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고종횡비 미세 구조물 및 그 제조방법과 고종횡비 미세구조물 어레이 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015113105
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 의한 고종횡비 미세 구조물의 제조방법은, 투명 기판의 표면에 패턴 홈을 갖는 포토 마스크를 부착하는 포토 마스크 부착단계와, 포토 마스크의 표면에 네가티브 포토레지스트를 부착하는 포토레지스트 부착단계와, 투명 기판의 포토 마스크가 부착된 부분의 반대쪽에서 빛을 조사하여 패턴 홈을 통해 네가티브 포토레지스트로 조사되는 빛으로 네가티브 포토레지스트의 일부를 경화시키는 노광 단계와, 네가티브 포토레지스트의 노광되지 않은 부분을 제거하여 네가티브 포토레지스트가 경화되어 이루어진 미세 구조물을 드러내는 현상 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 포토리소그라피 공정을 이용하여 미세 구조물을 저렴하고 간편하게 제조할 수 있다.
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B82B 3/00 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020080062547 (2008.06.30)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1016007-0000 (2011.02.11)
공개번호/일자 10-2010-0002597 (2010.01.07) 문서열기
공고번호/일자 (20110223) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.06.30)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이승섭 대한민국 대전 유성구
2 이석우 대한민국 충남 공주시 유구
3 이정아 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다인 대한민국 경기도 화성시 동탄기흥로*** 더퍼스트타워쓰리제**층 제****호, 제****-*호

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2008-0470033-21
2 [공지예외적용대상(신규성, 출원시의 특례)증명서류]서류제출서
[Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)] Submission of Document		 2008.07.11 수리 (Accepted) 1-1-2008-0500829-06
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.07.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0299601-37
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.09.09 수리 (Accepted) 1-1-2010-0585876-15
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.09.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0585875-69
6 등록결정서
Decision to grant		 2011.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0058635-83
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
투명 기판의 표면에 패턴 홈을 갖는 포토 마스크를 부착하는 포토 마스크 부착단계와; 상기 포토 마스크의 표면에 네가티브 포토레지스트를 부착하는 포토레지스트 부착단계와; 상기 투명 기판의 상기 포토 마스크가 부착된 부분의 반대쪽에서 빛을 조사하여 상기 패턴 홈을 통해 상기 네가티브 포토레지스트로 조사되는 빛으로 상기 네가티브 포토레지스트의 일부를 경화시키는 노광 단계와; 상기 네가티브 포토레지스트의 노광되지 않은 부분을 제거하여 상기 네가티브 포토레지스트가 경화되어 이루어진 미세 구조물을 드러내는 현상 단계와; 상기 미세 구조물을 가열하여 탄화시킴으로써 그 폭을 축소시키는 열분해 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 노광 단계에서 상기 미세 구조물의 형상을 한정하기 위해 상기 네가티브 포토레지스트에 입사되는 빛의 축적 에너지량을 조절하는 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물의 제조방법
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트에 입사되는 빛의 축적 에너지량 조절하기 위해 상기 네가티브 포토레지스트로 조사하는 빛의 세기를 조절하는 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물의 제조방법
4 4
제 2 항에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트에 입사되는 빛의 축적 에너지량을 조절하기 위해 상기 네가티브 포토레지스트로 조사하는 빛의 조사 시간을 조절하는 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물의 제조방법
5 5
삭제
6 6
제 2 항에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트는 SU-8이고, 상기 SU-8에 빛을 조사하기 전에 다음의 식 1, 식 2, 식 3을 통해 노광에 의해 상기 SU-8가 경화되는 부분의 형상을 산출하는 수치해석 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물의 제조방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 열분해 단계에서 상기 미세 구조물을 가마의 내부에 넣고, 상기 가마에 열을 가하면서 상기 가마의 내부에 질소가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물의 제조방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 열분해 단계에서 상기 가마 내부의 온도를 제 1 온도로 제 1 시간 동안 유지시켜 상기 미세 구조물로부터 휘발성 화학물을 증발시키고, 상기 가마 내부의 온도를 제 1 온도보다 높은 제 2 온도로 제 2 시간 동안 유지시켜 상기 미세 구조물을 탄화시키는 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물의 제조방법
9 9
제 8 항에 있어서, 상기 제 1 온도는 300℃, 상기 제 1 시간은 3시간, 상기 제 2 온도는 700℃, 상기 제 2 시간은 30분인 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물의 제조방법
10 10
제 1 항에 있어서, 상기 포토 마스크는 크롬 필름인 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물의 제조방법
11 11
제 1 항에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트는 SU-8인 것을 특징으롤 하는 고종횡비 미세 구조물의 제조방법
12 12
투명 기판의 일측 표면에 패턴 홈을 갖는 포토 마스크를 부착하는 포토 마스크 부착단계와; 상기 포토 마스크가 부착된 면과 반대쪽인 상기 투명 기판의 타측 표면에 네가티브 포토레지스트를 부착하는 포토레지스트 부착단계와; 상기 패턴 홈을 통해 상기 네가티브 포토레지스트로 빛을 조사하여 상기 네가티브 포토레지스트의 일부를 경화시키는 노광 단계와; 상기 네가티브 포토레지스트의 노광되지 않은 부분을 제거하여 상기 네가티브 포토레지스트가 경화되어 이루어진 미세 구조물을 드러내는 현상 단계와; 상기 미세 구조물을 가열하여 탄화시킴으로써 그 폭을 축소시키는 열분해 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물의 제조방법
13 13
제 12 항에 있어서, 상기 노광 단계에서 상기 미세 구조물의 형상을 한정하기 위해 상기 네가티브 포토레지스트에 입사되는 빛의 축적 에너지량을 조절하는 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물의 제조방법
14 14
삭제
15 15
제 1 항 내지 제 4 항, 제 6 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 의한 제조방법으로 제조되는 고종횡비 미세 구조물
16 16
투명 기판의 표면에 일정한 간격으로 배치된 복수의 패턴 홈을 갖는 포토 마스크를 부착하는 포토 마스크 부착단계와; 상기 포토 마스크의 표면에 네가티브 포토레지스트를 부착하는 포토레지스트 부착단계와; 상기 투명 기판의 상기 포토 마스크가 부착된 부분의 반대쪽에서 빛을 조사하여 상기 복수의 패턴 홈을 통해 상기 네가티브 포토레지스트로 조사되는 빛으로 상기 네가티브 포토레지스트의 일부를 경화시키는 노광 단계와; 상기 네가티브 포토레지스트의 노광되지 않은 부분을 제거하여 상기 네가티브 포토레지스트가 경화되어 이루어진 복수의 미세 구조물을 드러내는 현상 단계와; 상기 복수의 미세 구조물을 가열하여 탄화시키는 열분해 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물 어레이의 제조방법
17 17
제 16 항에 있어서, 상기 노광 단계에서 상기 미세 구조물의 형상을 한정하기 위해 상기 네가티브 포토레지스트에 입사되는 빛의 축적 에너지량을 조절하는 것을 특징으로 하는 고종횡비 미세 구조물 어레이의 제조방법
18 18
삭제
19 19
제16항 내지 제17항 중 어느 한 항에 의한 제조방법으로 제조된 고종횡비 미세 구조물 어레이
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1 WO2010002045 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 WO2010002045 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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