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기판; 상기 기판 상부의 일 영역에 하부 클래드층, 도파로가 패턴된 중심 코아층 및 상부 클래드층이 적층된 광도파로; 상기 기판 상부의 다른 영역에 상기 하부 클래드층을 패터닝하여 형성된 테라스; 상기 테라스 상부에 형성된 금속 및 솔더; 및 상기 금속 및 솔더를 포함한 상기 테라스 상부에 실장된 광소자를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼
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제 1 항에 있어서, 상기 테라스는 상기 기판 상부에 형성된 상기 상부 클래드층, 중심 코아층 및 하부 클래드층의 소정 영역을 식각하여 형성된 트렌치내에 형성되는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼
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제 1 항에 있어서, 상기 트렌치내에 상기 테라스를 형성할 때 광소자 정렬을 위한 정렬키를 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼
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기판 상부에 하부 클래드층 및 중심 코아층을 적층하고 상기 중심 코아층을 패터닝하여 코아를 형성한 후 상부 클래드층을 형성하여 광도파로를 형성하는 단계; 상기 상부 클래드층 상부의 소정 영역에 제 1 마스크층을 형성한 후 이를 마스크로 상기 상부 클래드층, 중심 코아층 및 하부 클래드층의 소정 영역을 식각하여 트렌치를 형성하는 단계; 상기 트렌치내의 상기 하부 클래드층 상부의 소정 영역에 제 2 마스크층을 형성한 후 이를 마스크로 상기 하부 클래드층을 소정 깊이로 식각하여 테라스를 형성하는 단계; 상기 제 1 및 제 2 마스크층을 제거한 후 상기 테라스상에 솔더 패더 및 전선 형성을 위한 금속막을 형성하는 단계; 및 상기 솔더 패더를 형성하기 위한 금속막 상부에 솔더를 형성한 후 용융시켜 광소자를 실장하고, 금속선을 이용하여 전극에 접속시키는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼 제조 방법
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제 4 항에 있어서, 상기 하부 클래드층, 중심 코아층 및 상부 클래드층은 굴절률이 조절된 실리카막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼 제조 방법
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제 4 항에 있어서, 상기 트렌치는 건식 식각 공정에 의해 형성되며, 상기 광소자의 출력과 상기 광도파로 코아의 중심이 수직 방향으로 정렬되도록 그 깊이를 조절하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼 제조 방법
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7
제 4 항에 있어서, 상기 트렌치를 형성하여 노출되는 상기 광도파로의 측벽은 표면 조도를 파장의 1/10 보다 작게 하여 광학적으로 거울면이 형성되도록 하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼 제조 방법
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제 4 항에 있어서, 상기 금속막은 Ti/Pt/Au 또는 Ti/Ni/Au 금속막을 순차적으로 열증착 또는 전자빔 증착 방법에 의하여 형성하고, 리프트-오프 방법을 패터닝하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼 제조 방법
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9
제 4 항에 있어서, 상기 솔더는 InPb, PbSn 또는 AuSn 등의 합금으로 형성하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼 제조 방법
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10
제 4 항에 있어서, 상기 광소자의 실장시 상기 광소자의 중심축과 상기 광도파로의 중심축을 정렬하되, 수직 방향으로의 정렬은 상기 트렌치의 식각 깊이로 정렬하고, 수평 방향으로의 정렬은 상기 테라스 식각시 형성되는 정렬키와 상기 광소자에 형성된 정렬키를 사용하여 정렬하는 것을 특징으로 하는 광도파로 플랫폼 제조 방법
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