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반도체를 이용한 광여과기에 있어서, n형 InP 기판과, 상기한 n형 InP 기판 위에 적층된 n형 InP 성장완충층과, 상기한 n형 InP 성장완충층 위에, InGaAsP 장벽층과 InGaAsP 우물층이 교대로 적충 형성된 InGaAsP/InGaAsP 초격자구조의 제 1 광도파로층과, 상기한 제 1 광도파로층 위에 적층된 n형 또는 p형 InP층과, 상기한 n형 또는 p형 InP층 위에 적충되고 일정 주기를 갖도록 공간적으로 제한된 n형 또는 p형 InGaAsP 회절격자층과, 상기한 n형 또는 p형 InGaAsP 회절격자층 위에 적층된 n형 또는 p형 InP층과, 상기한 n형 또는 p형 InP층 위에 적층되고 공간적으로 제한된 p형 InGaAsP 제 2 광도파로층과, 상기한 InGaAsP 제 2 광도파로층 위에 적층된 p형 InP 클래드층과, 상기한 p형 InP 클래드층 위에 적층된 p형 InGaAs 오믹 접촉층으로 구성된 웨이퍼 상에, 상기한 제 광도파로 층보다 더 넓은 창폭을 갖도록 적충된 SiNx 또는 SiO2의 유전체층과, 상기한 유전체층 위에 적충된 p형 전극금속층과, 상기한 n형 InP 기판의 아래에 형성된 n형 전극금속층으로 이루어진 것을 특징으로 하는, 파장가변 반도체 광여과기
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