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기판을 세척하는 단계;상기 세척된 기판을 진공 설비에 장착하고, 상기 진공 설비 내부를 진공시키는 단계;상기 기판을 청정시키는 단계;상기 기판에 빗각으로 빗각 코팅층을 형성하는 단계; 및 상기 빗각 코팅층 형성 후에 바이어스 전압을 인가하여 상기 기판과 수직으로 상기 빗각 코팅층 상에 수직 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 경질 코팅층 형성방법
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제1항에 있어서,상기 빗각 코팅층 및 수직 코팅층은 다층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 경질 코팅층 형성방법
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제1항에 있어서,상기 빗각 코팅층은 경사진 방향이 2회 이상 반대 방향으로 변하는 것을 특징으로 하는 경질 코팅층 형성방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 빗각 코팅층 및 수직 코팅층은 질화 티타늄으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 경질 코팅층 형성방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 기판은 알코올과 아세톤으로 초음파 세척되는 것을 특징으로 하는 경질 코팅층 형성방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 진공 설비 내부의 진공은 10-8 torr 이하로 하는 것을 특징으로 하는 경질 코팅층 형성방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 빗각 코팅층 및 수직 코팅층의 형성은 아르곤 가스를 상기 진공 설비에 주입하여 진공도가 2x10-2 torr 내지 2x10-4 torr 에 이를 때 수행되는 것을 특징으로 하는 경질 코팅층 형성방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 빗각의 크기는 10~80°인 것을 특징으로 하는 경질 코팅층 형성방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 전기장의 인가는 200V 이하의 범위에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 경질 코팅층 형성방법
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기판 상에 상기 기판에 경사진 방향으로 형성되는 빗각 코팅층 및 상기 빗각 코팅층 상에 상기 기판에 수직으로 형성되는 수직 코팅층이 형성되는 경질 코팅층
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제10항에 있어서,상기 빗각 코팅층 및 수직 코팅층은 다층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 경질 코팅층
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제10항 또는 제11항에 있어서,상기 빗각 코팅층은 경사진 방향이 2회 이상 반대 방향으로 변하는 것을 특징으로 하는 경질 코팅층
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제10항 또는 제11항에 있어서,상기 빗각 코팅층 및 수직 코팅층은 질화 티타늄으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 경질 코팅층
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