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하단 천공된 드래프트관을 갖는 내부순환유동층 가스화 반응기

  • 기술번호 : KST2015111340
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하단 천공된 드래프트관을 갖는 내부순환유동층 가스화 반응기에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 구멍이 하단에 형성된 드래프트관을 반응기체 주입분산판과 밀착설치하여 높은 발열량의 가스를 생성하며, 동시에 경사진 수증기 주입분산판을 반응기 하단에 설치하여 애뉼러스 부분의 고체입자 움직임을 원활케 하는 내부순환유동층 가스화 반응기에 관한 것이다. 본 발명의 가스화기를 사용하면, 유동층 입자의 순환특성을 유지하면서, 높은 발열량의 가스를 생성할 수 있다.
Int. CL B01J 8/00 (2006.01)
CPC B01J 8/1872(2013.01) B01J 8/1872(2013.01)
출원번호/일자 1019960061208 (1996.12.03)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0208654-0000 (1999.04.16)
공개번호/일자 10-1998-0043364 (1998.09.05) 문서열기
공고번호/일자 (19990715) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1996.12.03)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김상돈 대한민국 서울특별시 송파구
2 이종민 대한민국 서울특별시 관악구
3 김용전 대한민국 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이한영 대한민국 서울특별시 서초구 반포대로**길 ** (서초동, 아트스페이스 ***빌딩 *층)(리앤리국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination		 1996.12.03 수리 (Accepted) 1-1-1996-0204704-04
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1996.12.03 수리 (Accepted) 1-1-1996-0204703-58
3 특허출원서
Patent Application		 1996.12.03 수리 (Accepted) 1-1-1996-0204702-13
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
6 등록사정서
Decision to grant		 1999.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-1999-0026011-02
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
8 출원인코드정정신청서
Request for Correction of Applicant Code		 1999.02.05 수리 (Accepted) 1-1-1999-5052219-37
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.06.21 수리 (Accepted) 4-1-1999-0085486-82
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2004-0001933-29
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.03.19 수리 (Accepted) 4-1-2004-0012166-74
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

드래프트관, 수증기 주입분산판, 공기 또는 산소 주입분산판 및 생성기체 분리기인 후드를 구비한 내부순환유동층 가스화기에 있어서, 내부순환유등층의 반응기체 흐름특성을 향상시키기 위한 하단 천공된 드래프트관 및 고체입자의 원활한 움직임을 제공하기 위한 경사진 수증기 주입 분산판을 포함하는 내부순환유동층 가스화기

2 2

제1항에 있어서, 하단 천공된 드래프트관은 공기 또는 산소 주입분산판과 밀착 설치되는 것을 특징으로 하는 내부순환유동층 가스화기

3 3

제1항 또는 제2항에 있어서, 드래프트관에 천공된 구멍은 직경이 드래프트관 직경의 15 내지 40%에 해당하는 크기로서, 4개 내지 8개인 것을 특징으로 하는 내부순환유동층 가스화기

4 4

제1항에 있어서, 경사진 수증기 주입분산판은 가스화기 하단에 밑면에 대하여 45내지 60°경사지도록 설치되는 것을 특징으로 하는 내부순환유동층 가스화기

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.