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저온분사 코팅방법 및 이에 의해 제조되는 코팅층

  • 기술번호 : KST2015107494
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고순도의 기판 제조방법에 관한 것으로, 저온분사 공정에 의한 코팅방법에 있어서, 1~5vol.%의 수소를 함유하는 환원 가스를 5~70㎛의 분말과 함께 기판에 저온 분사하여 상기 기판에 코팅층을 형성하는 것을 특징으로 하는 저온분사 코팅방법을 제공하여, 저가의 고산소량 분말을 사용하더라도 낮은 산소량을 가지는 고순도, 고밀도의 금속 소재를 제조할 수 있어 향상된 소재 제조가 가능하다.
Int. CL C23C 24/00 (2006.01) C23C 4/06 (2006.01)
CPC C23C 24/00(2013.01) C23C 24/00(2013.01) C23C 24/00(2013.01) C23C 24/00(2013.01) C23C 24/00(2013.01) C23C 24/00(2013.01) C23C 24/00(2013.01) C23C 24/00(2013.01)
출원번호/일자 1020110116551 (2011.11.09)
출원인 재단법인 포항산업과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0051289 (2013.05.20) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.11.09)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김형준 대한민국 경상북도 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.11.09 수리 (Accepted) 1-1-2011-0885704-64
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.02.25 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.04.03 수리 (Accepted) 9-1-2013-0021839-10
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.04.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0264180-12
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-0019112-38
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2013-0547410-87
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.06.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0547429-43
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.08.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0580867-93
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.10.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0958232-85
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2013-0958230-94
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.11.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0824363-40
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.28 수리 (Accepted) 4-1-2016-5138263-79
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5211042-46
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
저온분사 공정에 의한 코팅방법에 있어서,1~5vol
2 2
제 1항에 있어서,상기 저온분사 공정시 상기 환원 가스 중 분말 송급 가스를 예열하는 것을 특징으로 하는 저온분사 코팅방법
3 3
제1항에 있어서,상기 코팅 소재는 Cu, Al, Ni, Ti, Au, Ag, Sn, Zn, Fe, Ta 중 하나의 단일금속 또는 NiCr, NiAl, CuGa, CuIn, 스틸(steel) 중 어느 하나의 합금인 것을 특징으로 하는 저온분사 코팅방법
4 4
제 1항에 있어서,상기 환원 가스는 H2, CO, CH4, C3H8, C4H10 중 어느 하나이거나, 상기 가스 중 어느 하나 이상과 Ar, N2, He, 공기(air) 중 어느 하나 이상을 혼합한 가스인 것을 특징으로 하는 저온분사 코팅방법
5 5
제 1항에 있어서,상기 저온분사 코팅시 기판과 분사 노즐과의 거리는 10~100 mm인 것을 특징으로 하는 저온분사 코팅방법
6 6
제 1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 의하여 제조되는 코팅층
7 7
제 1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 의해 금속 타겟을 보수하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.