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초격자 도파로 구조를 갖는 파장가변 반도체 광여과기

  • 기술번호 : KST2015102378
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 초격자(superlattice) 도파로 구조를 갖는 파장가변 반도체 광여과기에 관한 것으로, 특히 파장분할 다중 방식(Wavelength Division Multiplexing: 이하, 'WDM'이라 한다)의 광통신에 사용되는 파장선택성을 갖는 광여과기(Optical Tunable Filter)에 관한 것이다. 본 발명에 따른 반도체 광여과기는, n형 InP 기판(1)과, 그 위에 두께 0.5∼1㎛로 적층된 n형 InP 성장완충층(2)과, 그 위에 InGaAsP 장벽층(3a)과 InGaAsP 우물층(3b)이 교대로 적층 형성된 InGaAsP/InGaAsP 초격자구조의 제 1 광도파로층(3)과, 그 위에 두께 0.5∼1.5㎛로 적층된 n형 또는 p형 InP층(4)과, 그 위에 두께 0.05∼0.2㎛로 적층되고 10∼20㎛의 주기를 갖도록 공간적으로 제한된 n형 또는 p형 InGaAsP 회절격자층(5)과, 그 위에 두께 0.1∼1.0㎛로 적층된 n형 또는 p형 InP층(6)과, 그 위에 두께 0.2∼3㎛로 적층되고 1∼5㎛의 폭과 3∼10㎜의 길이를 갖도록 공간적으로 제한된 p형 InGaAsP 제 2 광도파로층(7)과, 그 위에 두께 1∼3㎛로 적충된 p형 InP 클래드층(8)과, 그 위에 두께 0.05∼0.3㎛로 적충된 p형 InGaAsP 오믹 접촉층(9)으로 구성된 웨이퍼 상에, 상기한 제 2 광도파로층(7)보다 1∼10㎛ 더 넓은 창폭을 갖도록 적층된 실리콘 나이트라이드(SINx) 또는 이산화 규소(SiO2)와 같은 유전체층(10)과, 그 위에 적층된 p형 전극금속층(11) 및 상기한 기판(1) 아래에 형성된 n형 전극금속층(12)으로 이루어진다.
Int. CL H01L 33/00 (2014.01)
CPC H01L 33/58(2013.01) H01L 33/58(2013.01) H01L 33/58(2013.01)
출원번호/일자 1019960066279 (1996.12.16)
출원인 한국전자통신연구원, 주식회사 케이티
등록번호/일자 10-0216528-0000 (1999.05.31)
공개번호/일자 10-1998-0047765 (1998.09.15) 문서열기
공고번호/일자 (19990816) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1996.12.16)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주식회사 케이티 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박찬용 대한민국 대전광역시 유성구
2 이승원 대한민국 대전광역시 유성구
3 김덕봉 대한민국 부산광역시 동구
4 오광룡 대한민국 대전광역시 유성구
5 김홍만 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 이화익 대한민국 서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
3 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 케이티 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination
1996.12.16 수리 (Accepted) 1-1-1996-0220506-35
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1996.12.16 수리 (Accepted) 1-1-1996-0220505-90
3 특허출원서
Patent Application
1996.12.16 수리 (Accepted) 1-1-1996-0220504-44
4 출원인정보변경 (경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1997.04.03 수리 (Accepted) 1-1-1996-0220507-81
5 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1997.08.27 수리 (Accepted) 1-1-1996-0220508-26
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.20 수리 (Accepted) 4-1-1999-0010652-29
7 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent
1999.03.12 수리 (Accepted) 1-1-1999-5109443-73
8 등록사정서
Decision to grant
1999.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-1999-0104981-61
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2000-0005008-66
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.04.09 수리 (Accepted) 4-1-2002-0032774-13
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.03.13 수리 (Accepted) 4-1-2009-5047686-24
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2010-5068437-23
16 출원인정보변경(경정)신고서
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2012.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2012-5005621-98
17 출원인정보변경(경정)신고서
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2012.03.21 수리 (Accepted) 4-1-2012-5058926-38
18 출원인정보변경(경정)신고서
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2012.06.08 수리 (Accepted) 4-1-2012-5122434-12
19 출원인정보변경(경정)신고서
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2013.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2013-5106568-91
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018159-78
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

반도체를 이용한 광여과기에 있어서, n형 InP 기판과, 상기한 n형 InP 기판 위에 적층된 n형 InP 성장완충층과, 상기한 n형 InP 성장완충층 위에, InGaAsP 장벽층과 InGaAsP 우물층이 교대로 적충 형성된 InGaAsP/InGaAsP 초격자구조의 제 1 광도파로층과, 상기한 제 1 광도파로층 위에 적층된 n형 또는 p형 InP층과, 상기한 n형 또는 p형 InP층 위에 적충되고 일정 주기를 갖도록 공간적으로 제한된 n형 또는 p형 InGaAsP 회절격자층과, 상기한 n형 또는 p형 InGaAsP 회절격자층 위에 적층된 n형 또는 p형 InP층과, 상기한 n형 또는 p형 InP층 위에 적층되고 공간적으로 제한된 p형 InGaAsP 제 2 광도파로층과, 상기한 InGaAsP 제 2 광도파로층 위에 적층된 p형 InP 클래드층과, 상기한 p형 InP 클래드층 위에 적층된 p형 InGaAs 오믹 접촉층으로 구성된 웨이퍼 상에, 상기한 제 광도파로 층보다 더 넓은 창폭을 갖도록 적충된 SiNx 또는 SiO2의 유전체층과, 상기한 유전체층 위에 적충된 p형 전극금속층과, 상기한 n형 InP 기판의 아래에 형성된 n형 전극금속층으로 이루어진 것을 특징으로 하는, 파장가변 반도체 광여과기

2 2

제 1 항에 있어서, 상기한 제 1 광도파로층은 0

3 3

제 1 항에 있어서, 상기한 InGaAsP/InGaAsP 초격자 구조의 제 1 광도파로층은 우물층의 유효 밴드갭이 1

4 4

제 1 항에 있어서, 상기한 InP 대신에 InAlAs를 사용하는 것을 특징으로 하는, 파장가변 반도체 광여과기

5 5

제 1 상에 있어서, 상기한 제 1 광도파로층으로는, InGaAsP/InGaAsP 초격자구조 대신에 InGaAlAs/InGaAlAs 초격자구조를 사용하는 것을 특징으로 하는, 파장가변 반도체 광여과기

6 6

제 1 항에 있어서, 상기한 제 2 광도파로층의 InGaAsP는 1

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.