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1
제 1 방향으로 제 1 이중 모드 광을, 제 2 방향으로 제 2 이중 모드 광을 제공하는 양방향 광원;상기 제 1 이중 모드 광을 집광하는 전방 렌즈부;상기 전방 렌즈부로부터 집광된 상기 제 1 이중 모드 광을 테라헤르츠파로 변환하여 출력하는 포토믹서부;상기 제 2 이중 모드 광을 집광하는 후방 렌즈부; 및상기 후방 렌즈부로부터 집광된 제 2 이중 모드 광을 광신호로서 출력하는 광출력부를 포함하며,상기 양방향 광원, 상기 전방 렌즈부, 상기 포토믹서부, 상기 후방 렌즈부 및 상기 광출력부는 하나의 하우징 안에 집적되는 테라헤르츠파 발생 모듈
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제 1항에 있어서,상기 제 2 이중 모드 광은 상기 제 1 이중 모드 광과 동일한 파장을 가지는 테라헤르츠파 발생 모듈
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3
제 1항에 있어서,상기 양방향 광원과 상기 전방 렌즈부 사이에 위치하며, 상기 제 1 이중 모드 광의 진행 방향을 일방향으로 조절하는 광 아이솔레이터를 더 포함하는 테라헤르츠파 발생 모듈
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4
제 3항에 있어서,상기 양방향 광원, 상기 광 아이솔레이터, 상기 전방 렌즈부 및 상기 후방 렌즈부는 높이를 조절하기 위한 받침대 위에 형성되며, 상기 높이는 광손실율에 응답하여 결정되는 테라헤르츠파 발생 모듈
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5
제 4항에 있어서, 상기 받침대는 온도 측정을 위한 서모미터를 포함하는 메탈 블록 상에 형성되는 테라헤르츠파 발생 모듈
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6
제 5항에 있어서,상기 메탈 블록은 상기 메탈 블록의 온도를 조절하는 온도 패드 상에 형성되는 테라헤르츠파 발생 모듈
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7
제 1항에 있어서,상기 양방향 광원은제 1 파장의 제 1 광을 양방향으로 출력하는 제 1 레이저; 및상기 제 1 레이저와 일직선상에 집적되며, 제 2 파장의 제 2 광을 양방향으로 출력하는 제 2 레이저를 포함하는 테라헤르츠파 발생 모듈
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8
제 7항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 레이저는 DFB(Distributed Feedback) 레이저이며,상기 제 1 및 제 2 레이저는 파장을 제어하기 위한 마이크로 히터가 각각 집적 및 연결되는 테라헤르츠파 발생 모듈
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9
제 1항에 있어서,고주파를 상기 양방향 광원에 제공하기 위한 커넥터를 더 포함하며,상기 제 1 이중 모드 광은 상기 고주파에 응답하여 변조되는 테라헤르츠파 발생 모듈
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10
제 1항에 있어서,상기 전방 렌즈부는 상기 양방향 광원으로부터 제공된 제 1 이중 모드 광을 평행광으로 변환하는 제 1 평행빔형 비구면 렌즈; 및상기 평행광을 상기 포토믹서부로 집속하는 제 2 평행빔형 비구면 렌즈를 포함하는 테라헤르츠파 발생 모듈
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11
제 1항에 있어서,상기 전방 렌즈부는 상기 양방향 광원으로부터 제공된 제 1 이중 모드 광을 집속광으로 변환하여 상기 포토믹서부로 집속하는 제 1 집속형 비구면 렌즈를 포함하는 테라헤르츠파 발생 모듈
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12
제 1 방향으로 제 1 파장 및 제 2 파장을 가지는 제 1 이중 모드 광을 제공하고, 제 2 방향으로 제 1 파장을 가지는 제 1 단일 모드 광 및 제 2 파장을 가지는 제 2 단일 모드 광을 제공하는 양방향 광원;상기 제 1 이중 모드 광을 집광하는 전방 렌즈부;상기 전방 렌즈부로부터 집광된 상기 제 1 이중 모드 광을 테라헤르츠파로 변환하여 출력하는 포토믹서부;상기 제 1 및 제 2 단일 모드 광을 집광하는 후방 렌즈부; 및상기 후방 렌즈부로부터 집광된 제 1 및 제 2 단일 모드 광을 검출하는 광 검출부를 포함하며,상기 양방향 광원, 상기 전방 렌즈부, 상기 포토믹서부, 상기 후방 렌즈부 및 상기 광 검출부는 하나의 하우징 안에 집적되는 테라헤르츠파 발생 모듈
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13
제 12항에 있어서,상기 양방향 광원은Y분기형 선로의 제 1 노드 상에 집적되며, 제 1 파장의 제 1 단일 모드 광을 양방향으로 출력하는 제 1 레이저; 및상기 Y분기형 선로의 제 2 노드 상에 집적되며, 제 2 파장의 제 2 단일 모드 광을 양방향으로 출력하는 제 2 레이저를 포함하고,상기 제 1 및 제 2 단일 모드 광은 상기 Y분기형 선로의 제 3 노드에서 결합되어 상기 제 1 이중 모드 광으로 출력되는 테라헤르츠파 발생 모듈
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14
제 13항에 있어서,상기 제 3 노드에 결합되는 Y분기형 선로는 두 개의 선로로 집적되며, 상기 제 1 이중 모드 광은 상기 두 개의 선로를 통해 출력되는 테라헤르츠파 발생 모듈
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15
제 12항에 있어서,상기 광 검출부는상기 제 1 및 제 2 단일 모드 광을 필터링하는 광 필터 쌍; 및상기 필터링된 제 1 및 제 2 단일 모드 광을 검출하는 광 검출기 쌍을 포함하는 테라헤르츠파 발생 모듈
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16
제 12항에 있어서,상기 포토믹서부는 적어도 하나의 전극 패드를 포함하고, 광에 응답하여 테라헤르츠파를 발생시키는 포토믹서 칩;상기 전극 패드에 전력을 공급하기 위한 적어도 하나의 솔더 패드를 포함하며, 상기 포토믹서 칩을 고정하는 서브 마운트;상기 서브 마운트의 솔더 패드와 연결되는 동축 케이블;상기 포토믹서 칩, 상기 서브 마운트 및 상기 동축 케이블을 고정하고, 상기 포토믹서 칩으로부터 생성되는 열을 방출하는 포토믹서 바디; 및상기 포토믹서 바디에 부착되고, 상기 테라헤르츠파의 방향을 제어하여 출력하는 실리콘 렌즈를 포함하는 테라헤르츠파 발생 모듈
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제 16항에 있어서,상기 포토믹서 칩은광에 응답하여 광전류를 발생시키는 활성층; 및상기 광전류에 응답하여 테라헤르츠파를 방사하는 안테나를 포함하는 테라헤르츠파 발생 모듈
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18
제 1 방향으로 제 1 파장 및 제 2 파장에 해당되는 테라헤르츠파를 제공하고, 제 2 방향으로 상기 테라헤르츠파에 해당되는 파장의 이중 모드 광신호를 제공하며, 상기 테라헤르츠파 및 상기 광신호는 고주파에 응답하여 변조되는 테라헤르츠파 발생 모듈;상기 이중 모드 광신호를 모니터링하는 모니터링 모듈; 및상기 이중 모드 광신호를 이용하여 상기 테라헤르츠파를 검출하는 검출 모듈을 포함하는 테라헤르츠파 검출 장치
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제 18항에 있어서,상기 모니터링 모듈은상기 제 1 파장 및 상기 제 2 파장에 대하여 각각 다른 필터 특성을 가지는 적어도 하나의 광 필터; 및상기 광 필터를 투과한 광을 검출하여 상기 이중 모드 광신호를 모니터링하는 적어도 하나의 광 검출기를 포함하는 테라헤르츠파 검출 장치
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제 18항에 있어서,상기 검출 모듈은상기 이중 모드 광신호를 상기 테라헤르츠파의 위상에 응답하여 지연하는 지연기; 상기 지연된 이중 모드 광신호를 증폭하는 광 증폭기; 및상기 증폭된 이중 모드 광신호를 이용하여 상기 테라헤르츠파를 호모다인 방식으로 검출하는 검출기를 포함하는 테라헤르츠파 검출 장치
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