요약 | 본 발명은 광소자용 채널도파로의 제조방법에 있어서, 채널도파로 식각률을 높일 수 있고, 균일한 식각률 및 높은 생산성을 얻을 수 있는 채널도파로 제조 방법을 제공한다.본 발명은 채널 도파로의 식각률과 식각 균일성을 높이기 위해, 채널도파로 형성용 물질층의 패터닝시 채널도파로의 양측 일부 영역만을 소정의 폭으로 제거하여 갭을 형성하고, 채널도파로 형성영역이외의 부분의 채널도파로 형성용 물질층을 그대로 남겨 다아크 필드를 형성한다.이와 같이 채널도파로의 측면 일부영역만을 제거하여 채널도파로를 형성하는 것에 의해 식각되는 영역이 종래의 기술에 비하여 감소되므로 채널도파로를 식각하기 위한 공정시간을 감소시켜 생산성을 향상시킬 수 있을뿐만아니라 소자내의 식각 균일도를 높여 광소자의 광특성을 향상시킬 수 있다. |
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Int. CL | G02B 6/136 (2006.01) |
CPC | G02B 6/136(2013.01) G02B 6/136(2013.01) G02B 6/136(2013.01) |
출원번호/일자 | 1019970071606 (1997.12.22) |
출원인 | 한국전자통신연구원 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-1999-0052157 (1999.07.05) 문서열기 |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 거절 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (1997.12.22) |
심사청구항수 | 1 |