적형 광소자의 제조 방법
|
| 14 |
14
도파로 영역을 포함하는 제 1 선로 영역과, 제 2 선로 영역으로 구분되는 기판 상에 실리카(silica) 소재의 하부 클래드층을 형성하는 단계;상기 제 1, 2 선로 영역의 하부 클래드층 상에 각각 제 1, 2 전송선로부를 형성하는 단계;상기 제 1, 2 전송선로부가 형성된 하부 클래드층 상에 폴리머(polymer) 소재의 높이 조절층 및 코어층을 형성하는 단계;상기 도파로 영역의 코어층의 일부를 식각하여 광도파로를 형성하는 단계;상기 코어층 상에 폴리머 소재의 상부 클래드층을 형성하는 단계; 및상기 제 1, 2 전송선로부가 노출되도록 상기 도파로 영역을 제외한 제 1, 2 선로 영역의 상부 클래드층, 코어층 및 높이 조절층을 식각하는 단계를 포함하는 하이브리드 집적형 광소자의 제조 방법
|
| 15 |
15
제 14항에 있어서,상기 높이 조절층, 코어층 및 상부 클래드층은 스핀코팅법(spin coating)을 포함하는 저온 폴리머 증착 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는하이브리드 집적형 광소자의 제조 방법
|
| 16 |
16
제 14항에 있어서,상기 하부 클래드층의 형성 이후에, 상기 제 2 선로 영역의 하부 클래드층 상부를 소정의 깊이만큼 식각하는 단계; 를 더 포함하는하이브리드 집적형 광소자의 제조 방법
|
| 17 |
17
제 14항에 있어서,상기 노출된 제 1, 2 전송선로부 상에 각각 제 1, 2 능동 광소자를 직렬로 실장하되, 상기 제 1, 2 능동 광소자의 코어층과 상기 도파로 영역의 코어층이 동일 선상에 위치하도록 상기 제 1, 2 능동 광소자를 실장하는 단계; 를 더 포함하는하이브리드 집적형 광소자의 제조 방법
|
