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기판과, 이 기판상에 형성된 하부거울층으로 사용하되 낮은 굴절율을 가진 매질과 높은 굴절율을 가진 매질이 교번하여 형성된 제1거울층과, 상부거울층으로 사용하되 높은 굴절율을 가진 매질과 낮은 굴절율을 가진 매질이 교번하여 형성된 제2거울층과, 상기 제1거울층과 제2거울층사이에 형성된 커어 매질로 이루어진 중간층을 포함하되, 상기의 제2거울층에 대해 상기의 제1거울층의 반사율은 상대적으로 높게 형성되고, 상기 중간층의 초기위상값이 mπ+tπ로 되는 상기 중간층의 두께가 설정되며, 여기서 m은 정수이고 그리고 t는 0
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제1항에 있어서, 상기의 하부거울층으로 사용되는 제1거울층의 반사율을 100%로 설정되어 있고 상기의 상부거울층으로 사용되는 제2거울층의 반사율은 90% 내지 99%의 범위로 설정되어 있는 파장분할역다중화소자
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제1항에 있어서, 상기 거울층에 있는 상기 굴절율이 높은 매질은 그 광학적 두께가 신호빔의 파장의 1/4인 파장분할역다중화소자
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제1항에 있어서, 상기의 커어매질은 3차 비선형물질인 파장분할역다중화소자
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제4항에 있어서, 상기의 3차 비선형물질은 Y3Fe5O12 GdTbFe, TbFeCo, AgInSbTe, EuFeO3, GdFeO3, FeF3, FeBO3, Co, MnBi, MgFe2O4, GaAs, InAs 그리고 As2S3중에서 하나로 이루어진 파장분할역다중화소자
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제1항에 있어서, 상기의 기판은 상기의 중간층의 커어매질의 종류에 따라 유리, 수정(Quartz), SiO2, 퓨즈드 실리카(Fused Silica), 그리고 폴리머(Polymer)중에서 하나로 이루어진 파장 파장분할역다중화소자
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제1항에 있어서, 상기의 상부 및 하부거울층에 사용되는 적층의 물질로서 PbTe/ZnS, ZnS/MgF2, ZnS/Na3 AlF6 중 하나인 파장분할역다중화소자
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파장이 상이한 복수의 빔이 다중화된 신호빔과 이 복수의 빔 감각에 대해 편광이 45도의 차를 갖는 복수의 편광빔으로 이루어져 있는 편광제어빔을 발생하는 빔발생수단과, 상기 신호빔과 상기 편광제어빔을 받아 투과된 신호빔이 편광회전되면서 반사되는 빔을 반사하는 빔분리수단과, 상기 빔분리수단을 거쳐 입사되는 신호 빔이 상기 편광 제어빔에 의해 발생되는 커어효과로 인한 간섭으로 상기 입사된 신호빔의 x성분의 편광을 90도 회전시켜 반사되게 하여 상기 빔분리수단으로 제공하는 파장분할역다중화소자와, 상기 빔분리수단에서 반사된 빔을 받아서 상기 편광 제어빔의 세기에 특정한 파장을 갖는 빔사빔만을 투사하도록 하는 광분해기를 포함하는파장분할역다중화 소자를 사용하는 시스템
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