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유기금속을 함유하고 있는 노르보넨 단량체, 이들의고분자 중합체를 함유하는 포토레지스트, 및 그제조방법과, 포토레지스트 패턴 형성방법

  • 기술번호 : KST2015111762
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 아래의 구조식 (I) 또는 (Ⅱ)로 표시되는 신규한 유기금속을 함유하는 노르보넨 단량체와, 이들의 고분자 중합체를 함유하는 포토레지스트, 및 그 제조방법과, 포토레지스트 패턴 형성방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 노르보넨 단량체를 이용하여 형성된 중합체는 기존의 포토레지스트의 매트릭스 고분자로 사용되는 것들과는 달리, 광산에 의해 화학증폭형으로 실리콘을 함유하고 있는 측쇄가 탈리되어 노광부와 비노광부의 실리콘 함량의 차이를 유도할 수 있다. 이러한 실리콘 함량의 차이에 의해 산소 플라즈마에 대한 에칭속도의 차이가 발생하고 이것에 의해 건식현상이 가능하다. 노르보넨, 건식현상, 화학증폭, 원자외선. 광산발생제
Int. CL G03F 7/004 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020000037060 (2000.06.30)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0398312-0000 (2003.09.02)
공개번호/일자 10-2002-0005063 (2002.01.17) 문서열기
공고번호/일자 (20030919) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.06.30)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김진백 대한민국 서울특별시강남구
2 이재준 대한민국 경상남도진주시
3 강재성 대한민국 대전광역시서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 허진석 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로***, **,**층(역삼동, 동희빌딩)(특허법인아주김장리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2000.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2000-0136084-17
2 신규성(출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Certificate of Novelty(Special Provisions for Application)
2000.07.07 수리 (Accepted) 1-1-2000-5206375-02
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2002.06.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2002.07.18 수리 (Accepted) 9-1-2002-0011857-73
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2002.10.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0392300-38
6 의견서
Written Opinion
2002.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2002-0415017-59
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2002.12.13 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2002-0415019-40
8 등록결정서
Decision to grant
2003.07.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0266217-14
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2004-0001933-29
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.03.19 수리 (Accepted) 4-1-2004-0012166-74
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

아래의 구조식(Ⅰ)로 표시되는 포토레지스트용 노르보넨 단량체,

2

아래의 구조식(Ⅱ)로 표시되는 포토레지스트용 노르보넨 단량체,


3

아래의 구조식 (XII) 또는 (XIII)로 표시되는 알코올과 2-클로로카르보닐-5-노르보넨 유도체를 반응시켜 청구항 1의 구조식 (Ⅰ) 또는 청구항 2의 구조식 (Ⅱ)로 표시되는 노르보넨 단량체를 제조하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트용 노르보넨 단량체 제조방법,


4

아래의 구조식 (Ⅲ)으로 표시되는 중합체와 광산발생제를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토레지스트,




5

아래의 구조식 (Ⅳ)으로 표시되는 중합체와 광산발생제를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토레지스트,

6

아래의 구조식 (Ⅴ)으로 표시되는 중합체와 광산발생제를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토레지스트,

7

아래의 구조식 (Ⅵ)으로 표시되는 중합체와 광산발생제를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 포토레지스트,

8

청구항 1의 구조식 (Ⅰ) 또는 청구항 2의 구조식 (Ⅱ)로 표시되는 노르보넨 단량체를 단독 중합하거나, 말레산 무수물과 공중합하거나, 또는 말레산무수물과 함께 실리콘을 함유하는 아크릴레이트나 메타아크릴레이트 단량체를 혼합하여 중합시킴으로써 중합체를 제조하는 단계; 및

상기 중합체와 광산발생제를 용매에 용해시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 제조방법

9 9

제4 항 내지 제7 항 중의 어느 한 항에 의한 포토레지스트에 대한 패턴형성방법에 있어서,

상기 포토레지스트를 기판 상에 도포하여 포토레지스트막을 형성하는 단계;

노광 마스크를 통하여 상기 포토레지스트막을 노광시키는 단계;

상기 노광된 결과물을 열처리하는 단계; 및

산소 플라즈마를 이용하는 반응성 이온 에칭 방법으로 상기 포토레지스트막 중에서 노광된 부위만을 선택적으로 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트패턴 형성방법

10 10

제9 항에 있어서, 상기 열처리하는 단계가 90∼140℃ 에서 행해지는 것을 특징으로 하는 포토레지스트패턴 형성방법

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1 US06607867 US 미국 FAMILY

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1 US6607867 US 미국 DOCDBFAMILY
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